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公开(公告)号：CN101681832A
公开(公告)日：2010-03-24
申请号：CN200880019566.1
申请日：2008-08-26
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/31 , H01L21/3065 , H01L21/316 , H01L21/318
CPC classification number: H01L21/02252 , H01J37/32963 , H01L21/02238
Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置(100)，其具备：在容器(1)内生成等离子体的等离子体生成机构、对向待处理体(晶片(W))移动的等离子体中的活性种的粒子数的累计值进行测量的测量部(60)、和当测量的累计值已达到设定值时进行控制以使等离子体处理结束的控制部(50)。测量部(60)从光源部(61)向等离子体照射规定的激光，由具备VUV单色光仪的检测部(63)接收，由此来测定活性种的粒子数。
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公开(公告)号：CN102090153A
公开(公告)日：2011-06-08
申请号：CN200980103949.1
申请日：2009-01-30
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H05H1/46 , C23C16/511 , H01L21/3065 , H01L21/31 , H01L21/316 , H01L21/318
CPC classification number: H05H1/46 , C23C16/511 , H01J37/32192 , H01J37/3222 , H01J37/32238
Abstract: 本发明提供一种微波等离子体处理装置，其中，对用于形成等离子体的微波进行放射的平面天线(31)，在其表面以同心状被分为中央区域(31a)、外周区域(31c)、中央区域和外周区域的中间区域(31b)的情况下，朝向各异的微波放射孔(32)的对以同心圆状在中央区域(31a)以及所述外周区域(31c)配列多个，在中间区域(31b)上不形成微波放射孔，微波透过板(28)在其微波放射面上形成有凹部(28a)。
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公开(公告)号：CN101681832B
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN200880019566.1
申请日：2008-08-26
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/31 , H01L21/3065 , H01L21/316 , H01L21/318
CPC classification number: H01L21/02252 , H01J37/32963 , H01L21/02238
Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置(100)，其具备：在容器(1)内生成等离子体的等离子体生成机构、对向待处理体(晶片(W))移动的等离子体中的活性种的粒子数的累计值进行测量的测量部(60)、和当测量的累计值已达到设定值时进行控制以使等离子体处理结束的控制部(50)。测量部(60)从光源部(61)向等离子体照射规定的激光，由具备VUV单色光仪的检测部(63)接收，由此来测定活性种的粒子数。
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公开(公告)号：CN300770458D
公开(公告)日：2008-04-23
申请号：CN200730147467.X
申请日：2007-06-15
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 1.本产品是透明的；
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Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：CN300798537D
公开(公告)日：2008-07-02
申请号：CN200730147465.0
申请日：2007-06-15
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Designer： 太田欣也
Abstract: 1.本产品是透明的；
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