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公开(公告)号：CN1739072A
公开(公告)日：2006-02-22
申请号：CN200480002284.2
申请日：2004-01-16
Applicant: 株式会社富士金 , 东京毅力科创株式会社 , 大见忠弘
IPC: G05D7/06
CPC classification number: H01L21/67023 , G05D7/0635 , Y10T137/6416 , Y10T137/6606 , Y10T137/7761
Abstract: 本发明使得能够使用压力式流量控制装置，在3～300SCCM左右的流量范围内，对供给真空腔室等的HF气体等簇化流体高精度地进行流量控制。具体地说，使用压力式流量控制装置的簇化流体的流量控制方法是下述方法，即在节流孔上游侧的气体的压力P1与节流孔下游侧的气体的压力P2之比P2/P1保持在气体的临界压力比以下的状态下，在节流孔中流通的气体的流量Q按照Q＝KP1(其中，K为常数)进行运算，其中，将前述压力式流量控制装置加温到40℃以上，或者向簇化流体中添加稀释气体使之达到分压以下，从而使得缔合的分子离解，之后使得变成了单分子状态的簇化流体通过所述节流孔流通。
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公开(公告)号：CN100390933C
公开(公告)日：2008-05-28
申请号：CN200510130387.3
申请日：2005-12-09
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/3065 , H01L21/311 , H01L21/3213 , C23F4/00
Abstract: 在气体供给装置(100)上设置具有多个气体供给源的第一气体箱(111)和具有多个附加气体供给源的第二气体箱(113)。各气体供给源连接有混合管道(120)，混合管道(120)连接有通过不同缓冲室(63a、63b)的分支管道(122、123)。分支管道中分别设有压力调整部，由压力比控制部(126)调整压力比。在分支管道(123)的压力调整部下游侧连接有通过第二气体箱(113)的附加气体供给管道(130)。第一气体箱(111)的各气体由混合管道(120)混合，由分支管道分流，供给到各缓冲室。分支管道(123)上附加有第二气体箱(113)的附加气体，向缓冲室(63b)供给与缓冲室(63a)不同的混合气体。由此由简单管道结构向处理容器的多处供给任意的混合气体。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101013660A
公开(公告)日：2007-08-08
申请号：CN200710006990.X
申请日：2007-01-31
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 水泽兼悦
IPC: H01L21/00 , H01L21/67 , H01L21/205 , H01L21/3065 , C23C16/455 , C23F4/00
CPC classification number: C23C16/455 , C23C16/45561 , Y10T137/0318 , Y10T137/877
Abstract: 本发明提供一种气体供给装置，其能够以简单的配管结构且通过简单的控制，不受压力变动等的影响，从处理室内的多个部位供给气体，能够实现所期望的面内均匀性。在进行晶片处理之前，针对分流量调整单元(230)实施对分流量进行调整的压力比控制，使各处理气体用分支流路内的压力比成为目标压力比，将来自处理气体供给单元(210)的处理气体分流至第一、第二分支配管(204、206)内，当各处理气体用分支流路内的压力稳定后，将对分流量调整单元的控制切换成保持压力稳定时的一方的处理气体用分支流路内的压力而对分流量进行调整的压力恒定控制，之后，通过附加气体供给单元(220)将附加气体供给至另一方的处理气体用分支配管内。
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公开(公告)号：CN1787170A
公开(公告)日：2006-06-14
申请号：CN200510130387.3
申请日：2005-12-09
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/3065 , H01L21/311 , H01L21/3213 , C23F4/00
