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公开(公告)号：CN102866585B
公开(公告)日：2014-09-24
申请号：CN201210243584.6
申请日：2008-12-18
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/00 , C07C309/17 , C07C303/32 , C07C381/12 , C07D493/18 , C07D333/46
Abstract: 本发明涉及含有在酸的作用下对碱显影液的溶解性发生改变的基材成分(A)和通过曝光来产生酸的产酸剂成分(B)的抗蚀剂组合物，其特征在于，所述产酸剂成分(B)含有由下述通式(b1-1)表示的化合物形成的产酸剂(B1)，式中，RX是可以具有取代基(但氮原子除外)的烃基；Q2和Q3分别独立地为单键或2价的连接基团；Y1是碳原子数为1～4的亚烷基或氟代亚烷基；Z+是有机阳离子(但下述通式(w-1)表示的离子除外)。
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公开(公告)号：CN103309152A
公开(公告)日：2013-09-18
申请号：CN201310076590.1
申请日：2013-03-11
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: Y02P70/521
Abstract: 本发明提供一种抗蚀图形的形成方法，其包括：将正型抗蚀组合物涂布于包含太阳能电池基板的支承体上而形成抗蚀膜的工序，所述正型抗蚀剂含有酚醛清漆树脂(A)和感光剂(B)、且由所述的正型抗蚀剂形成的膜厚3μm的抗蚀膜的波长365nm的光的透射率为10％以上，所述感光剂(B)含有具有三(羟苯基甲烷骨架的酚类(B1)与含醌二叠氮基的磺酰化合物(B2)的酯化合物；对该抗蚀膜选择性地照射光而进行曝光的工序；和用碱性溶液将曝光后的该抗蚀膜显影而将曝光部分除去的工序。
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公开(公告)号：CN103576453B
公开(公告)日：2019-05-31
申请号：CN201310322524.8
申请日：2013-07-29
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供一种丝网印刷用墨液组合物，其适合于利用丝网印刷法在基板上形成用于形成图案的涂膜。本发明的一个方案的丝网印刷用墨液组合物含有基材树脂成分(A)、光活性化合物(B)和由沸点为200℃以上的有机溶剂构成的溶剂(C)。该丝网印刷用墨液组合物的表面张力为34.0mN/m以上且39.0mN/m以下。
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公开(公告)号：CN103941545A
公开(公告)日：2014-07-23
申请号：CN201410016449.7
申请日：2014-01-14
Applicant: 东京应化工业株式会社
Inventor： 吉井靖博
Abstract: 本发明提供使将蚀刻掩模用组合物印刷于太阳能电池用基板时的印刷性提高的太阳能电池用基板的蚀刻掩模用组合物。本发明的一个方案的太阳能电池用基板的蚀刻掩模用组合物为非感光性，其包含酚醛树脂(A)100质量份、SiO2粒子(B)20～100质量份及溶剂(C)。
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公开(公告)号：CN106986792A
公开(公告)日：2017-07-28
申请号：CN201710046671.5
申请日：2008-12-18
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: C07C303/32 , C07C309/17 , C07C381/12 , C07D493/08
Abstract: 本发明涉及含有在酸的作用下对碱显影液的溶解性发生改变的基材成分(A)和通过曝光来产生酸的产酸剂成分(B)的抗蚀剂组合物，其特征在于，所述产酸剂成分(B)含有由下述通式(b1－1)表示的化合物形成的产酸剂(B1)，式中，RX是可以具有取代基(但氮原子除外)的烃基；Q2和Q3分别独立地为单键或2价的连接基团；Y1是碳原子数为1～4的亚烷基或氟代亚烷基；Z+是有机阳离子(但下述通式(w‑1)表示的离子除外)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103576453A
公开(公告)日：2014-02-12
申请号：CN201310322524.8
申请日：2013-07-29
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供一种丝网印刷用墨液组合物，其适合于利用丝网印刷法在基板上形成用于形成图案的涂膜。本发明的一个方案的丝网印刷用墨液组合物含有基材树脂成分(A)、光活性化合物(B)和由沸点为200℃以上的有机溶剂构成的溶剂(C)。该丝网印刷用墨液组合物的表面张力为34.0mN/m以上且39.0mN/m以下。
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公开(公告)号：CN101464628A
公开(公告)日：2009-06-24
申请号：CN200810185226.8
申请日：2008-12-18
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/028 , G03F7/00 , C07C309/00
Abstract: 本发明涉及含有在酸的作用下对碱显影液的溶解性发生改变的基材成分(A)和通过曝光来产生酸的产酸剂成分(B)的抗蚀剂组合物，其特征在于，所述产酸剂成分(B)含有由下述通式(b1－1)表示的化合物形成的产酸剂(B1)，RX－Q3－O－Q2－Y1－SO3－Z+…(b1－1)；式中，RX是可以具有取代基(但氮原子除外)的烃基；Q2和Q3分别独立地为单键或2价的连接基团；Y1是碳原子数为1～4的亚烷基或氟代亚烷基；Z+是有机阳离子(但通式(w－1)表示的离子除外)。
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公开(公告)号：CN103941545B
公开(公告)日：2019-08-27
申请号：CN201410016449.7
申请日：2014-01-14
Applicant: 东京应化工业株式会社
Inventor： 吉井靖博
Abstract: 本发明提供使将蚀刻掩模用组合物印刷于太阳能电池用基板时的印刷性提高的太阳能电池用基板的蚀刻掩模用组合物。本发明的一个方案的太阳能电池用基板的蚀刻掩模用组合物为非感光性，其包含酚醛树脂(A)100质量份、SiO2粒子(B)20～100质量份及溶剂(C)。
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公开(公告)号：CN105086344A
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN201510230646.3
申请日：2015-05-08
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: C08L61/06 , C08K3/36 , C08K5/3445 , C08K5/3472
Abstract: 提供一种抗蚀剂组合物和使用该抗蚀剂组合物的导电图案的制造方法，该抗蚀剂组合物用于形成镀覆造形物制造用铸模，其印刷至基板时的印刷性、对基板的密合性、耐镀敷性和利用剥离液的剥离性优异。本发明涉及的抗蚀剂组合物用于形成镀覆造形物制造用铸模，其含有：线性酚醛树脂(A)；SiO2粒子(B)和/或由具有含有至少2个氮原子的五元芳环的杂环式化合物构成的密合剂(C)；以及溶剂(D)。本发明涉及的导电图案的制造方法包含：使用上述抗蚀剂组合物，通过印刷法在基板的表面上形成抗蚀剂图案的抗蚀剂图案形成工序；和以上述抗蚀剂图案作为铸模，通过镀覆在上述基板的表面上形成导电层的导电层形成工序。
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公开(公告)号：CN102866585A
公开(公告)日：2013-01-09
申请号：CN201210243584.6
申请日：2008-12-18
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/00 , C07C309/17 , C07C303/32 , C07C381/12 , C07D493/18 , C07D333/46
Abstract: 本发明涉及含有在酸的作用下对碱显影液的溶解性发生改变的基材成分(A)和通过曝光来产生酸的产酸剂成分(B)的抗蚀剂组合物，其特征在于，所述产酸剂成分(B)含有由下述通式(b1-1)表示的化合物形成的产酸剂(B1)，式中，RX是可以具有取代基(但氮原子除外)的烃基；Q2和Q3分别独立地为单键或2价的连接基团；Y1是碳原子数为1～4的亚烷基或氟代亚烷基；Z+是有机阳离子(但下述通式(w-1)表示的离子除外)。
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