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公开(公告)号：CN105624628B
公开(公告)日：2018-08-10
申请号：CN201610160459.7
申请日：2016-03-21
Applicant: 上海福宜真空设备有限公司
Abstract: 本发明公开了一种预溅射时磁路组件可以转动的旋转阴极，包括进水管以及设置在进水管外部的磁路组件，其中，在进水管上端设置一个进水轴，所述进水轴与水接头相连接，进水轴与进水管相通，在进水轴的上端设置一个旋转气缸。所述旋转气缸与进水轴通过设置联动法兰实现传动。与现有技术相比，本发明的有益效果是：本专利提供了一种磁路可以转动的旋转阴极，磁路方向转变时，靶原子轰击的方向相应改变，就不需要在阴极和基底之间添加挡板机构，可以简化镀膜设备并节省设备空间。
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公开(公告)号：CN104894518A
公开(公告)日：2015-09-09
申请号：CN201410079238.8
申请日：2014-03-06
Applicant: 上海福宜真空设备有限公司
IPC: C23C14/35
Abstract: 本发明涉及一种平面阴极，包含靶材、壳体、设置在壳体内的软铁底板、设置在软铁底板上的磁阵，靶材位于所述磁阵的上方，所述磁阵包含N组并沿软铁底板的横向进行竖直的等距排列；所述磁阵包含：形成在软铁底板上的环形跑道、设置在软铁底板上被环形跑道所包围的第一磁铁、设置在软铁底板上用于包围环形跑道的第二磁铁；所述磁阵还包含：设置在环形跑道内用于隔离并固定第一磁铁和第二磁铁的铝块；其中，被铝块隔离的第一磁铁和第二磁铁的极性相反。同现有技术相比，由于需镀膜衬底在经过靶材上方的过程中需要通过多个磁阵形成的刻蚀跑道，从而使得靶材上溅射出的离子或原子会反复的覆盖在衬底的表面形成薄膜，以此来提高衬底镀膜的速度。
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公开(公告)号：CN105624628A
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：CN201610160459.7
申请日：2016-03-21
Applicant: 上海福宜真空设备有限公司
CPC classification number: C23C14/35 , H01J37/3405
Abstract: 本发明公开了一种预溅射时磁路组件可以转动的旋转阴极，包括进水管以及设置在进水管外部的磁路组件，其中，在进水管上端设置一个进水轴，所述进水轴与水接头相连接，进水轴与进水管相通，在进水轴的上端设置一个旋转气缸。所述旋转气缸与进水轴通过设置联动法兰实现传动。与现有技术相比，本发明的有益效果是：本发明提供了一种磁路可以转动的旋转阴极，磁路方向转变时，靶原子轰击的方向相应改变，就不需要在阴极和基底之间添加挡板机构，可以简化镀膜设备并节省设备空间。
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公开(公告)号：CN105624620B
公开(公告)日：2018-04-03
申请号：CN201610160460.X
申请日：2016-03-21
Applicant: 上海福宜真空设备有限公司
Abstract: 本发明公开了一种带气路且结构精简的小型圆形平面靶，包括波纹管和设置在波纹管上方的过渡法兰，过渡法兰外侧设置有安装法兰，安装法兰外侧设置阳极罩,阳极罩内部设置阴极主体部件，其中，在波纹管内侧纵向设置一个进气管，所述进气管的末端伸入过渡法兰的凹槽中，在所述安装法兰的左侧和右侧分别设置一个倾斜气孔，所述倾斜气孔与进气管相通，所述倾斜气孔与阳极罩内侧与阴极主体部件外侧形成的缝隙相连通。与现有技术相比，本发明的有益效果是：提供了一种磁路可以转动的旋转阴极，磁路方向转变时，靶原子轰击的方向相应改变，就不需要在阴极和基底之间添加挡板机构，可以简化镀膜设备并节省设备空间。
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公开(公告)号：CN105624620A
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：CN201610160460.X
申请日：2016-03-21
Applicant: 上海福宜真空设备有限公司
CPC classification number: C23C14/3407 , C23C14/35
Abstract: 本发明公开了一种带气路且结构精简的小型圆形平面靶，包括波纹管和设置在波纹管上方的过渡法兰，过渡法兰外侧设置有安装法兰，安装法兰外侧设置阳极罩,阳极罩内部设置阴极主体部件，其中，在波纹管内侧纵向设置一个进气管，所述进气管的末端伸入过渡法兰的凹槽中，在所述安装法兰的左侧和右侧分别设置一个倾斜气孔，所述倾斜气孔与进气管相通，所述倾斜气孔与阳极罩内侧与阴极主体部件外侧形成的缝隙相连通。与现有技术相比，本发明的有益效果是：提供了一种磁路可以转动的旋转阴极，磁路方向转变时，靶原子轰击的方向相应改变，就不需要在阴极和基底之间添加挡板机构，可以简化镀膜设备并节省设备空间。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN205556769U
