公开(公告)号：CN112863988A

公开(公告)日：2021-05-28

申请号：CN202011311083.8

申请日：2020-11-20

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 白泽大辅 ,  佐藤直纪

IPC: H01J37/32

Abstract: 本发明提供一种清洁用的制程制作方法和清洁方法，用于高效地将附着于腔室内的沉积物去除。清洁用的制程制作方法包括蚀刻工序、测定工序以及制作工序。在蚀刻工序中，按预先决定的多个温度和多个压力的每个组合，使用被供给至腔室内的清洁气体对层叠在被搬入腔室内的试验基板上的金属化合物进行蚀刻。在测定工序中，按温度和压力的每个组合来测定金属化合物的蚀刻速率。在制作工序中，基于按温度和压力的每个组合测定出的金属化合物的蚀刻速率，来制作包括使蚀刻速率成为预先决定的蚀刻速率以上的温度和压力的组合的清洁用的制程。

公开(公告)号：CN116544136A

公开(公告)日：2023-08-04

申请号：CN202310048163.6

申请日：2023-01-31

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 长池宏史 ,  佐藤直纪 ,  小原真智 ,  长田英之

IPC: H01L21/67 ,  H01J37/32

Abstract: 本发明提供能够高效率地除去颗粒的基片处理系统和颗粒除去方法。颗粒除去动作具有下述工序：在将带电的至少一个带电部件载置在至少一个末端执行器上的状态下，在真空输送模块、基片处理模块、负载锁定模块和大气输送模块中的任一者的内部输送至少一个末端执行器。