一种新型离子源
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109473334A

    公开(公告)日:2019-03-15

    申请号:CN201811623526.X

    申请日:2018-12-28

    Abstract: 本发明公开了一种新型离子源,包括底法兰、壳法兰、阴极法兰、绝缘套管、放电柱、进气装置、离子发生装置;底法兰的四周固定壳法兰;在壳法兰的顶部固定阴极法兰;在阴极法兰的顶部设置若干个放电柱安装孔;在放电柱安装孔内设置放电柱;进气装置设置在底法兰的圆心位置;进气装置穿过底法兰;穿入离子发生装置中并固定;进气装置与离子发生装置之间设置绝缘套管隔离;利用了本发明在结构上的改变,将阴极从单个零部件变成均布的几个点,使得发射的离子从以往的跑道形式变成整个面,这样的离子束流不仅密度大,均匀性好,方向性也强。同时由于轴向磁场的作用,离子能量也更高。

    一种预溅射时磁路组件可以转动的旋转阴极

    公开(公告)号:CN105624628A

    公开(公告)日:2016-06-01

    申请号:CN201610160459.7

    申请日:2016-03-21

    CPC classification number: C23C14/35 H01J37/3405

    Abstract: 本发明公开了一种预溅射时磁路组件可以转动的旋转阴极,包括进水管以及设置在进水管外部的磁路组件,其中,在进水管上端设置一个进水轴,所述进水轴与水接头相连接,进水轴与进水管相通,在进水轴的上端设置一个旋转气缸。所述旋转气缸与进水轴通过设置联动法兰实现传动。与现有技术相比,本发明的有益效果是:本发明提供了一种磁路可以转动的旋转阴极,磁路方向转变时,靶原子轰击的方向相应改变,就不需要在阴极和基底之间添加挡板机构,可以简化镀膜设备并节省设备空间。

    用于离子镀膜的弧源
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119265523A

    公开(公告)日:2025-01-07

    申请号:CN202411376092.3

    申请日:2024-09-30

    Abstract: 本发明涉及一种用于离子镀膜的弧源,采用了在安装组件内固定靶材组件;在靶材组件的下方固定绝缘法兰;在绝缘法兰下方用绝缘紧固组件,将水冷组件固定在安装组件上;在水冷组件的下方通过在水冷组件上的螺纹连接结构,将磁场组件与水冷组件固定连接;在安装组件的一侧固定连接引弧装置;引弧装置通过翻转引弧针,进行引弧;在本发明中改变了安装组件、水冷组件,磁场组件,引弧装置等装置的结构,避免了引弧针接触靶面的污染问题,解决了引弧的方式也导致离子镀膜的弧源体积较大的技术问题,减小了离子镀膜机的体积,降低了耗能等一系列的问题。解决了现有技术中的由于引弧的方式导致的问题。

    一种离子源
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN109473334B

    公开(公告)日:2024-07-26

    申请号:CN201811623526.X

    申请日:2018-12-28

    Abstract: 本发明公开了一种离子源,包括底法兰、壳法兰、阴极法兰、绝缘套管、放电柱、进气装置、离子发生装置;底法兰的四周固定壳法兰;在壳法兰的顶部固定阴极法兰;在阴极法兰的顶部设置若干个放电柱安装孔;在放电柱安装孔内设置放电柱;进气装置设置在底法兰的圆心位置;进气装置穿过底法兰;穿入离子发生装置中并固定;进气装置与离子发生装置之间设置绝缘套管隔离;利用了本发明在结构上的改变,将阴极从单个零部件变成均布的几个点,使得发射的离子从以往的跑道形式变成整个面,这样的离子束流不仅密度大,均匀性好,方向性也强。同时由于轴向磁场的作用,离子能量也更高。

    一种带气路且结构精简的小型圆形平面靶

    公开(公告)号:CN105624620B

    公开(公告)日:2018-04-03

    申请号:CN201610160460.X

    申请日:2016-03-21

    Abstract: 本发明公开了一种带气路且结构精简的小型圆形平面靶,包括波纹管和设置在波纹管上方的过渡法兰,过渡法兰外侧设置有安装法兰,安装法兰外侧设置阳极罩,阳极罩内部设置阴极主体部件,其中,在波纹管内侧纵向设置一个进气管,所述进气管的末端伸入过渡法兰的凹槽中,在所述安装法兰的左侧和右侧分别设置一个倾斜气孔,所述倾斜气孔与进气管相通,所述倾斜气孔与阳极罩内侧与阴极主体部件外侧形成的缝隙相连通。与现有技术相比,本发明的有益效果是:提供了一种磁路可以转动的旋转阴极,磁路方向转变时,靶原子轰击的方向相应改变,就不需要在阴极和基底之间添加挡板机构,可以简化镀膜设备并节省设备空间。

