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公开(公告)号:CN113394129A
公开(公告)日:2021-09-14
申请号:CN202110224018.X
申请日:2021-03-01
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供在制冷装置升降时,能够抑制压缩装置与致冷剂输送管的连接固定部的破损的基片处理装置及其制造方法。基片处理装置包括:内部有载置基片的载置台和靶材保持件的处理容器;在其与载置台的下表面之间具有间隙地配置,具有制冷机和与制冷机层叠的制冷载热体的制冷装置;使制冷装置升降的第一升降装置;制冷装置的内部的对间隙供给致冷剂的致冷剂流路;对供给到致冷剂流路的致冷剂进行压缩的压缩装置;以及与作为致冷剂流路口的第一连接固定部和跟压缩装置连通的第二连接固定部连接固定的致冷剂输送管,致冷剂输送管在第一连接固定部与第二连接固定部之间以至少一部分弯曲的状态延伸设置,在第二连接固定部中致冷剂输送管载置于支承部件上。
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公开(公告)号:CN113451198B
公开(公告)日:2024-04-05
申请号:CN202110266661.9
申请日:2021-03-11
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/687 , H01L21/67 , C23C16/54
Abstract: 本发明提供恰当地控制用于载置基板的载置面的温度的基板载置台及基板处理装置。该基板载置台具有:载置台主体,在该载置台主体的内部具有被冷却面;以及供给流路形成构件,该供给流路形成构件由导热性较所述载置台主体低的材料形成,且具有朝向所述被冷却面喷射制冷剂的冷却喷嘴。
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公开(公告)号:CN113451198A
公开(公告)日:2021-09-28
申请号:CN202110266661.9
申请日:2021-03-11
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/687 , H01L21/67 , C23C16/54
Abstract: 本发明提供恰当地控制用于载置基板的载置面的温度的基板载置台及基板处理装置。该基板载置台具有:载置台主体,在该载置台主体的内部具有被冷却面;以及供给流路形成构件,该供给流路形成构件由导热性较所述载置台主体低的材料形成,且具有朝向所述被冷却面喷射制冷剂的冷却喷嘴。
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公开(公告)号:CN113327881A
公开(公告)日:2021-08-31
申请号:CN202110140802.2
申请日:2021-02-02
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor: 武田聪
IPC: H01L21/683 , H01L21/67 , C23C14/34 , C23C14/50
Abstract: 本发明提供为在工作台的下方具有冷却部的结构,并且具有不易发生对静电吸盘的供电异常的容易安装的供电机构的工作台装置、供电机构和处理装置。工作台装置包括:具有铜制的主体部和静电吸盘的工作台;设置于工作台的下方的冷却部;以及从设置于工作台的下方的直流电源对静电吸盘的电极进行供电的供电机构,供电机构包括:在工作台的外周彼此隔开间隔地设置的一对端子部;具有一对金属棒的第1供电线,该一对金属棒的一端连接到直流电源,向工作台侧延伸,且彼此隔开间隔地设置;具有一对金属棒的第2供电线,该一对金属棒的一端连接到一对端子部,且彼此隔开间隔地设置;以及连接部,其将第1供电线的金属棒与第2供电线的金属棒连接。
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