Abstract: 在气体供给装置(100)上设置具有多个气体供给源的第一气体箱(111)和具有多个附加气体供给源的第二气体箱(113)。各气体供给源连接有混合管道(120)，混合管道(120)连接有通过不同缓冲室(63a、63b)的分支管道(122、123)。分支管道中分别设有压力调整部，由压力比控制部(126)调整压力比。在分支管道(123)的压力调整部下游侧连接有通过第二气体箱(113)的附加气体供给管道(130)。第一气体箱(111)的各气体由混合管道(120)混合，由分支管道分流，供给到各缓冲室。分支管道(123)上附加有第二气体箱(113)的附加气体，向缓冲室(63b)供给与缓冲室(63a)不同的混合气体。由此由简单管道结构向处理容器的多处供给任意的混合气体。
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公开(公告)号：CN100514552C
公开(公告)日：2009-07-15
申请号：CN200710006990.X
申请日：2007-01-31
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 水泽兼悦
IPC: H01L21/00 , H01L21/67 , H01L21/205 , H01L21/3065 , C23C16/455 , C23F4/00
CPC classification number: C23C16/455 , C23C16/45561 , Y10T137/0318 , Y10T137/877
Abstract: 本发明提供一种气体供给装置，其能够以简单的配管结构且通过简单的控制，不受压力变动等的影响，从处理室内的多个部位供给气体，能够实现所期望的面内均匀性。在进行晶片处理之前，针对分流量调整单元(230)实施对分流量进行调整的压力比控制，使各处理气体用分支流路内的压力比成为目标压力比，将来自处理气体供给单元(210)的处理气体分流至第一、第二分支配管(204、206)内，当各处理气体用分支流路内的压力稳定后，将对分流量调整单元的控制切换成保持压力稳定时的一方的处理气体用分支流路内的压力而对分流量进行调整的压力恒定控制，之后，通过附加气体供给单元(220)将附加气体供给至另一方的处理气体用分支配管内。
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公开(公告)号：CN100504697C
公开(公告)日：2009-06-24
申请号：CN200480002284.2
申请日：2004-01-16
Applicant: 株式会社富士金 , 东京毅力科创株式会社 , 大见忠弘
IPC: G05D7/06
CPC classification number: H01L21/67023 , G05D7/0635 , Y10T137/6416 , Y10T137/6606 , Y10T137/7761
Abstract: 本发明使得能够使用压力式流量控制装置，在3～300SCCM左右的流量范围内，对供给真空腔室等的HF气体等簇化流体高精度地进行流量控制。具体地说，使用压力式流量控制装置的簇化流体的流量控制方法是下述方法，即在节流孔上游侧的气体的压力P1与节流孔下游侧的气体的压力P2之比P2/P1保持在气体的临界压力比以下的状态下，在节流孔中流通的气体的流量Q按照Q＝KP1(其中，K为常数)进行运算，其中，将前述压力式流量控制装置加温到40℃以上，或者向簇化流体中添加稀释气体使之达到分压以下，从而使得缔合的分子离解，之后使得变成了单分子状态的簇化流体通过所述节流孔流通。
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公开(公告)号：CN101017771A
公开(公告)日：2007-08-15
申请号：CN200710007083.7
申请日：2007-02-08
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 水泽兼悦
IPC: H01L21/00 , H01L21/205 , H01L21/3065 , H01L21/67 , C23C16/455 , C23F4/00 , H05H1/00 , H01J37/32
CPC classification number: C23C16/45565 , C23C16/45574 , F17D1/04 , H01J37/3244 , Y10T137/0318
Abstract: 本发明提供一种气体供给装置，能以简单配管结构和简单控制在不受压力变动等影响情况下，向处理室内多个部位供给气体，实现希望的面内均匀性，其从流过来自处理气体供给单元(210)的处理气体的处理气体供给配管(202)分支，包括分别连接在从处理室内不同部位导入气体的第一、第二气体导入部(330、340)上的第一、第二分支流路(204、206)；基于第一、第二分支流路内的压力调整从处理气体供给流路向第一、第二分支流路分流的处理气体分流量的分流量调整单元(230)；和使来自供给规定附加气体的附加气体供给单元(220)的附加气体流过的附加气体供给配管(208)。第一、第二气体导入部之一分开构成连接分支流路的处理气体导入部和连接附加气体供给流路的附加气体导入部。
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