公开(公告)号：CN118719695A

公开(公告)日：2024-10-01

申请号：CN202411024146.X

申请日：2024-07-29

Applicant: 中国电子科技集团公司第十三研究所

Inventor： 张泽丰 ,  徐达 ,  袁彪 ,  魏少伟 ,  刘凡 ,  乔家辉 ,  许景通 ,  戈江娜 ,  徐楷轩 ,  马紫成 ,  李素娜 ,  王凯 ,  石亚娜 ,  张学仁 ,  王二超 ,  霍现荣 ,  左国森

IPC: B08B3/12 ,  B08B3/10 ,  B08B3/08 ,  B08B3/02 ,  B08B13/00

Abstract: 本发明提供了一种汽相清洗装置及汽相清洗方法，属于微电子技术领域，包括清洗槽以及鼓泡装置，鼓泡装置设置于清洗槽内；鼓泡装置包括鼓泡管、连接于鼓泡管的输入管以及支撑于鼓泡管的支脚；鼓泡管上设置有向下开口的气孔；输入管伸出清洗槽，鼓泡管通过支脚支撑在清洗槽的槽底上。所述汽相清洗方法包括：将需要清洗的三维叠层结构放入烷烃溶剂中浸泡，进行预处理，有利于鼓泡清洗将助焊剂去除；将经浸泡的三维叠层结构取出，放入提篮传送到清洗槽，经输入管输入氮气开启鼓泡，进行鼓泡清洗。本发明能够将三维叠层结构中的助焊剂清洗干净。