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公开(公告)号：CN104178730A
公开(公告)日：2014-12-03
申请号：CN201410406410.6
申请日：2014-08-18
Applicant: 中国科学院上海应用物理研究所
IPC: C23C14/08 , C23C14/35 , H01L21/329
Abstract: 本发明提供一种p型SnO薄膜的制备方法，以SnO陶瓷靶为靶材，采用射频磁控溅射在石英衬底上原位沉积形成p型SnO薄膜，其中，衬底温度为150-300℃，溅射功率为50-150W，工作气体为Ar气，气压为0.5-2.0Pa，气体流量为50-100sccm，相比现有先室温沉积再退火的技术，本制备方法简单易行，适合大规模生产，通过优化衬底温度、溅射功率、气压等工艺参数，大大减少了薄膜内部缺陷，提高了空穴迁移率，大幅提高了p型SnO薄膜的结晶质量和电导率，再以SnO2:Sb陶瓷靶为靶材，通过射频磁控溅射在该p型SnO薄膜上原位沉积形成n型SnO2:Sb薄膜以形成p-n结二极管，可有效提高p-n结二极管的稳定性和光电性能，由此制得的p-n结二极管具有阈值电压高、漏电流低、制备简单、成本低等特点，可用作透明电子器件的基本元件。
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公开(公告)号：CN104458780B
公开(公告)日：2017-10-31
申请号：CN201410748771.9
申请日：2014-12-09
Applicant: 中国科学院上海应用物理研究所
IPC: G01N23/20 , G01N23/201
Abstract: 本发明提供一种原位测试样品平台，包括：样品台；样品台底座，其安装在所述样品台的下表面；用于承载样品的陶瓷加热片，其内部设有电热丝和热电偶；加热片支撑架，其支撑所述陶瓷加热片以使其悬空设置在所述样品台上方；温度控制系统，其连接至所述电热丝和所述热电偶，以实时控制所述陶瓷加热片的温度；以及循环水冷系统，其固定连接至所述样品台的下表面，以对所述样品台进行冷却。本发明能够以在线的方式对样品的升温、高温热处理和降温过程进行原位测试，并且由于温度控制系统和循环水冷系统互不影响，能够在保证循环水冷系统正常工作的条件下，使样品台温度不至于太高，并且不影响陶瓷加热片正常高温工作。
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公开(公告)号：CN104502367A
公开(公告)日：2015-04-08
申请号：CN201410748503.7
申请日：2014-12-09
Applicant: 中国科学院上海应用物理研究所
IPC: G01N23/00
Abstract: 本发明提供一种可进行热化学气相沉积的原位测试平台，包括：高温热台反应腔体，其包括热台底座以及真空外罩，该真空外罩包括框架主体以及紧密安装在该框架主体上的入射窗片和出射窗片；陶瓷加热台，安装在热台底座上以承载一样品；温度控制系统，用以实时调节陶瓷加热台的温度；真空系统，用以对高温热台反应腔体内抽真空；反应气体混气系统，用以为高温热台反应腔体内提供热化学气相沉积所需的气源；以及真空测量系统，用以实时监测高温热台反应腔体内的气体压强。本发明可以透过x射线，又可在线调节温度、气压、气流等反应条件，从而能够以在线的方式对热化学气相沉积过程中材料的生长、物相变化等过程进行实时原位的表征与研究。
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公开(公告)号：CN104458780A
公开(公告)日：2015-03-25
申请号：CN201410748771.9
申请日：2014-12-09
Applicant: 中国科学院上海应用物理研究所
IPC: G01N23/20 , G01N23/201
Abstract: 本发明提供一种原位测试样品平台，包括：样品台；样品台底座，其安装在所述样品台的下表面；用于承载样品的陶瓷加热片，其内部设有电热丝和热电偶；加热片支撑架，其支撑所述陶瓷加热片以使其悬空设置在所述样品台上方；温度控制系统，其连接至所述电热丝和所述热电偶，以实时控制所述陶瓷加热片的温度；以及循环水冷系统，其固定连接至所述样品台的下表面，以对所述样品台进行冷却。本发明能够以在线的方式对样品的升温、高温热处理和降温过程进行原位测试，并且由于温度控制系统和循环水冷系统互不影响，能够在保证循环水冷系统正常工作的条件下，使样品台温度不至于太高，并且不影响陶瓷加热片正常高温工作。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN202471623U
