一种C/C-(Ti,Zr,Hf,Nb,Ta)C-SiC复合材料及其制备方法

    公开(公告)号:CN116715526B

    公开(公告)日:2024-07-12

    申请号:CN202310679541.0

    申请日:2023-06-09

    Applicant: 中南大学

    Abstract: 本发明公开了一种C/C‑(Ti,Zr,Hf,Nb,Ta)C‑SiC复合材料及其制备方法,将含(Ti,Zr,Hf,Nb,Ta)C高熵陶瓷粉末的浆料浸入C/C复合多孔坯体中获得C/C‑(Ti,Zr,Hf,Nb,Ta)C中间体,将C/C‑(Ti,Zr,Hf,Nb,Ta)C中间体通过先驱体浸渍裂解工艺进行SiC基体致密化,即得C/C‑(Ti,Zr,Hf,Nb,Ta)C‑SiC复合材料,本发明不仅缩短了单独采用先驱体浸渍裂解法制备的周期,提高了制备效率,而且相对于单独采用先驱体浸渍裂解法可以大幅提高最终的密度,获得更加致密的陶瓷基体,降低了孔隙率,提高了复合材料的性能,还降低了工艺成本。

    一种C/C-(Ti,Zr,Hf,Nb,Ta)C-SiC复合材料及其制备方法

    公开(公告)号:CN116715526A

    公开(公告)日:2023-09-08

    申请号:CN202310679541.0

    申请日:2023-06-09

    Applicant: 中南大学

    Abstract: 本发明公开了一种C/C‑(Ti,Zr,Hf,Nb,Ta)C‑SiC复合材料及其制备方法,将含(Ti,Zr,Hf,Nb,Ta)C高熵陶瓷粉末的浆料浸入C/C复合多孔坯体中获得C/C‑(Ti,Zr,Hf,Nb,Ta)C中间体,将C/C‑(Ti,Zr,Hf,Nb,Ta)C中间体通过先驱体浸渍裂解工艺进行SiC基体致密化,即得C/C‑(Ti,Zr,Hf,Nb,Ta)C‑SiC复合材料,本发明不仅缩短了单独采用先驱体浸渍裂解法制备的周期,提高了制备效率,而且相对于单独采用先驱体浸渍裂解法可以大幅提高最终的密度,获得更加致密的陶瓷基体,降低了孔隙率,提高了复合材料的性能,还降低了工艺成本。

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