公开(公告)号：CN1693994A

公开(公告)日：2005-11-09

申请号：CN200510069037.0

申请日：2005-04-29

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 菅田祥树 ,  金子文武 ,  立川俊和 ,  上野直久

IPC: G03F7/20 ,  G03F7/00 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/40 ,  H01L21/0273 ,  H01L21/0338 ,  H01L21/31144

Abstract: 本发明公开一种涂膜形成剂、及使用该涂膜形成剂形成微细图案的方法，该涂膜形成剂是一种按以下方式用于形成微缩图案的涂膜形成剂：在具有光致抗蚀剂图案的基板上涂覆该涂膜形成剂，利用该涂膜的热收缩作用缩小光致抗蚀剂图案的间隔，从而形成微细图案，其特征在于，该涂膜形成剂含有至少以甲基丙烯酸和/或甲基丙烯酸甲酯作为结构单体的水溶性聚合物。通过本发明，能够提供一种涂膜形成剂，以及使用该涂膜形成剂形成微细图案的方法，该涂膜形成剂的曝光极限范围宽，能够使光致抗蚀剂图案的尺寸控制反映为微细化图案的尺寸控制性，并且使热收缩作用后的光致抗蚀剂图案的形状保持为矩形而避免其顶部变为弧形，热收缩率高。