基于带状吸气剂的混合晶圆级真空封装方法及结构

    公开(公告)号:CN104022046A

    公开(公告)日:2014-09-03

    申请号:CN201410264998.6

    申请日:2014-06-13

    Abstract: 本发明提供一种基于带状吸气剂的混合晶圆级真空封装方法及结构,包括步骤:a)提供一垫片、一衬底片及一盖片,于所述垫片中形成芯片封装腔及吸气剂腔,并形成通气孔;b)键合所述垫片及所述衬底片形成封装腔体;c)提供一待封装芯片,将所述芯片通过键合结构键合于所述衬底片;d)提供吸气剂,并固定于所述吸气剂腔中;e)激活吸气剂并键合所述盖片及所述垫片。本发明基于MEMS技术制作封装腔体,将待封装芯片置于芯片封装腔内完成真空封装,有利于保护待封装芯片上脆弱的微结构,且具有了圆片级封装的效率;设计了专门放置带状吸气剂的吸气剂腔,与吸气剂薄膜等相比较,成本较低;只对已通过测试的芯片进行真空封装,降低了封装成本。

    基于带状吸气剂的混合晶圆级真空封装方法及结构

    公开(公告)号:CN104022046B

    公开(公告)日:2017-07-11

    申请号:CN201410264998.6

    申请日:2014-06-13

    CPC classification number: H01L2224/16225

    Abstract: 本发明提供一种基于带状吸气剂的混合晶圆级真空封装方法及结构,包括步骤:a)提供一垫片、一衬底片及一盖片,于所述垫片中形成芯片封装腔及吸气剂腔,并形成通气孔;b)键合所述垫片及所述衬底片形成封装腔体;c)提供一待封装芯片,将所述芯片通过键合结构键合于所述衬底片;d)提供吸气剂,并固定于所述吸气剂腔中;e)激活吸气剂并键合所述盖片及所述垫片。本发明基于MEMS技术制作封装腔体,将待封装芯片置于芯片封装腔内完成真空封装,有利于保护待封装芯片上脆弱的微结构,且具有了圆片级封装的效率;设计了专门放置带状吸气剂的吸气剂腔,与吸气剂薄膜等相比较,成本较低;只对已通过测试的芯片进行真空封装,降低了封装成本。

    混合晶圆级真空封装方法及结构

    公开(公告)号:CN105304505A

    公开(公告)日:2016-02-03

    申请号:CN201410270430.5

    申请日:2014-06-17

    Abstract: 本发明提供一种混合晶圆级真空封装方法及结构,包括步骤:a)提供一衬底片,于所述衬底片中形成芯片封装腔;b)于所述衬底片的芯片封装腔中制作吸气剂薄膜;c)提供一包括基底及器件区域的已通过测试的待封装芯片;d)提供一真空设备,将所述待封装芯片及芯片封装腔对准后,进行抽真空、激活吸气剂及加热加压,通过键合结构键合所述衬底片及所述待封装芯片。本发明只对已通过测试的待封装芯片进行真空封装,降低了封装成本;直接在如红外滤波片的衬底片上制作芯片封装腔,将如红外探测器芯片等待封装芯片置于芯片封装腔上完成真空封装,提高了封装效率,减少了封装体积。

    混合晶圆级真空封装方法及结构

    公开(公告)号:CN105304505B

    公开(公告)日:2018-07-06

    申请号:CN201410270430.5

    申请日:2014-06-17

    Abstract: 本发明提供一种混合晶圆级真空封装方法及结构,包括步骤:a)提供一衬底片,于所述衬底片中形成芯片封装腔;b)于所述衬底片的芯片封装腔中制作吸气剂薄膜;c)提供一包括基底及器件区域的已通过测试的待封装芯片;d)提供一真空设备,将所述待封装芯片及芯片封装腔对准后,进行抽真空、激活吸气剂及加热加压,通过键合结构键合所述衬底片及所述待封装芯片。本发明只对已通过测试的待封装芯片进行真空封装,降低了封装成本;直接在如红外滤波片的衬底片上制作芯片封装腔,将如红外探测器芯片等待封装芯片置于芯片封装腔上完成真空封装,提高了封装效率,减少了封装体积。

    基于吸气剂薄膜的混合晶圆级真空封装方法及结构

    公开(公告)号:CN104003352A

    公开(公告)日:2014-08-27

    申请号:CN201410264566.5

    申请日:2014-06-13

    Abstract: 本发明提供一种基于吸气剂薄膜的混合晶圆级真空封装方法及结构,该方法包括步骤:a)提供一垫片、一衬底片及一盖片,于所述垫片中形成芯片封装腔;b)键合所述垫片及所述衬底片;c)将待封装芯片通过键合结构键合于所述衬底片;d)提供吸气剂,并将所述吸气剂固定于朝向所述芯片封装腔的盖片表面;e)键合所述盖片及所述垫片并激活吸气剂。本发明基于MEMS技术制作封装腔体,将非致冷红外探测器芯片置于芯片封装腔内完成真空封装,有利于保护非致冷红外探测器芯片上脆弱的微结构,且具有了圆片级封装的效率;采用吸气剂薄膜维持腔体的真空度,可降低真空封装的体积;只对已通过测试的非致冷红外探测器芯片进行真空封装,降低了封装成本。

    基于吸气剂薄膜的混合晶圆级真空封装方法及结构

    公开(公告)号:CN104003352B

    公开(公告)日:2018-07-06

    申请号:CN201410264566.5

    申请日:2014-06-13

    Abstract: 本发明提供一种基于吸气剂薄膜的混合晶圆级真空封装方法及结构,该方法包括步骤:a)提供一垫片、一衬底片及一盖片,于所述垫片中形成芯片封装腔;b)键合所述垫片及所述衬底片;c)将待封装芯片通过键合结构键合于所述衬底片;d)提供吸气剂,并将所述吸气剂固定于朝向所述芯片封装腔的盖片表面;e)键合所述盖片及所述垫片并激活吸气剂。本发明基于MEMS技术制作封装腔体,将非致冷红外探测器芯片置于芯片封装腔内完成真空封装,有利于保护非致冷红外探测器芯片上脆弱的微结构,且具有了圆片级封装的效率;采用吸气剂薄膜维持腔体的真空度,可降低真空封装的体积;只对已通过测试的非致冷红外探测器芯片进行真空封装,降低了封装成本。

Patent Agency Ranking