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公开(公告)号：CN104868346A
公开(公告)日：2015-08-26
申请号：CN201510291833.2
申请日：2015-05-29
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种成像装置及超短脉冲序列生成方法，包括：所述光子晶体光纤接收所述激光器发出的超短激光脉冲，将输入的超短激光脉冲的频谱展宽；所述脉冲压缩器将所述超连续谱发生器输出的经频谱展宽后的超短激光脉冲脉宽压缩；所述脉冲展宽器将所述脉冲压缩器输出的经脉宽压缩的超短激光脉冲进行啁啾展宽；所述脉冲整形器对所述脉冲展宽器输出的经啁啾展宽后的超短激光脉冲依次进行空间色散和频谱整形，再将经频谱整形后的超短激光脉冲反演至时间啁啾脉冲，生成啁啾超短脉冲序列。本发明在于提供一种成像装置及超短脉冲序列生成方法，以有效增大超短激光脉冲光源的频谱宽度，产生子脉冲宽度小于百飞秒的超短脉冲序列，从而实现超快分辨成像。
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公开(公告)号：CN107063641A
公开(公告)日：2017-08-18
申请号：CN201710027947.5
申请日：2017-01-16
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
CPC classification number: G01M11/00 , G01N21/6402
Abstract: 本发明公开了一种无损评价光学元件损伤性能的方法，连续激光器能发出连续激光，经第一能量调节器、第一透镜、反射镜、样品正面后，照射到样品背面，连续激光经样品反射的反射方向上设有残余激光收集器；脉冲激光器能发出脉冲激光，经第二能量调节器、缩束系统、劈板、第二透镜后，照射到样品背面。本发明通过对于待测光学元件相同的元件，进行多样品、多位置的测试，获得此类光学元件中，荧光缺陷数据与激光损伤阈值和损伤密度的关联关系，从而对待测样品进行测量时，通过测量其荧光缺陷数据，从而推算出损伤阈值和损伤密度。该方法可以通过无损检测光学元件的荧光缺陷获得光学元件的损伤性能水平，实现光学元件损伤性能的无损评价。
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公开(公告)号：CN106770128B
公开(公告)日：2023-06-27
申请号：CN201710017461.3
申请日：2017-01-11
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G01N21/64
Abstract: 本发明公开了一种快速三维探测光学元件亚表面缺陷的检测装置及检测方法，装置包括水平的样品台和计算机，所述样品台连接高精度三维电动移动平台和压电陶瓷z向平移台，并能分别由二者驱动其运动，所述样品台内设有光学元件的样品；样品台下方设有激光器、图像采集单元，上方设有一共聚焦成像系统。本发明利用一束连续强激光辐照光学元件，元件亚表面缺陷容易受激光激发产生荧光，用高倍率荧光显微成像系统可实现荧光缺陷的二维扫描，获得元件亚表面缺陷的二维分布情况；定位荧光缺陷的位置，利用荧光共聚焦成像系统进行深度扫描，获得光学元件亚表面缺陷的深度分布情况，从而可以实现熔石英元件亚表面缺陷的快速三维测试。
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公开(公告)号：CN106770128A
公开(公告)日：2017-05-31
申请号：CN201710017461.3
申请日：2017-01-11
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G01N21/64
CPC classification number: G01N21/6402
Abstract: 本发明公开了一种快速三维探测光学元件亚表面缺陷的检测装置及检测方法，装置包括水平的样品台和计算机，所述样品台连接高精度三维电动移动平台和压电陶瓷z向平移台，并能分别由二者驱动其运动，所述样品台内设有光学元件的样品；样品台下方设有激光器、图像采集单元，上方设有一共聚焦成像系统。本发明利用一束连续强激光辐照光学元件，元件亚表面缺陷容易受激光激发产生荧光，用高倍率荧光显微成像系统可实现荧光缺陷的二维扫描，获得元件亚表面缺陷的二维分布情况；定位荧光缺陷的位置，利用荧光共聚焦成像系统进行深度扫描，获得光学元件亚表面缺陷的深度分布情况，从而可以实现熔石英元件亚表面缺陷的快速三维测试。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106277814B
公开(公告)日：2019-04-05
申请号：CN201610606135.1
申请日：2016-07-28
