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公开(公告)号：CN103000981A
公开(公告)日：2013-03-27
申请号：CN201210463302.3
申请日：2012-11-17
Applicant: 中北大学
Abstract: 本发明为一种毫米波腔体滤波器的制作方法。本发明使用光刻胶作为辅助材料，使用电镀金属材料作为结构材料，并配合不同图案的掩膜板，采用多层匀胶、逐层光刻并显影、电镀、最终剥离固化的光刻胶的技术，可以精确构造出腔体滤波器复杂的三维金属结构。利用弹性优异的柔性材料PDMS对其进行翻模，构造模具，再对模具进行注塑固化，可以对腔体结构及盖板结构进行快速精确复制，最后将二者进行键合封装，即得到完整的毫米波腔体滤波器。本发明方法制得的滤波器体积轻巧、精度高、频率高、频带宽、信号容量大，且该滤波器腔体为一体化设置，避免了组装带来的误差，提高了滤波器的性能。本发明制作方法具有工艺简单、制作精度高等优点。
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公开(公告)号：CN103000981B
公开(公告)日：2014-09-17
申请号：CN201210463302.3
申请日：2012-11-17
Applicant: 中北大学
Abstract: 本发明为一种毫米波腔体滤波器的制作方法。本发明使用光刻胶作为辅助材料，使用电镀金属材料作为结构材料，并配合不同图案的掩膜板，采用多层匀胶、逐层光刻并显影、电镀、最终剥离固化的光刻胶的技术，可以精确构造出腔体滤波器复杂的三维金属结构。利用弹性优异的柔性材料PDMS对其进行翻模，构造模具，再对模具进行注塑固化，可以对腔体结构及盖板结构进行快速精确复制，最后将二者进行键合封装，即得到完整的毫米波腔体滤波器。本发明方法制得的滤波器体积轻巧、精度高、频率高、频带宽、信号容量大，且该滤波器腔体为一体化设置，避免了组装带来的误差，提高了滤波器的性能。本发明制作方法具有工艺简单、制作精度高等优点。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102931466B
公开(公告)日：2014-07-23
申请号：CN201210463282.X
申请日：2012-11-17
Applicant: 中北大学
Abstract: 本发明为一种毫米波腔体滤波器的制作方法。本发明使用光刻胶作为结构材料并配合不同图案的掩膜板，采用多层匀胶、逐层光刻、最终一次显影技术，可以精确构造出腔体滤波器复杂的三维结构。利用弹性优异的柔性材料PDMS对其进行翻模，构造模具，再对模具进行注塑固化，可以对腔体结构及盖板结构进行快速精确复制，最后将二者进行键合封装，即得到完整的毫米波腔体滤波器。本发明方法制得的滤波器体积轻巧、精度高、频率高、频带宽、信号容量大，且该滤波器腔体为一体化设置，避免了组装带来的误差，提高了滤波器的性能。本发明制作方法具有工艺简单、制作精度高等优点。本发明复制方法具有复制快速、复制精度高等优点。
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公开(公告)号：CN102931466A
公开(公告)日：2013-02-13
申请号：CN201210463282.X
申请日：2012-11-17
Applicant: 中北大学
Abstract: 本发明为一种毫米波腔体滤波器的制作方法。本发明使用光刻胶作为结构材料并配合不同图案的掩膜板，采用多层匀胶、逐层光刻、最终一次显影技术，可以精确构造出腔体滤波器复杂的三维结构。利用弹性优异的柔性材料PDMS对其进行翻模，构造模具，再对模具进行注塑固化，可以对腔体结构及盖板结构进行快速精确复制，最后将二者进行键合封装，即得到完整的毫米波腔体滤波器。本发明方法制得的滤波器体积轻巧、精度高、频率高、频带宽、信号容量大，且该滤波器腔体为一体化设置，避免了组装带来的误差，提高了滤波器的性能。本发明制作方法具有工艺简单、制作精度高等优点。本发明复制方法具有复制快速、复制精度高等优点。
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公开(公告)号：CN102879845B
公开(公告)日：2014-12-31
申请号：CN201210381719.5
申请日：2012-10-10
Applicant: 中北大学
Abstract: 本发明涉及光栅制作技术领域，具体为一种基于PDMS的纳米级光栅制作方法，解决了现有的纳米光栅制作方法所用设备昂贵、工艺条件苛刻复杂、难以控制、制作成本高、周期长的问题。一种基于PDMS的纳米级光栅制作方法，包括如下步骤：a、用光刻技术制作光栅母模版（5）；b、将步骤a中的光栅母模版（5）的光栅图案转移到PDMS薄膜（6）上，制作带有光栅图案的PDMS薄膜（7）；c、将带有光栅图案的PDMS薄膜（7）夹持在电控平移台上。本方法得到的纳米级光栅首先成型在PDMS薄膜上，而PDMS是一种很好的中间模具材料，对此PDMS薄膜再次倒模，便可以制作出其它多种材料的纳米级光栅。
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公开(公告)号：CN102879845A
公开(公告)日：2013-01-16
申请号：CN201210381719.5
申请日：2012-10-10
Applicant: 中北大学
Abstract: 本发明涉及光栅制作技术领域，具体为一种基于PDMS的纳米级光栅制作方法，解决了现有的纳米光栅制作方法所用设备昂贵、工艺条件苛刻复杂、难以控制、制作成本高、周期长的问题。一种基于PDMS的纳米级光栅制作方法，包括如下步骤：a、用光刻技术制作光栅母模版（5）；b、将步骤a中的光栅母模版（5）的光栅图案转移到PDMS薄膜（6）上，制作带有光栅图案的PDMS薄膜（7）；c、将带有光栅图案的PDMS薄膜（7）夹持在电控平移台上。本方法得到的纳米级光栅首先成型在PDMS薄膜上，而PDMS是一种很好的中间模具材料，对此PDMS薄膜再次倒模，便可以制作出其它多种材料的纳米级光栅。
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公开(公告)号：CN102435376A
公开(公告)日：2012-05-02
申请号：CN201110324730.3
申请日：2011-10-24
Applicant: 中北大学
Abstract: 本发明公开了一种基于柔性导电橡胶的柔性三维力传感器并提出了制作方法。柔性三维力传感器的基体为柔性导电橡胶，中间由四层微电极和导线阵列组成，并且每一层的导线都外接信号处理电路，通过检测电阻值的变化从而测得三维力的大小。柔性三维力传感器的关键是微电极和导线的制作，本专利采用了基于SU-8+PDMS的UV-LIGA工艺制作微电极和导线阵列。然后，把制作好的微电极和导线阵列放入传感器的模腔中，注入液态柔性导电橡胶。最后，经过一段时间的冷却固化，即可制作出了柔性三维力传感器。由于微电极的间距小，大大提高了传感器的灵敏度和精度，并可以批量化生产传感器。
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