一种RIG薄膜连续制备装置
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118773725A

    公开(公告)日:2024-10-15

    申请号:CN202410809866.0

    申请日:2024-06-21

    IPC分类号: C30B15/14 C30B33/02

    摘要: 本发明公开了一种RIG薄膜连续制备装置,包括炉体,炉体内设置有外延区温场以及位于外延区温场顶部且连通的预热区温场,预热区温场顶部开设有通道,外延区温场内设置有坩埚,炉体顶部设置有能够循环移动的多个籽晶生长提拉装置,预热区温场的一侧还设置有与其连通的退火区温场,退火区温场为延伸设置的直线或曲线温场,其内部有设置有多个温度逐渐递减的退火温区,退火区温场的末端顶部开设有通道,炉体对应预热区温场通道和退火区温场通道的位置分别开设有炉口,退火区温场顶部开设有延伸至预热区温场的下移动通道,炉体顶部且位于下移动通道上方的位置开设有上移动通道,多个籽晶生长提拉装置能够依次循环操作RIC晶体的生长以及退火。

    一种免水型恒湿机
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN109445477B

    公开(公告)日:2021-02-02

    申请号:CN201811250380.9

    申请日:2018-10-25

    IPC分类号: G05D22/02

    摘要: 本发明公开了一种免水型恒湿机,包括机箱,在机箱内设有控制单元,在机箱外表面设有显示屏;在机箱外设有湿度传感器,湿度传感器和显示屏接控制单元;在机箱内固定有筒状的内置腔体,内置腔体两端敞口,在内置腔体中设有吸附材料和风机,吸附材料两端设有滤网以将吸附材料限制在两滤网形成的区域内并与风机隔离,在吸附材料中包埋有电加热材料;在机箱上与内置腔体两端部对应位置设有开孔;在内置腔体两端设有进风管接头和出风管接头,进风管接头和出风管接头通过机箱上的开孔穿出机箱通过气管与调控环境连接;控制单元输出接电加热材料和风机。本发明提供了一种既能满足加湿、除湿要求,又能加湿过程中免补水、除湿过程中免排水的恒湿机。

    一种免水加湿除湿方法
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN109445478B

    公开(公告)日:2021-02-02

    申请号:CN201811250395.5

    申请日:2018-10-25

    IPC分类号: G05D22/02

    摘要: 本发明公开了一种免水加湿除湿方法,使调控环境的气氛与风道封闭连接并循环流动起来,在风道中设有对水汽具有良好吸附作用的吸附材料,利用吸附材料对调控环境气氛中水分的吸附实现对调控环境的除湿;对吸附材料加热,使吸附材料中吸附的水分蒸发出来并流动到调控环境中实现对调控环境的加湿。本发明提供了一种既能满足加湿、除湿要求,又能在加湿过程中免补水、除湿过程中免排水的方法。

    一种光纤晶体生长用辅助机构、光纤晶体生长系统及方法

    公开(公告)号:CN117512770A

    公开(公告)日:2024-02-06

    申请号:CN202311480681.1

    申请日:2023-11-08

    IPC分类号: C30B15/34 C30B15/26

    摘要: 本发明公开了一种光纤晶体生长用辅助机构、光纤晶体生长系统及方法,该辅助机构包括激光发光管和光通量收集器,所述激光发光管和光通量收集器位于待生长光纤晶体相对的两侧,所述激光发光管用于发射激光;所述光通量收集器用于接收光通量;光通量收集器和待生长光纤晶体之间设有窄缝板,所述窄缝板侧立设置,且窄缝板中心设有矩形缝隙,便于调节光通量大小,激光发光管、窄缝板和光通量收集器的中轴线位于同一直线。本发明能有效提高光纤晶体的等径度,提高光纤晶体生长质量,降低工作人员的工作强度。

    温度梯度动态可调节的人工晶体生长温场结构及温场调节方法

    公开(公告)号:CN115261975B

    公开(公告)日:2024-04-05

    申请号:CN202210962186.3

    申请日:2022-08-11

    摘要: 本发明公开了一种温度梯度动态可调节的人工晶体生长温场结构及温场调节方法,包括炉体和位于炉体内的坩埚,在炉体内位于坩埚所在位置周围设有加热线圈,在加热线圈和坩埚之间设有温度调节机构,温度调节机构包括屏蔽环、调节杆和驱动装置,屏蔽环安装在调节杆上端并围绕坩埚周围设置,驱动装置位于炉体外并与调节杆下端连接以通过调节杆驱动屏蔽环上下运动;通过改变屏蔽环所处不同高度以选择性地遮挡坩埚从而屏蔽加热线圈的电涡流对坩埚的作用,以在坩埚被遮挡区域形成相对低温区。本发明能够实现晶体生长过程中晶体生长区域位置温度梯度全域动态可调,具有大幅度、平稳调节的功能。

    温度梯度动态可调节的人工晶体生长温场结构及温场调节方法

    公开(公告)号:CN115261975A

    公开(公告)日:2022-11-01

    申请号:CN202210962186.3

    申请日:2022-08-11

    摘要: 本发明公开了一种温度梯度动态可调节的人工晶体生长温场结构及温场调节方法,包括炉体和位于炉体内的坩埚,在炉体内位于坩埚所在位置周围设有加热线圈,在加热线圈和坩埚之间设有温度调节机构,温度调节机构包括屏蔽环、调节杆和驱动装置,屏蔽环安装在调节杆上端并围绕坩埚周围设置,驱动装置位于炉体外并与调节杆下端连接以通过调节杆驱动屏蔽环上下运动;通过改变屏蔽环所处不同高度以选择性地遮挡坩埚从而屏蔽加热线圈的电涡流对坩埚的作用,以在坩埚被遮挡区域形成相对低温区。本发明能够实现晶体生长过程中晶体生长区域位置温度梯度全域动态可调,具有大幅度、平稳调节的功能。

    一种免水加湿除湿方法
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109445478A

    公开(公告)日:2019-03-08

    申请号:CN201811250395.5

    申请日:2018-10-25

    IPC分类号: G05D22/02

    摘要: 本发明公开了一种免水加湿除湿方法,使调控环境的气氛与风道封闭连接并循环流动起来,在风道中设有对水汽具有良好吸附作用的吸附材料,利用吸附材料对调控环境气氛中水分的吸附实现对调控环境的除湿;对吸附材料加热,使吸附材料中吸附的水分蒸发出来并流动到调控环境中实现对调控环境的加湿。本发明提供了一种既能满足加湿、除湿要求,又能在加湿过程中免补水、除湿过程中免排水的方法。

    一种免水型恒湿机
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109445477A

    公开(公告)日:2019-03-08

    申请号:CN201811250380.9

    申请日:2018-10-25

    IPC分类号: G05D22/02

    摘要: 本发明公开了一种免水型恒湿机,包括机箱,在机箱内设有控制单元,在机箱外表面设有显示屏;在机箱外设有湿度传感器,湿度传感器和显示屏接控制单元;在机箱内固定有筒状的内置腔体,内置腔体两端敞口,在内置腔体中设有吸附材料和风机,吸附材料两端设有滤网以将吸附材料限制在两滤网形成的区域内并与风机隔离,在吸附材料中包埋有电加热材料;在机箱上与内置腔体两端部对应位置设有开孔;在内置腔体两端设有进风管接头和出风管接头,进风管接头和出风管接头通过机箱上的开孔穿出机箱通过气管与调控环境连接;控制单元输出接电加热材料和风机。本发明提供了一种既能满足加湿、除湿要求,又能加湿过程中免补水、除湿过程中免排水的恒湿机。