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公开(公告)号：CN100582977C
公开(公告)日：2010-01-20
申请号：CN200480014279.3
申请日：2004-05-11
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 詹姆斯·E·威利斯 , 原田智 , 爱德华·C·胡弥三世 , 詹姆斯·E·克雷克特卡
IPC: G05B19/418
CPC classification number: G05B19/4183 , G05B2219/31288 , Y02P90/10 , Y02P90/14
Abstract: 本发明描述了一种使用APC系统执行数据预填充功能的方法，其中APC系统耦合到处理元件。APC系统包括含有操作软件的APC计算机、耦合到APC计算机的数据库，以及GUI，并且处理元件包括工具、处理模块和传感器中的至少一种。当APC系统操作时，APC系统采集来自处理元件的数据，并将所采集的数据存储在数据库中。当发生APC故障时，可以执行数据恢复(数据预填充)。当某些历史数据缺失时，可以执行数据恢复(数据预填充)。当APC系统耦合到具有某些历史数据的新工具时，可以执行数据恢复(数据预填充)。
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公开(公告)号：CN1795422A
公开(公告)日：2006-06-28
申请号：CN200480014279.3
申请日：2004-05-11
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 詹姆斯·E·威利斯 , 原田智 , 爱德华·C·胡弥三世 , 詹姆斯·E·克雷克特卡
IPC: G05B19/418
CPC classification number: G05B19/4183 , G05B2219/31288 , Y02P90/10 , Y02P90/14
Abstract: 本发明描述了一种使用APC系统执行数据预填充功能的方法，其中APC系统耦合到处理元件。APC系统包括含有操作软件的APC计算机、耦合到APC计算机的数据库，以及GUI，并且处理元件包括工具、处理模块和传感器中的至少一种。当APC系统操作时，APC系统采集来自处理元件的数据，并将所采集的数据存储在数据库中。当发生APC故障时，可以执行数据恢复(数据预填充)。当某些历史数据缺失时，可以执行数据恢复(数据预填充)。当APC系统耦合到具有某些历史数据的新工具时，可以执行数据恢复(数据预填充)。
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公开(公告)号：CN1653598A
公开(公告)日：2005-08-10
申请号：CN03810355.9
申请日：2003-05-08
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/3065
CPC classification number: G05B13/048 , G05B23/0254 , H01J37/32862
Abstract: 本发明的等离子体处理结果的预测方法，是比较以下两个残差：基于处理装置清洗前的第一标准处理的主分量分析模型而得到的残差和基于该处理装置清洗后的或另外的处理装置的第二标准处理的主分量分析模型而得到的残差，从而确定加权基准并据此构筑第二标准处理的主分量分析模型而预测处理结果。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100355040C
公开(公告)日：2007-12-12
申请号：CN03805861.8
申请日：2003-03-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/3065
CPC classification number: H01L21/67276 , H01L21/67253
Abstract: 在现有的分析数据中，作为老化结束的判断基准的变化因老化而发生变化，即难于辨别是基于处理容器内的状态变化而变化，还是基于各个伪晶片间的温度变化而变化，进而难于判断老化是否结束。因此，本发明的等离子体处理方法，向等离子体处理装置(1)的处理容器(2)内提供伪晶片W，检测进行老化时的老化结束。其具有：向处理容器(2)内供给伪晶片W，在冷却处理容器(2)内之后，使用在向处理容器(2)内再次供给多个伪晶片W时得到的多个测量数据，来进行多变量分析，形成预测老化结束的预测式的步骤；基于该预测式，检测进行老化时的老化结束的步骤。
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公开(公告)号：CN1723423A
公开(公告)日：2006-01-18
申请号：CN200480001737.X
申请日：2004-02-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 希尤·A.·莱姆 , 凯文·A.·查姆尼斯 , 岳江宇 , 戴维·法特克 , 原田智 , 爱德华·C.·休姆三世 , 詹姆斯·E.·威利斯
IPC: G05B19/418 , H01L21/66
CPC classification number: Y02P90/02
Abstract: 一种为半导体制造环境自动配置先进工艺控制(APC)系统的方法，其中产生用于执行自动配置程序的自动配置脚本。自动配置脚本激活用于输入到自动配置程序中的默认值。执行自动配置脚本，以便产生从自动配置程序输出的启用参数文件。启用参数文件识别用于统计工艺控制(SPC)图表生成的参数。
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公开(公告)号：CN1643664A
公开(公告)日：2005-07-20
申请号：CN03805861.8
申请日：2003-03-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/3065
CPC classification number: H01L21/67276 , H01L21/67253
Abstract: 在现有的分析数据中，作为老化结束的判断基准的变化因老化而发生变化，即难于辨别是基于处理容器内的状态变化而变化，还是基于各个伪晶片间的温度变化而变化，进而难于判断老化是否结束。因此，本发明的等离子体处理方法，向等离子体处理装置(1)的处理容器(2)内提供伪晶片W，检测进行老化时的老化结束。其具有：向处理容器(2)内供给伪晶片W，在冷却处理容器(2)内之后，使用在向处理容器(2)内再次供给多个伪晶片W时得到的多个测量数据，来进行多变量分析，形成预测老化结束的预测式的步骤；基于该预测式，检测进行老化时的老化结束的步骤。
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公开(公告)号：CN1653598B
公开(公告)日：2010-05-05
申请号：CN03810355.9
申请日：2003-05-08
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/3065
CPC classification number: G05B13/048 , G05B23/0254 , H01J37/32862
Abstract: 本发明的等离子体处理结果的预测方法，是比较以下两个残差：基于处理装置清洗前的第一标准处理的主分量分析模型而得到的残差和基于该处理装置清洗后的或另外的处理装置的第二标准处理的主分量分析模型而得到的残差，从而确定加权基准并据此构筑第二标准处理的主分量分析模型而预测处理结果。
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公开(公告)号：CN100468256C
公开(公告)日：2009-03-11
申请号：CN200480001737.X
申请日：2004-02-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 希尤·A.·莱姆 , 凯文·A.·查姆尼斯 , 岳江宇 , 戴维·法特克 , 原田智 , 爱德华·C.·休姆三世 , 詹姆斯·E.·威利斯
IPC: G05B19/418 , H01L21/66
CPC classification number: Y02P90/02
Abstract: 一种为半导体制造环境自动配置先进工艺控制(APC)系统的方法，其中产生用于执行自动配置程序的自动配置脚本。自动配置脚本激活用于输入到自动配置程序中的默认值。执行自动配置脚本，以便产生从自动配置程序输出的启用参数文件。启用参数文件识别用于统计工艺控制(SPC)图表生成的参数。
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