公开(公告)日：2016-09-07
申请号：CN201620216458.5
申请日：2016-03-21
Applicant: 上海福宜真空设备有限公司
Abstract: 本实用新型公开了一种预溅射时磁路组件可以转动的旋转阴极，包括进水管以及设置在进水管外部的磁路组件，其中，在进水管上端设置一个进水轴，所述进水轴与水接头相连接，进水轴与进水管相通，在进水轴的上端设置一个旋转气缸。所述旋转气缸与进水轴通过设置联动法兰实现传动。与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：本专利提供了一种磁路可以转动的旋转阴极，磁路方向转变时，靶原子轰击的方向相应改变，就不需要在阴极和基底之间添加挡板机构，可以简化镀膜设备并节省设备空间。
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公开(公告)号：CN205556768U
公开(公告)日：2016-09-07
申请号：CN201620215908.9
申请日：2016-03-21
Applicant: 上海福宜真空设备有限公司
IPC: C23C14/35
Abstract: 本实用新型公开了一种带气路且结构精简的小型圆形平面靶，包括波纹管和设置在波纹管上方的过渡法兰，过渡法兰外侧设置有安装法兰，安装法兰外侧设置阳极罩,阳极罩内部设置阴极主体部件，其中，在波纹管内侧纵向设置一个进气管，所述进气管的末端伸入过渡法兰的凹槽中，在所述安装法兰的左侧和右侧分别设置一个倾斜气孔，所述倾斜气孔与进气管相通，所述倾斜气孔与阳极罩内侧与阴极主体部件外侧形成的缝隙相连通。与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：提供了一种磁路可以转动的旋转阴极，磁路方向转变时，靶原子轰击的方向相应改变，就不需要在阴极和基底之间添加挡板机构，可以简化镀膜设备并节省设备空间。
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公开(公告)号：CN203794976U
公开(公告)日：2014-08-27
申请号：CN201420098888.2
申请日：2014-03-06
Applicant: 上海福宜真空设备有限公司
IPC: C23C14/35
Abstract: 本实用新型涉及一种平面阴极，包含靶材、壳体、设置在壳体内的软铁底板、设置在软铁底板上的磁阵，靶材位于所述磁阵的上方，所述磁阵包含N组并沿软铁底板的横向进行竖直的等距排列；所述磁阵包含：形成在软铁底板上的环形跑道、设置在软铁底板上被环形跑道所包围的第一磁铁、设置在软铁底板上用于包围环形跑道的第二磁铁；所述磁阵还包含：设置在环形跑道内用于隔离并固定第一磁铁和第二磁铁的铝块；其中，被铝块隔离的第一磁铁和第二磁铁的极性相反。同现有技术相比，由于需镀膜衬底在经过靶材上方的过程中需要通过多个磁阵形成的刻蚀跑道，从而使得靶材上溅射出的离子或原子会反复的覆盖在衬底的表面形成薄膜，以此来提高衬底镀膜的速度。
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公开(公告)号：CN205556761U
公开(公告)日：2016-09-07
申请号：CN201620261204.5
申请日：2016-03-31
Applicant: 上海福宜真空设备有限公司
IPC: C23C14/00
Abstract: 本实用新型公开了一种可供镀膜设备使用的滚筒，包括上半体和下半体，其中，上半体包括第一侧面、第二侧面、第三侧面、第四侧面、第五侧面和第六侧面，下半体包括第七侧面、第八侧面、第九侧面、第十侧面、第十一侧面和第十二侧面，其中上半体的前述六个侧面与下半体的六个侧面交错相邻设置。通过上半体的六个侧面与下半体的六个侧面通过无缝焊接交错设置。使用本滚筒镀膜时，样品在滚筒内部分布均匀，处于“S”型曲线运动状态；样品可以沿滚筒拼接处翻滚，消除了叶片式滚筒的样品掉落时的碰撞，保证膜层质量。
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公开(公告)号：CN203764039U
公开(公告)日：2014-08-13
申请号：CN201420100921.0
申请日：2014-03-06
Applicant: 上海福宜真空设备有限公司
IPC: B01D46/24
Abstract: 本实用新型涉及一种废气处理装置，包含由第一和第二筒体构成的筒状外壳、设置在筒状外壳内的筒状内壳和固定板、分别设置在第一和第二筒体上的入口法兰和出口法兰；其中，筒状内壳和固定板相对设置并采用固定杆进行连接；所述废气处理装置还包含：设置在筒状内壳中的过滤筒；过滤筒包含N组并沿固定杆的轴心进行环形阵列，且筒状内壳的端部和固定板上对应过滤筒的安装位分别开设有与过滤筒导通的第一圆孔和第二圆孔。同现有技术相比，废气可通过管道由入口法兰传送到筒状外壳内，然后由筒状内壳端面的圆孔进入过滤筒内，由过滤筒进行处理后，再由出口法兰带出，最后可经过机械泵等抽气装置将其进行排出，从而达到处理废气的目的。
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