公开(公告)号：CN118451538A

公开(公告)日：2024-08-06

申请号：CN202280086614.9

申请日：2022-12-23

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 上田博一 ,  浅野昌史 ,  贝塚考亘 ,  大槻友志 ,  梅原康敏

IPC: H01L21/66 ,  C23C16/505 ,  H01L21/31 ,  H01L21/677

Abstract: 本发明的判定方法包括：对形成有包含凹部的图案，在凹部进行了填埋材料的填埋的基板进行分光测量，测量填埋了填埋材料的基板的吸光度光谱的工序；和基于所测量的基板的吸光度光谱的多个波数下的强度的积分值，判定凹部的填埋状态的工序。

公开(公告)号：CN113820290B

公开(公告)日：2024-10-01

申请号：CN202110652858.6

申请日：2021-06-11

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 大槻友志 ,  加贺谷宗仁 ,  铃木悠介

IPC: G01N21/3563 ,  G01N21/35 ,  C23C16/52

Abstract: 本发明提供一种成膜方法和成膜装置，用于检测在形成有包括凹部的图案的基板上成膜出的膜的状态。在第一测定工序中，通过红外光谱法来测定形成有包括凹部的图案的基板。在成膜工序中，在第一测定工序之后，对基板进行膜的成膜。在第二测定工序中，在成膜工序之后，通过红外光谱法来测定基板。在提取工序中，提取第一测定工序的测定数据与第二测定工序的测定数据的差数据。

公开(公告)号：CN113820290A

公开(公告)日：2021-12-21

申请号：CN202110652858.6

申请日：2021-06-11

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 大槻友志 ,  加贺谷宗仁 ,  铃木悠介

IPC: G01N21/3563 ,  G01N21/35 ,  C23C16/52

Abstract: 本发明提供一种成膜方法和成膜装置，用于检测在形成有包括凹部的图案的基板上成膜出的膜的状态。在第一测定工序中，通过红外光谱法来测定形成有包括凹部的图案的基板。在成膜工序中，在第一测定工序之后，对基板进行膜的成膜。在第二测定工序中，在成膜工序之后，通过红外光谱法来测定基板。在提取工序中，提取第一测定工序的测定数据与第二测定工序的测定数据的差数据。