光处理装置和基板处理装置

    公开(公告)号:CN108227398B

    公开(公告)日:2021-08-10

    申请号:CN201711305669.1

    申请日:2017-12-11

    Abstract: 本发明提供光处理装置和基板处理装置。提供一种在向晶圆的表面照射光而进行处理时、抑制生产率的降低而向晶圆进行稳定的光照射的技术。在使输入到成批曝光装置(3)内的晶圆(W)从输入输出口(34)侧朝向进行里侧的对位的待机位置(B)移动时,使作为光的照射口的狭缝(43)关闭。接下来,在使晶圆从待机位置向交接位置(A)移动时将开闭器(45)打开而向晶圆照射光。因而,在不以曝光为目的而使晶圆在LED光源组(400)的下方经过时,不对晶圆进行曝光,并且,保持使LED光源组发光的状态而使其不断开。因此,将LED光源组从断开切换成连通时的光强度的过度的偏离被抑制,因此,光强度稳定。

    光照射装置
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111190329B

    公开(公告)日:2024-07-09

    申请号:CN201911099918.5

    申请日:2019-11-12

    Abstract: 本发明提供一种光照射装置。光照射装置包括构成为能够保持基片的基片保持部、光照射单元和供电单元。光照射单元包括:构成为能够对基片的表面照射光的光源;和与光源电连接的第1连接件。供电单元包括:构成为能够对光源供给电力的电源组件;和第2连接件,其与电源组件电连接,构成为与第1连接件可拆装。光照射单元和供电单元通过将第1连接件与第2连接件结合而形成为一体,通过解除第1连接件与第2连接件的结合而彼此分离。本发明的光照射装置能够提高维护性。

    光照射装置
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111190329A

    公开(公告)日:2020-05-22

    申请号:CN201911099918.5

    申请日:2019-11-12

    Abstract: 本发明提供一种光照射装置。光照射装置包括构成为能够保持基片的基片保持部、光照射单元和供电单元。光照射单元包括:构成为能够对基片的表面照射光的光源;和与光源电连接的第1连接件。供电单元包括:构成为能够对光源供给电力的电源组件;和第2连接件,其与电源组件电连接,构成为与第1连接件可拆装。光照射单元和供电单元通过将第1连接件与第2连接件结合而形成为一体,通过解除第1连接件与第2连接件的结合而彼此分离。本发明的光照射装置能够提高维护性。

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