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公开(公告)号：CN106312795A
公开(公告)日：2017-01-11
申请号：CN201610481878.0
申请日：2016-06-27
Applicant: 不二越机械工业株式会社 , 国立大学法人九州大学
Abstract: 本发明提供一种研磨装置，其能够防止浆液的雾的飞散。研磨装置(10)具备：保持工件(20)的研磨头(18)；在表面上粘贴有研磨垫(16)的定盘(12)；将研磨用的浆液供给到研磨垫上的浆液供给部(24)；浆液接收件(26)，其沿着定盘的外周设置，接收从研磨垫流下的浆液；以及运动机构，其使研磨头(18)和定盘相对运动，特征在于，研磨装置具备成环状的浆液飞散防止用罩(34)，该浆液飞散防止用罩在与研磨垫的外周部上表面之间隔开间隙而覆盖研磨垫的外周部上表面，并且覆盖浆液接收件的上侧开口部，其中，所述间隙是能够使从浆液供给部供给到研磨垫上的浆液在研磨垫上向外侧流动的间隙。
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公开(公告)号：CN100534718C
公开(公告)日：2009-09-02
申请号：CN200510092424.6
申请日：2005-08-12
Applicant: 不二越机械工业株式会社
IPC: B24B37/04 , H01L21/304
CPC classification number: B24B37/08 , B24B41/007
Abstract: 上抛光板向下移动一直到面向下抛光板为止以便抛光工件。上抛光板连同第一弹性件、第二弹性件、外部件和连接件一起在一水平面中旋转。推压外部件或内部件向上的第一压力和推压外部件或内部件向下的第二压力之间的、通过供应加压流体进入和排出第一封闭空间中而在第一封闭空间中产生的压力差被调节，以便调节所述上抛光板的第三压力，该第三压力作用在工件上并同时抛光工件。
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公开(公告)号：CN102672597A
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：CN201110412522.9
申请日：2011-12-12
Applicant: 不二越机械工业株式会社
IPC: B24B37/08 , H01L21/304
CPC classification number: B24B37/28
Abstract: 在双面研磨装置中，研磨液供给孔的一端部具有内径朝向研磨板的研磨面逐渐增大的内锥形面。在研磨布的覆盖研磨液供给孔的部分形成有对应于研磨液供给孔的研磨布孔。研磨布孔的边缘位于研磨液供给孔中。在一端部形成面对内锥形面的凸缘部的固定管道被固定在研磨液供给孔中。研磨布孔的边缘被夹持在研磨液供给孔的内锥形面和固定管道的凸缘部之间。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1840290A
公开(公告)日：2006-10-04
申请号：CN200610074767.4
申请日：2006-04-03
Applicant: 不二越机械工业株式会社
IPC: B24B29/00 , H01L21/304
CPC classification number: H01L21/68728 , B24B37/345 , H01L21/68735 , H01L21/68785
Abstract: 该抛光设备可将一工件传送给一顶环而不会使该工件从中心位置移开并可精确地抛光该工件。该抛光设备具有用来将工件传送给顶环的一传送单元。该传送单元包括：一引导件，该引导件具有一接收部分，将工件中心定位；一安放台，该安放台相对于引导件垂直移动，且具有一安放部分，该安放部分接纳中心定位的工件；以及一支承机构，该支承机构支承安放台并使安放台可向下移动。该安放台相对移动而靠近顶环并将工件压到顶环的下表面上，从而将工件传送给所述顶环。
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公开(公告)号：CN102672597B
公开(公告)日：2015-09-30
申请号：CN201110412522.9
申请日：2011-12-12
Applicant: 不二越机械工业株式会社
IPC: B24B37/08 , H01L21/304
CPC classification number: B24B37/28
Abstract: 在双面研磨装置中，研磨液供给孔的一端部具有内径朝向研磨板的研磨面逐渐增大的内锥形面。在研磨布的覆盖研磨液供给孔的部分形成有对应于研磨液供给孔的研磨布孔。研磨布孔的边缘位于研磨液供给孔中。在一端部形成面对内锥形面的凸缘部的固定管道被固定在研磨液供给孔中。研磨布孔的边缘被夹持在研磨液供给孔的内锥形面和固定管道的凸缘部之间。
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公开(公告)号：CN100591480C
公开(公告)日：2010-02-24
申请号：CN200610074767.4
申请日：2006-04-03
Applicant: 不二越机械工业株式会社
IPC: B24B29/00 , H01L21/304
CPC classification number: H01L21/68728 , B24B37/345 , H01L21/68735 , H01L21/68785
Abstract: 该抛光设备可将一工件传送给一顶环而不会使该工件从中心位置移开并可精确地抛光该工件。该抛光设备具有用来将工件传送给顶环的一传送单元。该传送单元包括：一引导件，该引导件具有一接收部分，将工件中心定位；一安放台，该安放台相对于引导件垂直移动，且具有一安放部分，该安放部分接纳中心定位的工件；以及一支承机构，该支承机构支承安放台并使安放台可向下移动。该安放台相对移动而靠近顶环并将工件压到顶环的下表面上，从而将工件传送给所述顶环。
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公开(公告)号：CN115116817A
公开(公告)日：2022-09-27
申请号：CN202210263158.2
申请日：2022-03-17
Applicant: 国立大学法人长冈技术科学大学 , 土肥俊郎 , 不二越机械工业株式会社
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明提供工件加工装置，能够对使用难加工材料形成的工件实现高加工速率，在短时间内稳定地进行加工。本发明的工件加工装置(1)是使加工头(14)与保持于保持板(20)的上表面的工件(W)滑动接触而进行加工的工件加工装置，其中，加工头(14)具有产生等离子体而将等离子体照射到工件(W)的被加工面的等离子体电极(30)，等离子体电极(30)的设置于径向中心的环状或圆柱状的中心电极(31)和相对于中心电极(31)设置于径向外侧的环状的外周电极(32)在边界位置隔着环状的缝部(36)而配设，并且缝部(36)构成为等离子体产生空间，在中心电极(31)和外周电极(32)的底面设置有加工垫(40)。
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公开(公告)号：CN1739916A
公开(公告)日：2006-03-01
申请号：CN200510092424.6
申请日：2005-08-12
Applicant: 不二越机械工业株式会社
IPC: B24B37/04 , H01L21/304
CPC classification number: B24B37/08 , B24B41/007
Abstract: 上抛光板向下移动一直到面向下抛光板为止以便抛光工件。上抛光板连同第一弹性件、第二弹性件、外部件和连接件一起在一水平面中旋转。推压外部件或内部件向上的第一压力和推压外部件或内部件向下的第二压力之间的、通过供应加压流体进入和排出第一封闭空间中而在第一封闭空间中产生的压力差被调节，以便调节所述上抛光板的第三压力，该第三压力作用在工件上并同时抛光工件。
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