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公开(公告)号：CN119243111A
公开(公告)日：2025-01-03
申请号：CN202411376207.9
申请日：2024-09-30
Applicant: 中国核动力研究设计院 , 上海福宜真空设备有限公司
Abstract: 本发明涉及一种细长管件的真空镀膜设备，采用了在腔体结构的一侧固定若干个分子泵控制装置；在腔体结构的圆周上设置若干个弧源；弧源在腔体结构的圆周表面上螺旋上升布置；在腔体结构的外部设置电机传动装置；电机传动装置带动转架驱动装置旋转；在转架驱动装置上连接三维转架装置；在三维转架装置上放置细长管件；转架驱动装置上带动三维转架装置，使得细长管件在腔体结构转动的同时，细长管件在弧源的作用下进行镀膜。在弧源重新设计排列以及改变内部的结构以后，实现了对细长管件完全镀膜，解决了在现有的真空镀膜设备中，由于受限于弧源分布以及细长管件较长的尺寸，无法完全镀膜均匀，造成镀膜质量很差的技术问题。
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公开(公告)号：CN119265523A
公开(公告)日：2025-01-07
申请号：CN202411376092.3
申请日：2024-09-30
Applicant: 中国核动力研究设计院 , 上海福宜真空设备有限公司
Abstract: 本发明涉及一种用于离子镀膜的弧源，采用了在安装组件内固定靶材组件；在靶材组件的下方固定绝缘法兰；在绝缘法兰下方用绝缘紧固组件，将水冷组件固定在安装组件上；在水冷组件的下方通过在水冷组件上的螺纹连接结构，将磁场组件与水冷组件固定连接；在安装组件的一侧固定连接引弧装置；引弧装置通过翻转引弧针，进行引弧；在本发明中改变了安装组件、水冷组件，磁场组件，引弧装置等装置的结构，避免了引弧针接触靶面的污染问题，解决了引弧的方式也导致离子镀膜的弧源体积较大的技术问题，减小了离子镀膜机的体积，降低了耗能等一系列的问题。解决了现有技术中的由于引弧的方式导致的问题。
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公开(公告)号：CN104949540B
公开(公告)日：2017-02-08
申请号：CN201410117964.4
申请日：2014-03-26
Applicant: 上海福宜真空设备有限公司
IPC: F28B1/02
Abstract: 本发明涉及一种气体的冷凝装置，包含水冷外管、设置在所述水冷外管内水冷内管，所述水冷外管的上下两端分别具有一出水口和一进水口；所述水冷内管的两端为不封闭的；所述气体冷凝装置还包含：插入所述水冷内管内的冷凝柱；所述水冷内管的外圆上等距套设有水冷环，通过所述水冷环与所述水冷外管的腔体进行密封，且每组水冷环上具有能够让冷凝水通过的缺口。同现有技术相比，水冷效果均匀，在过滤筒吸收过滤饱和之后，可进行清洗或替换，且操作简单。
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公开(公告)号：CN104949540A
公开(公告)日：2015-09-30
申请号：CN201410117964.4
申请日：2014-03-26
Applicant: 上海福宜真空设备有限公司
IPC: F28B1/02
Abstract: 本发明涉及一种气体的冷凝装置，包含水冷外管、设置在所述水冷外管内水冷内管，所述水冷外管的上下两端分别具有一出水口和一进水口；所述水冷内管的两端为不封闭的；所述气体冷凝装置还包含：插入所述水冷内管内的冷凝柱；所述水冷内管的外圆上等距套设有水冷环，通过所述水冷环与所述水冷外管的腔体进行密封，且每组水冷环上具有能够让冷凝水通过的缺口。同现有技术相比，水冷效果均匀，在过滤筒吸收过滤饱和之后，可进行清洗或替换，且操作简单。
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公开(公告)号：CN104894518A
公开(公告)日：2015-09-09
申请号：CN201410079238.8
申请日：2014-03-06
Applicant: 上海福宜真空设备有限公司
IPC: C23C14/35
Abstract: 本发明涉及一种平面阴极，包含靶材、壳体、设置在壳体内的软铁底板、设置在软铁底板上的磁阵，靶材位于所述磁阵的上方，所述磁阵包含N组并沿软铁底板的横向进行竖直的等距排列；所述磁阵包含：形成在软铁底板上的环形跑道、设置在软铁底板上被环形跑道所包围的第一磁铁、设置在软铁底板上用于包围环形跑道的第二磁铁；所述磁阵还包含：设置在环形跑道内用于隔离并固定第一磁铁和第二磁铁的铝块；其中，被铝块隔离的第一磁铁和第二磁铁的极性相反。同现有技术相比，由于需镀膜衬底在经过靶材上方的过程中需要通过多个磁阵形成的刻蚀跑道，从而使得靶材上溅射出的离子或原子会反复的覆盖在衬底的表面形成薄膜，以此来提高衬底镀膜的速度。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112899636A
