公开(公告)号：CN111192824B

公开(公告)日：2024-07-26

申请号：CN201911117357.7

申请日：2019-11-15

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 莫云 ,  大矢欣伸 ,  宫良明男 ,  假屋圭史

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种真空处理装置。该真空处理装置包括：受热部件，其具有接收来自热源的热的受热面；和供致冷剂流通的致冷剂流路，其沿受热面形成于受热部件的内部，致冷剂流路在与配置于受热面侧的第一内壁面交叉的一对第二内壁面具有第一槽部，该第一槽部在相对于致冷剂的行进方向向第一内壁面侧倾斜的方向上延伸。本发明能够提高在载置台的载置面的温度分布的均匀性。

公开(公告)号：CN111192824A

公开(公告)日：2020-05-22

申请号：CN201911117357.7

申请日：2019-11-15

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 莫云 ,  大矢欣伸 ,  宫良明男 ,  假屋圭史

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种真空处理装置。该真空处理装置包括：受热部件，其具有接收来自热源的热的受热面；和供致冷剂流通的致冷剂流路，其沿受热面形成于受热部件的内部，致冷剂流路在与配置于受热面侧的第一内壁面交叉的一对第二内壁面具有第一槽部，该第一槽部在相对于致冷剂的行进方向向第一内壁面侧倾斜的方向上延伸。本发明能够提高在载置台的载置面的温度分布的均匀性。