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公开(公告)号：CN110783242B
公开(公告)日：2023-08-11
申请号：CN201910675192.9
申请日：2019-07-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/673 , H01L21/683
Abstract: 本发明提供载置台装置、处理装置和载置台装置的操作方法，相比于现有技术能够抑制由剩余电荷导致的基片的偏移和破损。上述载置台装置包括：静电吸盘，其正面形成有能够与基片的背面电接触的导电膜；迂回至上述静电吸盘的背面的导电部件，该导电部件与上述导电膜电连接；和移动部件，其经由连接部件与上述导电部件电连接，并能够在与接地电位连接的位置和不与接地电位连接的位置之间移动。
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公开(公告)号：CN110643956A
公开(公告)日：2020-01-03
申请号：CN201910547442.0
申请日：2019-06-24
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C14/34
Abstract: 本发明提供一种能够容易地改变开口部的形状的技术。本发明的一个方式的溅射装置包括：收纳基片的处理容器；和缝隙板，其将上述处理容器内划分为设置靶材的第一空间和设置上述基片的第二空间，上述缝隙板包括：内侧部件，其具有在板厚方向将该缝隙板贯通的开口部；和设置在上述内侧部件的周围的外侧部件，上述内侧部件相对于上述外侧部件是可拆装的。
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公开(公告)号：CN120072690A
公开(公告)日：2025-05-30
申请号：CN202411640364.6
申请日：2024-11-18
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , F25D31/00 , H01L21/683
Abstract: 本发明提供一种提高冷却性的基板处理装置。基板处理装置具备：处理容器；载置台，其设于所述处理容器内，具有第1接触面，构成为能够旋转；冷冻装置，其具有第2接触面，构成为能够升降；旋转装置，其使所述载置台旋转；以及升降装置，其使所述冷冻装置升降，能够使所述第2接触面与所述第1接触面热连接和分离，所述冷冻装置具有：冷冻机；以及冷传递件，其一端与所述冷冻机热连接，在另一端具有所述第2接触面，所述冷传递件的体积大于所述载置台的体积。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112011768A
公开(公告)日：2020-12-01
申请号：CN202010429448.0
申请日：2020-05-20
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供成膜装置。该成膜装置包括处理容器、在处理容器内保持基片的基片保持部和配置于基片保持部的上方的靶单元。靶单元包括：靶，其具有主体部和其周围的呈环状的凸缘部，能够释放溅射颗粒；具有靶电极且保持靶的靶保持部；将靶的凸缘部夹持在靶保持部的靶夹具；以及防附着遮挡件，其在靶的主体部的周围以覆盖凸缘部、靶夹具和靶保持部的方式设置，以其内侧前端进入靶的主体部与靶夹具之间的凹部的方式配置而形成迷宫结构。本发明能够在同一处理容器内进行金属膜的沉积和沉积的金属氧化膜的氧化处理时，抑制金属靶的氧化。
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公开(公告)号：CN106976051A
公开(公告)日：2017-07-25
申请号：CN201611095507.5
申请日：2016-12-02
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种处理装置，抑制多个升降销相对于处理装置的载置台的相对移动所引起的颗粒的产生，且提高被加工物向载置台上的搬送精度。一实施方式的处理装置中，在处理容器内设置有载置台。在载置台形成有多个升降销用的多个贯通孔。多个升降销经由支承体被花键轴支承。花键轴由花键轴承可上下移动地支承。多个升降销被弹簧部件经由花键轴向上方施力。花键轴、花键轴承和弹簧部件设置在从处理容器内的可减压的空间分离了的处理容器的外部的空间。
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公开(公告)号：CN110643956B
公开(公告)日：2022-01-07
申请号：CN201910547442.0
申请日：2019-06-24
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C14/34
Abstract: 本发明提供一种能够容易地改变开口部的形状的技术。本发明的一个方式的溅射装置包括：收纳基片的处理容器；和缝隙板，其将上述处理容器内划分为设置靶材的第一空间和设置上述基片的第二空间，上述缝隙板包括：内侧部件，其具有在板厚方向将该缝隙板贯通的开口部；和设置在上述内侧部件的周围的外侧部件，上述内侧部件相对于上述外侧部件是可拆装的。
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公开(公告)号：CN106976051B
公开(公告)日：2020-03-06
申请号：CN201611095507.5
申请日：2016-12-02
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/683
Abstract: 本发明提供一种处理装置，抑制多个升降销相对于处理装置的载置台的相对移动所引起的颗粒的产生，且提高被加工物向载置台上的搬送精度。一实施方式的处理装置中，在处理容器内设置有载置台。在载置台形成有多个升降销用的多个贯通孔。多个升降销经由支承体被花键轴支承。花键轴由花键轴承可上下移动地支承。多个升降销被弹簧部件经由花键轴向上方施力。花键轴、花键轴承和弹簧部件设置在从处理容器内的可减压的空间分离了的处理容器的外部的空间。
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公开(公告)号：CN110783242A
公开(公告)日：2020-02-11
申请号：CN201910675192.9
申请日：2019-07-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/673 , H01L21/683
Abstract: 本发明提供载置台装置、处理装置和载置台装置的操作方法，相比于现有技术能够抑制由剩余电荷导致的基片的偏移和破损。上述载置台装置包括：静电吸盘，其正面形成有能够与基片的背面电接触的导电膜；迂回至上述静电吸盘的背面的导电部件，该导电部件与上述导电膜电连接；和移动部件，其经由连接部件与上述导电部件电连接，并能够在与接地电位连接的位置和不与接地电位连接的位置之间移动。
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