公开(公告)日：2021-06-04
申请号：CN202110117962.5
申请日：2021-01-28
Applicant: 中国核动力研究设计院
Abstract: 本发明公开了反应堆用大长径比管材真空镀膜机的工件架及其镀膜机，解决了现有的核反应堆用的大长径比的锆管镀膜所用的镀膜机的加热均匀性、电弧均匀性不好以及密封性不好，从而导致镀层要么结合力不足，要么均匀性不足，要么稳定性不足的技术问题。本发明包括公转组件和自转组件，所述公转组件包括大转盘和大齿轮，所述大转盘和大齿轮通过轴连接，所述大转盘位于所述大齿轮的下方，所述自转组件包括小齿轮和自转轴，所述小齿轮与所述大齿轮啮合，所述自转轴与所述大转盘连接，所述自转轴上安装工件。本发明具有镀膜均匀、结合力好等优点。
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公开(公告)号：CN112899636B
公开(公告)日：2022-04-15
申请号：CN202110117962.5
申请日：2021-01-28
Applicant: 中国核动力研究设计院
Abstract: 本发明公开了反应堆用大长径比管材真空镀膜机的工件架及其镀膜机，解决了现有的核反应堆用的大长径比的锆管镀膜所用的镀膜机的加热均匀性、电弧均匀性不好以及密封性不好，从而导致镀层要么结合力不足，要么均匀性不足，要么稳定性不足的技术问题。本发明包括公转组件和自转组件，所述公转组件包括大转盘和大齿轮，所述大转盘和大齿轮通过轴连接，所述大转盘位于所述大齿轮的下方，所述自转组件包括小齿轮和自转轴，所述小齿轮与所述大齿轮啮合，所述自转轴与所述大转盘连接，所述自转轴上安装工件。本发明具有镀膜均匀、结合力好等优点。
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公开(公告)号：CN203772050U
公开(公告)日：2014-08-13
申请号：CN201420140999.5
申请日：2014-03-26
Applicant: 上海福宜真空设备有限公司
IPC: F28B1/02
Abstract: 本实用新型涉及一种气体的冷凝装置，包含水冷外管、设置在所述水冷外管内水冷内管，所述水冷外管的上下两端分别具有一出水口和一进水口；所述水冷内管的两端为不封闭的；所述气体冷凝装置还包含：插入所述水冷内管内的冷凝柱；所述水冷内管的外圆上等距套设有水冷环，通过所述水冷环与所述水冷外管的腔体进行密封，且每组水冷环上具有能够让冷凝水通过的缺口。同现有技术相比，水冷效果均匀，在过滤筒吸收过滤饱和之后，可进行清洗或替换，且操作简单。
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公开(公告)号：CN203794976U
公开(公告)日：2014-08-27
申请号：CN201420098888.2
申请日：2014-03-06
Applicant: 上海福宜真空设备有限公司
IPC: C23C14/35
Abstract: 本实用新型涉及一种平面阴极，包含靶材、壳体、设置在壳体内的软铁底板、设置在软铁底板上的磁阵，靶材位于所述磁阵的上方，所述磁阵包含N组并沿软铁底板的横向进行竖直的等距排列；所述磁阵包含：形成在软铁底板上的环形跑道、设置在软铁底板上被环形跑道所包围的第一磁铁、设置在软铁底板上用于包围环形跑道的第二磁铁；所述磁阵还包含：设置在环形跑道内用于隔离并固定第一磁铁和第二磁铁的铝块；其中，被铝块隔离的第一磁铁和第二磁铁的极性相反。同现有技术相比，由于需镀膜衬底在经过靶材上方的过程中需要通过多个磁阵形成的刻蚀跑道，从而使得靶材上溅射出的离子或原子会反复的覆盖在衬底的表面形成薄膜，以此来提高衬底镀膜的速度。
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公开(公告)号：CN203764039U
公开(公告)日：2014-08-13
申请号：CN201420100921.0
申请日：2014-03-06
Applicant: 上海福宜真空设备有限公司
IPC: B01D46/24
Abstract: 本实用新型涉及一种废气处理装置，包含由第一和第二筒体构成的筒状外壳、设置在筒状外壳内的筒状内壳和固定板、分别设置在第一和第二筒体上的入口法兰和出口法兰；其中，筒状内壳和固定板相对设置并采用固定杆进行连接；所述废气处理装置还包含：设置在筒状内壳中的过滤筒；过滤筒包含N组并沿固定杆的轴心进行环形阵列，且筒状内壳的端部和固定板上对应过滤筒的安装位分别开设有与过滤筒导通的第一圆孔和第二圆孔。同现有技术相比，废气可通过管道由入口法兰传送到筒状外壳内，然后由筒状内壳端面的圆孔进入过滤筒内，由过滤筒进行处理后，再由出口法兰带出，最后可经过机械泵等抽气装置将其进行排出，从而达到处理废气的目的。
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