    一种带气路且结构精简的小型圆形平面靶

    公开(公告)号:CN105624620A

    公开(公告)日:2016-06-01

    申请号:CN201610160460.X

    申请日:2016-03-21

    CPC classification number: C23C14/3407 C23C14/35

    Abstract: 本发明公开了一种带气路且结构精简的小型圆形平面靶,包括波纹管和设置在波纹管上方的过渡法兰,过渡法兰外侧设置有安装法兰,安装法兰外侧设置阳极罩,阳极罩内部设置阴极主体部件,其中,在波纹管内侧纵向设置一个进气管,所述进气管的末端伸入过渡法兰的凹槽中,在所述安装法兰的左侧和右侧分别设置一个倾斜气孔,所述倾斜气孔与进气管相通,所述倾斜气孔与阳极罩内侧与阴极主体部件外侧形成的缝隙相连通。与现有技术相比,本发明的有益效果是:提供了一种磁路可以转动的旋转阴极,磁路方向转变时,靶原子轰击的方向相应改变,就不需要在阴极和基底之间添加挡板机构,可以简化镀膜设备并节省设备空间。

    一种预溅射时磁路组件可以转动的旋转阴极

    公开(公告)号:CN105624628B

    公开(公告)日:2018-08-10

    申请号:CN201610160459.7

    申请日:2016-03-21

    Abstract: 本发明公开了一种预溅射时磁路组件可以转动的旋转阴极,包括进水管以及设置在进水管外部的磁路组件,其中,在进水管上端设置一个进水轴,所述进水轴与水接头相连接,进水轴与进水管相通,在进水轴的上端设置一个旋转气缸。所述旋转气缸与进水轴通过设置联动法兰实现传动。与现有技术相比,本发明的有益效果是:本专利提供了一种磁路可以转动的旋转阴极,磁路方向转变时,靶原子轰击的方向相应改变,就不需要在阴极和基底之间添加挡板机构,可以简化镀膜设备并节省设备空间。

    气体冷凝装置
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104949540A

    公开(公告)日:2015-09-30

    申请号:CN201410117964.4

    申请日:2014-03-26

    Abstract: 本发明涉及一种气体的冷凝装置,包含水冷外管、设置在所述水冷外管内水冷内管,所述水冷外管的上下两端分别具有一出水口和一进水口;所述水冷内管的两端为不封闭的;所述气体冷凝装置还包含:插入所述水冷内管内的冷凝柱;所述水冷内管的外圆上等距套设有水冷环,通过所述水冷环与所述水冷外管的腔体进行密封,且每组水冷环上具有能够让冷凝水通过的缺口。同现有技术相比,水冷效果均匀,在过滤筒吸收过滤饱和之后,可进行清洗或替换,且操作简单。

    一种手动可同步调节高度和角度的圆靶挡板结构

    公开(公告)号:CN107338413B

    公开(公告)日:2023-06-23

    申请号:CN201710793854.3

    申请日:2017-09-06

    Abstract: 本发明公开了一种手动可同步调节高度和角度的圆靶挡板结构,其特征在于,包括圆靶、圆靶转向夹持机构、法兰、焊接波纹管组件、支撑管、密封结构、挡板;挡板调节机构;挡板设置在圆靶的上方,在圆靶的下方设置圆靶转向夹持机构;圆靶转向夹持机构的中间连接一焊接波纹管组件;焊接波纹管组件的下端连接支撑管;支撑管伸入设置在法兰上的密封结构;圆靶转向夹持机构的右侧夹持挡板调节机构;挡板调节机构随圆靶、圆靶转向夹持机构一起角度和高度同步调节;实现了在圆靶挡板结构中的挡板结构在高度和角度可以同步进行调节,进一步提升了圆靶镀膜的工艺连续性。

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