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公开(公告)号：CN106883866A
公开(公告)日：2017-06-23
申请号：CN201610873736.9
申请日：2016-09-30
Applicant: 东进世美肯株式会社
CPC classification number: C09K19/44 , C09K19/20 , C09K19/3003 , C09K2019/3004 , C09K2019/301 , C09K2019/3016 , C09K2019/3019
Abstract: 本发明涉及一种包含特定的4种以上液晶化合物的液晶组合物。本发明的液晶组合物由于以最佳比例包含具有近晶(smectic)相或再结晶温度较高的液晶化合物，可显示出优异的低温稳定性及高透明点等其他各种物理性质，因此可适当地用于VA、MVA、PVA、PS‑VA、PALC、FFS、PS‑FFS、IPS或PS‑IPS等各种液晶显示元件。
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公开(公告)号：CN107406768A
公开(公告)日：2017-11-28
申请号：CN201780000323.2
申请日：2017-01-17
Applicant: 东进世美肯株式会社
Abstract: 本发明涉及一种适合于液晶显示装置(LCD)的液晶组合物。更具体地，本发明可提供一种最适合于液晶显示装置的液晶组合物，其以一定比率包含具有正性介电常数各向异性的化合物和具有负性介电常数各向异性的化合物，从而保持可从现有技术得到的各种参数(较宽的向列相范围、低粘度、根据相位差(d·Δn)所要求的优异的折射率各向异性和高可靠性)，而且具有液晶短轴方向的介电常数大的特征，因此具有非常高的透光率和高亮度特性，从而可适用于水平电场模式的IPS(In-plane switching，面内切换型)、PLS(Plane to line switching，面线切换型)、FFS(Fringe field switching，边缘场切换型)、ADS(Advanced super dimension switching，高级超维场切换型)等各种模式。
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公开(公告)号：CN104629946B
公开(公告)日：2019-12-31
申请号：CN201410641916.5
申请日：2014-11-11
Applicant: 东进世美肯株式会社
Abstract: 本发明涉及一种用于化学机械研磨后清洗的组合物，更具体地，涉及一种在半导体制造工艺中，用于包括金属布线及金属膜的半导体基板的清洗工艺，尤其是用于化学机械研磨后清洗裸露出金属布线的半导体基板的组合物。本发明的清洗组合物即能有效地清除附在半导体工件表面上的杂质，又不损伤金属布线，而且清洗后，不会残留在表面上造成工件污染，因此能够制造优秀的半导体。
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公开(公告)号：CN107022357A
公开(公告)日：2017-08-08
申请号：CN201610873738.8
申请日：2016-09-30
Applicant: 东进世美肯株式会社
IPC: C09K19/54 , G02F1/1333
CPC classification number: C09K19/54 , G02F1/1333
Abstract: 本发明涉及一种液晶组合物。所述液晶组合物由于各种物理性质优异的母液晶中搭配特殊的添加剂，即使长时间暴露于热或紫外光也显示出高的电压保持率，因此可以保障非常高的可靠性。另外，通过这种液晶化合物及添加剂的组合，可提供得到优化的液晶组合物给各种液晶显示装置，例如TN、STN、IPS、FFS或PLS模式等液晶显示装置。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106957661A
公开(公告)日：2017-07-18
申请号：CN201610873460.4
申请日：2016-09-30
Applicant: 东进世美肯株式会社
CPC classification number: C09K19/44 , C09K19/20 , C09K19/3003 , C09K2019/301 , C09K2019/3016 , C09K2019/3019
Abstract: 本发明涉及一种液晶组合物，其包含特定的四种以上液晶化合物。本发明的液晶组合物由于具有高的清亮点和弹性模量，因此在液晶显示元件中能够体现温度依赖性低的画质特性，能够提高亮度。
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公开(公告)号：CN104969129A
公开(公告)日：2015-10-07
申请号：CN201480007310.4
申请日：2014-01-24
Applicant: 东进世美肯株式会社
IPC: G03F7/42 , G03F7/32 , H01L21/027 , G03F7/09
Abstract: 本发明涉及一种稀释剂组合物及其用途。本发明的稀释剂组合物对各种光阻剂都具有优异的溶解力，且具有最适当的挥发性，因此能够在短时间内于边缘球状物移除工艺或类似工艺中有效地去除不必要附着的光阻剂，并且可应用于半导体基板的预润湿工艺，用少量的光阻剂也能够有效地形成感光膜。
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公开(公告)号：CN104969129B
公开(公告)日：2020-01-17
申请号：CN201480007310.4
申请日：2014-01-24
Applicant: 东进世美肯株式会社
IPC: G03F7/42 , G03F7/32 , H01L21/027 , G03F7/09
Abstract: 本发明涉及一种稀释剂组合物及其用途。本发明的稀释剂组合物对各种光阻剂都具有优异的溶解力，且具有最适当的挥发性，因此能够在短时间内于边缘球状物移除工艺或类似工艺中有效地去除不必要附着的光阻剂，并且可应用于半导体基板的预润湿工艺，用少量的光阻剂也能够有效地形成感光膜。
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公开(公告)号：CN106978194A
公开(公告)日：2017-07-25
申请号：CN201610874551.X
申请日：2016-09-30
Applicant: 东进世美肯株式会社
IPC: C09K19/44
CPC classification number: C09K19/3003 , C09K19/20 , C09K2019/0466 , C09K2019/3004 , C09K2019/301 , C09K2019/3016 , C09K2019/3019 , C09K19/44
Abstract: 本发明涉及一种液晶组合物。上述液晶组合物由于具有低旋转粘度并且低温稳定性优异而能够有效应用于要求低电压驱动及高速响应特性的IPS(平面转换)或FFS(边缘场开关)模式的TV或监视器和特别要求低温稳定性的移动笔记本电脑或平板PC等液晶显示元件。
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公开(公告)号：CN104781732A
公开(公告)日：2015-07-15
申请号：CN201380058917.0
申请日：2013-10-28
Applicant: 东进世美肯株式会社
Abstract: 本发明涉及一种示出光刻胶剥离效果和防腐效果的光刻胶剥离液组合物及光刻胶剥离方法。更详细地讲，涉及含有N,N-二甲基丙酰胺、Solketal(丙酮缩甘油)、以及有机胺的光刻胶去除用剥离液组合物，该组合物能够替代对环境和人体有害的乙二醇醚(glycol ether)类化合物。
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