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: C03C15/02
Abstract: 本发明提供了一种熔石英光学元件表面的处理方法，主要包括如下步骤：(A)对熔石英光学元件的表面进行反应离子刻蚀处理后，去离子水漂洗；(B)再采用HF‑NH4F缓释溶液对熔石英光学元件的表面进行刻蚀处理，去离子水漂洗，即可。本发明实施例的熔石英光学元件的表面处理方法实现了以较低的材料去除量对熔石英光学元件表面进行处理，并使得处理后的熔石英光学元件不仅具有较高的损伤阈值，还具有较低的粗糙度。
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公开(公告)号：CN107063641B
公开(公告)日：2018-12-18
申请号：CN201710027947.5
申请日：2017-01-16
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种无损评价光学元件损伤性能的方法，连续激光器能发出连续激光，经第一能量调节器、第一透镜、反射镜、样品正面后，照射到样品背面，连续激光经样品反射的反射方向上设有残余激光收集器；脉冲激光器能发出脉冲激光，经第二能量调节器、缩束系统、劈板、第二透镜后，照射到样品背面。本发明通过对于待测光学元件相同的元件，进行多样品、多位置的测试，获得此类光学元件中，荧光缺陷数据与激光损伤阈值和损伤密度的关联关系，从而对待测样品进行测量时，通过测量其荧光缺陷数据，从而推算出损伤阈值和损伤密度。该方法可以通过无损检测光学元件的荧光缺陷获得光学元件的损伤性能水平，实现光学元件损伤性能的无损评价。
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公开(公告)号：CN106277814A
公开(公告)日：2017-01-04
申请号：CN201610606135.1
申请日：2016-07-28
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: C03C15/02
CPC classification number: C03C15/02
Abstract: 本发明提供了一种熔石英光学元件表面的处理方法，主要包括如下步骤：(A)对熔石英光学元件的表面进行反应离子刻蚀处理后，去离子水漂洗；(B)再采用HF-NH4F缓释溶液对熔石英光学元件的表面进行刻蚀处理，去离子水漂洗，即可。本发明实施例的熔石英光学元件的表面处理方法实现了以较低的材料去除量对熔石英光学元件表面进行处理，并使得处理后的熔石英光学元件不仅具有较高的损伤阈值，还具有较低的粗糙度。
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公开(公告)号：CN206348270U
公开(公告)日：2017-07-21
申请号：CN201720027309.9
申请日：2017-01-11
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G01N21/64
Abstract: 本实用新型公开了一种快速三维探测光学元件亚表面缺陷的检测装置，装置包括水平的样品台和计算机，所述样品台连接高精度三维电动移动平台和压电陶瓷z向平移台，并能分别由二者驱动其运动，所述样品台内设有光学元件的样品；样品台下方设有激光器、图像采集单元，上方设有一共聚焦成像系统。本实用新型利用一束连续强激光辐照光学元件，元件亚表面缺陷容易受激光激发产生荧光，用高倍率荧光显微成像系统可实现荧光缺陷的二维扫描，获得元件亚表面缺陷的二维分布情况；定位荧光缺陷的位置，利用荧光共聚焦成像系统进行深度扫描，获得光学元件亚表面缺陷的深度分布情况，从而可以实现熔石英元件亚表面缺陷的快速三维测试。
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公开(公告)号：CN204855406U
公开(公告)日：2015-12-09
申请号：CN201520629413.6
申请日：2015-08-20
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本实用新型提供了一种熔石英亚表层微缺陷探测装置，涉及光学器件领域。该熔石英亚表层微缺陷探测装置用于对放置于样品台上的样品进行损伤探测，包括激光器、成像系统、电子倍增电荷耦合元件和显示器，电子倍增电荷耦合元件和成像系统设置于同一直线，当该熔石英亚表层微缺陷探测装置工作时，所述激光器设置于激光能够直接照射至样品的位置，所述电子倍增电荷耦合元件与所述显示器电连接。激光照射到样品后，样品的亚表面缺陷会发出荧光，电子倍增电荷耦合元件接收到的样品发出的荧光图像，并将图像传送给显示器显示，这样，使用者便收集到样品的亚表层微缺陷的荧光图像，对样品的亚表层微缺陷做出判断，避免了对熔石英元件的损坏。
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