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公开(公告)号:CN102809324B
公开(公告)日:2014-08-20
申请号:CN201210321349.6
申请日:2012-09-03
Applicant: 中国工程物理研究院总体工程研究所
IPC: F41B9/00
Abstract: 本发明公开了一种高速水柱惯性抛射筒,包括上筒体、筒座和限位环,所述筒座的上端边缘均匀分布有向上凸起的筒座凸块,相邻的所述筒座凸块之间形成凹槽,所述上筒体的下端边缘均匀分布有向外凸起的上筒体凸块,所述上筒体凸块置于所述凹槽内,所述上筒体凸块的厚度小于所述筒座凸块的高度,所述限位环套装于所述上筒体的外面。本发明通过上筒体和筒座采用分离式结构,在水柱出抛射筒的过程中,将抛射筒的底部与大气相通,消除抛射筒底部的负压,从而实现了规则水柱的发射过程。
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公开(公告)号:CN102809324A
公开(公告)日:2012-12-05
申请号:CN201210321349.6
申请日:2012-09-03
Applicant: 中国工程物理研究院总体工程研究所
IPC: F41B9/00
Abstract: 本发明公开了一种高速水柱惯性抛射筒,包括上筒体、筒座和限位环,所述筒座的上端边缘均匀分布有向上凸起的筒座凸块,相邻的所述筒座凸块之间形成凹槽,所述上筒体的下端边缘均匀分布有向外凸起的上筒体凸块,所述上筒体凸块置于所述凹槽内,所述上筒体凸块的厚度小于所述筒座凸块的高度,所述限位环套装于所述上筒体的外面。本发明通过上筒体和筒座采用分离式结构,在水柱出抛射筒的过程中,将抛射筒的底部与大气相通,消除抛射筒底部的负压,从而实现了规则水柱的发射过程。
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公开(公告)号:CN105043317B
公开(公告)日:2017-06-23
申请号:CN201510290492.7
申请日:2015-05-29
Applicant: 中国工程物理研究院总体工程研究所
IPC: G01B21/00
Abstract: 本发明公开了一种成套回转装备主轴动态回转误差的测量装置,连接定位柱安装于标准棒与主轴之间,四个位移传感器的测量端分别置于标准棒的圆周外并用于检测标准棒的位移,位移传感器的信号输出端依次与数据采集器、信号调理器和上位机连接,互连的连接定位柱端面与标准棒端面上分别设有两个对称的标记。本发明还公开了一种成套回转装备主轴动态回转误差的测量方法,包括:旋转主轴,位移传感器记数;将标准棒旋转180°后,再旋转主轴,位移传感器记数;将数据进行傅里叶变换;依据上述数据计算主轴的径向回转误差。本发明将反转法误差分离技术改进用于成套装备的主轴动态回转误差测量,显著提高了测量精度,适于推广应用。
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公开(公告)号:CN105043317A
公开(公告)日:2015-11-11
申请号:CN201510290492.7
申请日:2015-05-29
Applicant: 中国工程物理研究院总体工程研究所
IPC: G01B21/00
Abstract: 本发明公开了一种成套回转装备主轴动态回转误差的测量装置,连接定位柱安装于标准棒与主轴之间,四个位移传感器的测量端分别置于标准棒的圆周外并用于检测标准棒的位移,位移传感器的信号输出端依次与数据采集器、信号调理器和上位机连接,互连的连接定位柱端面与标准棒端面上分别设有两个对称的标记。本发明还公开了一种成套回转装备主轴动态回转误差的测量方法,包括:旋转主轴,位移传感器记数;将标准棒旋转180°后,再旋转主轴,位移传感器记数;将数据进行傅里叶变换;依据上述数据计算主轴的径向回转误差。本发明将反转法误差分离技术改进用于成套装备的主轴动态回转误差测量,显著提高了测量精度,适于推广应用。
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公开(公告)号:CN204757949U
公开(公告)日:2015-11-11
申请号:CN201520365284.4
申请日:2015-05-29
Applicant: 中国工程物理研究院总体工程研究所
IPC: G01B21/00
Abstract: 本实用新型公开了一种成套回转装备主轴动态回转误差的测量装置,连接定位柱安装于标准棒与主轴之间,四个位移传感器的测量端分别置于标准棒的圆周外并用于检测标准棒的位移,位移传感器的信号输出端依次与数据采集器、信号调理器和上位机连接,互连的连接定位柱端面与标准棒端面上分别设有两个对称的标记。本实用新型通过在标准棒与主轴之间增加一个带有精密标记的连接定位柱将反转法误差分离技术改进用于成套回转装备的主轴动态回转误差测量,与现有多测头法误差分离技术相比,本实用新型所述测量装置误差分离简单、运算量小,而且测量误差可控,不存在谐波抑制问题,显著提高了测量精度,适于推广应用。
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公开(公告)号:CN202734673U
公开(公告)日:2013-02-13
申请号:CN201220444789.6
申请日:2012-09-03
Applicant: 中国工程物理研究院总体工程研究所
IPC: F41B9/00
Abstract: 本实用新型公开了一种高速水柱惯性抛射筒,包括上筒体、筒座和限位环,所述筒座的上端边缘均匀分布有向上凸起的筒座凸块,相邻的所述筒座凸块之间形成凹槽,所述上筒体的下端边缘均匀分布有向外凸起的上筒体凸块,所述上筒体凸块置于所述凹槽内,所述上筒体凸块的厚度小于所述筒座凸块的高度,所述限位环套装于所述上筒体的外面。本实用新型通过上筒体和筒座采用分离式结构,在水柱出抛射筒的过程中,将抛射筒的底部与大气相通,消除抛射筒底部的负压,从而实现了规则水柱的发射过程。
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