公开(公告)日：2012-10-03
申请号：CN201120559975.X
申请日：2011-12-28
Applicant: 中国科学院上海应用物理研究所
Abstract: 本实用新型公开了一种外加电场测试台架及薄膜测试平台，包括一底座，所述底座设置在一旋转轴上方，底座上方中央设置一样品台；一对“T”形支架，设置在所述底座两端的端面上；一对能够在多个维度上进行位置调节的探针台，分别设置在所述“T”形支架上；一对探针夹具，包括探针插口，分别设置在所述探针台上；以及一对与所述探针夹具绝缘的金属探针，通过所述探针插口固定设置在所述探针夹具上。本实用新型结构合理，操作方便，可以在进行衍射研究的同时对样品进行转动调整，大大提高了薄膜材料的基础物质属性研究实验效率。
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公开(公告)号：CN202330313U
公开(公告)日：2012-07-11
申请号：CN201120471638.5
申请日：2011-11-23
Applicant: 中国科学院上海应用物理研究所
IPC: G01N23/20
Abstract: 本实用新型公开了一种冷却式薄膜X射线衍射仪样品台，其包括：一本体；一位于该本体上方、用于对该本体进行加热的冷却机构；一设于该本体上、用于对该冷却机构的散热面进行冷却的循环冷却机构；一与该本体连接的温度传感器。本实用新型的冷却式薄膜X射线衍射仪样品台可以直接安装在X射线衍射设备的样品圆上，并且可以随着样品圆一起转动，满足做常规衍射实验方式的要求。另外，本体中安装有循环冷却机构，从而达到进行长时间的低温原位实验。
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公开(公告)号：CN206074486U
公开(公告)日：2017-04-05
申请号：CN201621060031.7
申请日：2016-09-18
Applicant: 中国科学院上海应用物理研究所
Abstract: 本实用新型提供一种薄膜X射线衍射原位测试装置，包括一冷热台腔体和与其相连的一温度控制机构及一冷却机构，所述冷热台腔体包括可拆卸连接的一样品台底座和一压盖，所述压盖与所述样品台底座配合形成一内腔；还包括：一湿度控制机构，所述湿度控制机构连接所述冷热台腔体。本实用新型的一种薄膜X射线衍射原位测试装置可对反应腔体进行高低温控制、湿度控制并可实现原位的电学测试功能，具有调节自由度大、调节精度高、操作便捷、安全度高和成本低的优点。
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公开(公告)号：CN205991950U
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：CN201620780020.X
申请日：2016-07-22
Applicant: 中国科学院上海应用物理研究所
IPC: G01N23/20
Abstract: 本实用新型涉及一种原位X射线衍射测试样品平台，其包括：热台底板；陶瓷加热片；罩在所述热台底板的正面上方、并与该热台底板围成用于容纳所述陶瓷加热片的密封空间的外罩；多个支撑在所述热台底板的背面的撑脚；通过一基板支撑在所述撑脚下方的平台底座；与所述电热丝和热电偶连接的温度控制装置；以及与所述热台底板以及外罩连接以对该热台底板和外罩进行冷却的循环水冷装置。本实用新型可置于X射线衍射仪内并能在高真空、高温环境下实现待测样品的升温和降温控制，并且由于温度控制装置和循环水冷装置互不影响，能够在保证循环水冷装置正常工作的条件下，使样品平台温度不至于太高，并且不影响陶瓷加热片正常高温工作。
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公开(公告)号：CN202330314U
公开(公告)日：2012-07-11
申请号：CN201120472297.3
申请日：2011-11-23
Applicant: 中国科学院上海应用物理研究所
IPC: G01N23/207
Abstract: 本实用新型公开了一种加热式薄膜X射线衍射仪样品台及X射线衍射仪。该加热式薄膜X射线衍射仪样平台其包括：一本体；一设于该本体上、用于对该本体进行冷却的循环冷却机构；一位于该本体上方、用于对该本体进行加热的加热机构；一与该本体连接的温度传感器。本实用新型的加热式薄膜X射线衍射仪样品台可以直接安装在X射线衍射设备的样品圆上，并且可以随着样品圆一起转动，满足做常规衍射实验方式的要求。另外，本体中安装有循环冷却机构，从而达到进行长时间的高温原位实验。
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