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公开(公告)号:CN114944452B
公开(公告)日:2025-05-13
申请号:CN202210158712.0
申请日:2022-02-21
Applicant: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
Abstract: 本发明涉及一种阈值选通材料、阈值选通器件单元及其制备方法,所述阈值选通材料的化学通式为(InxTey)aM1‑a,其中0.1≤x/y≤1,0<x<100,0<y<100,x+y=100,0<a≤0.2,M为包括至少一种第六主族元素的阈值开关材料。本发明的阈值选通器件单元具有漏电流低、阈值电压低、选通比大、开启速度快等优点,而且器件的寿命及可靠性都得到了提高。
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公开(公告)号:CN111463346A
公开(公告)日:2020-07-28
申请号:CN202010225621.5
申请日:2020-03-26
Applicant: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
IPC: H01L45/00
Abstract: 本发明涉及微纳电子技术领域,特别涉及一种OTS选通材料、OTS选通单元及其制备方法和存储器,所述OTS选通材料包括GeSe组分、As3Se4组分及掺杂元素(M),所述OTS选通材料的化学通式为(GeSe)x(As3Se4)yMz,其中M为Ta、Si、Ge、Te、C、W、N、O、P中的一种或多种,x、y、z满足4
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公开(公告)号:CN111463346B
公开(公告)日:2023-03-21
申请号:CN202010225621.5
申请日:2020-03-26
Applicant: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
IPC: H10N70/20
Abstract: 本发明涉及微纳电子技术领域,特别涉及一种OTS选通材料、OTS选通单元及其制备方法和存储器,所述OTS选通材料包括GeSe组分、As3Se4组分及掺杂元素(M),所述OTS选通材料的化学通式为(GeSe)x(As3Se4)yMz,其中M为Ta、Si、Ge、Te、C、W、N、O、P中的一种或多种,x、y、z满足4
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公开(公告)号:CN114944452A
公开(公告)日:2022-08-26
申请号:CN202210158712.0
申请日:2022-02-21
Applicant: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
IPC: H01L45/00
Abstract: 本发明涉及一种阈值选通材料、阈值选通器件单元及其制备方法,所述阈值选通材料的化学通式为(InxTey)aM1‑a,其中0.1≤x/y≤1,0<x<100,0<y<100,x+y=100,0<a≤0.2,M为包括至少一种第六主族元素的阈值开关材料。本发明的阈值选通器件单元具有漏电流低、阈值电压低、选通比大、开启速度快等优点,而且器件的寿命及可靠性都得到了提高。
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