公开(公告)号：CN101359590B

公开(公告)日：2010-08-18

申请号：CN200810168614.5

申请日：2008-07-25

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 工藤裕幸 ,  森英人 ,  冈田慎二 ,  鹤田丰久

IPC: H01L21/00

CPC classification number: H01L21/67017

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置和方法及存储介质，防止来自处理室的气体泄漏且不密闭处理室，并抑制对基板背面侧气体的迂回。通过由盖体覆盖容器本体上部侧开口形成处理室，从处理室中央上部对载置台上的晶片W供给处理气体，另外，从晶片W外侧对处理室内部通过处理气体排气路径排气。此外，从吹扫气体供给路径对在容器本体的周边部和盖体的周边部之间形成的缓冲室供给吹扫气体。处理气体的供给流量被设定得小于处理气体排气路径中的排气流量，利用由其流量差产生的处理室内的负压，缓冲室内的吹扫气体通过容器本体和盖体之间的间隙组成的吹扫气体供给孔被引入到处理室。

公开(公告)号：CN101359590A

公开(公告)日：2009-02-04

申请号：CN200810168614.5

申请日：2008-07-25

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 工藤裕幸 ,  森英人 ,  冈田慎二 ,  鹤田丰久

IPC: H01L21/00

CPC classification number: H01L21/67017

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置和方法及存储介质，防止来自处理室的气体泄漏且不密闭处理室，并抑制对基板背面侧气体的迂回。通过由盖体覆盖容器本体上部侧开口形成处理室，从处理室中央上部对载置台上的晶片W供给处理气体，另外，从晶片W外侧对处理室内部通过处理气体排气路径排气。此外，从吹扫气体供给路径对在容器本体的周边部和盖体的周边部之间形成的缓冲室供给吹扫气体。处理气体的供给流量被设定得小于处理气体排气路径中的排气流量，利用由其流量差产生的处理室内的负压，缓冲室内的吹扫气体通过容器本体和盖体之间的间隙组成的吹扫气体供给孔被引入到处理室。