公开(公告)号：CN114388398A

公开(公告)日：2022-04-22

申请号：CN202111120675.6

申请日：2021-09-24

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 鹤崎广太郎 ,  山下浩司 ,  山本裕介 ,  田中幸二 ,  金川耕三

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明提供降低疏水化剂的使用量，且使基片整体疏水化的基片处理装置和基片处理方法。基片处理装置包括处理槽、保持部、有机溶剂供给部、排液口、气体供给部和排气口。上述处理槽积存浸渍基片的水层。上述保持部保持上述基片。上述有机溶剂供给部对上述水层之上供给有机溶剂，形成上述有机溶剂的液层。上述排液口从上述处理槽的底壁将上述水层排出，使上述有机溶剂的上述液层从比上述基片靠上方处下降至比上述基片靠下方处。上述气体供给部在上述液层下降的期间，从上述处理槽的上方对上述液层供给疏水化剂的气体。上述排气口因上述液层的下降而在上述处理槽的侧壁露出，将上述疏水化剂的气体排出。

公开(公告)号：CN101807514B

公开(公告)日：2011-12-28

申请号：CN201010119641.0

申请日：2010-02-20

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 泷口靖史 ,  吉村好贵 ,  宫田雄一郎 ,  山本裕介

IPC: H01L21/00

Abstract: 本发明涉及液处理装置、液处理方法和存储介质。本发明提供一种液处理装置，该液处理装置具备：具备在横方向上配置为一列的基板保持部的多个液处理部、这些液处理部共用的处理液喷嘴，目的在于抑制处理液从所述处理液喷嘴向基板落下，防止成品率降低。在横方向排列为一列的多个杯体的开口部间，在处理液喷嘴的移动路的下方侧，设置有与从通过移动部件移动的处理液喷嘴垂下的所述处理液的液滴接触，用于将该液滴从处理液喷嘴除去除液部。因此，为了对基板进行处理而使处理液喷嘴在待机部与各液处理部间移动时，能够防止所述液滴从处理液喷嘴向基板上落下。其结果是，能够抑制成品率的降低。

公开(公告)号：CN101807514A

公开(公告)日：2010-08-18

申请号：CN201010119641.0

申请日：2010-02-20

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 泷口靖史 ,  吉村好贵 ,  宫田雄一郎 ,  山本裕介

IPC: H01L21/00

Abstract: 本发明涉及液处理装置、液处理方法和存储介质。本发明提供一种液处理装置，该液处理装置具备：具备在横方向上配置为一列的基板保持部的多个液处理部、这些液处理部共用的处理液喷嘴，目的在于抑制处理液从所述处理液喷嘴向基板落下，防止成品率降低。在横方向排列为一列的多个杯体的开口部间，在处理液喷嘴的移动路的下方侧，设置有与从通过移动部件移动的处理液喷嘴垂下的所述处理液的液滴接触，用于将该液滴从处理液喷嘴除去除液部。因此，为了对基板进行处理而使处理液喷嘴在待机部与各液处理部间移动时，能够防止所述液滴从处理液喷嘴向基板上落下。其结果是，能够抑制成品率的降低。

公开(公告)号：CN215183887U

公开(公告)日：2021-12-14

申请号：CN202120714388.7

申请日：2021-04-08

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 金川耕三 ,  甲斐义广 ,  山本裕介

IPC: H01L21/677

Abstract: 本公开涉及基板排列装置和基板输送装置。提供一种针对基板的每个处理以适当的基板的间距处理基板的技术。基板排列装置对多个基板进行排列。基板排列装置包括移动机构、控制部和多个保持部。多个所述保持部沿所述基板的排列方向排列，彼此保持不同的所述基板。所述移动机构使多个所述保持部沿所述基板的排列方向相对地移动。所述控制部控制所述移动机构。所述控制部在利用多个所述保持部保持多个所述基板的状态下基于接下来的工序的处理内容来控制所述移动机构。