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公开(公告)号：CN106933059A
公开(公告)日：2017-07-07
申请号：CN201511032055.1
申请日：2015-12-31
申请人： 上海微电子装备有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70516 , G03F7/70766
摘要： 本发明提供一种在线监测补偿掩膜版热变形的装置和方法，在掩膜台上设置第一电极单元，在掩膜版上设置于第一电极单元极性相反的第二电极单元，第一电极单元与第二电极单元形成电极回路且构成微电容单元，并设置能够监测微电容单元电容值的控制单元，通过测量电容从而计算得到掩膜版变形后与掩膜台之间的距离，并且通过控制单元控制电极回路电压，从而控制掩膜版与掩膜台之间的静电力使得掩膜版向掩膜台运动，减少两者之间的距离从而补偿掩膜版的热变形，这样既可以在线实时监测掩膜版的热变形度也可以实时补偿掩膜版的热变形。
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公开(公告)号：CN106814549A
公开(公告)日：2017-06-09
申请号：CN201510859956.1
申请日：2015-11-30
申请人： 上海微电子装备有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明提供一种阻尼框架结构，在垂直方向上从下至上依次为减振器、吊框、支承柱以及主基板，所述减振器支撑所述吊框，所述支承柱支撑所述主基板，所述支承柱放置在所述吊框上，所述支承柱和所述主基板内部设置有空腔，并在所述空腔内填充有吸振物，所述吸振物吸收所述阻尼框架结构的振动。本发明通过在承载光学测量系统的主基板以及支撑主基板的支承柱内部空腔内填充吸振物，当地基的振动被减振器减缓后，支承柱和主基板内的吸振物能够进一步吸收减少振动，这样位于主基板上的光学测量系统受到的振动被大幅度地减缓，且由于吸振物被填充在主基板与支承柱内部，无需另外占用空间，因此这种阻尼框架结构具有占用空间少、减振作用显著的优点。
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公开(公告)号：CN103472681B
公开(公告)日：2015-07-22
申请号：CN201210189442.6
申请日：2012-06-08
申请人： 上海微电子装备有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明公开了一种光刻机运动台反力抵消装置及应用其的光刻机。光刻机运动台反力抵消装置包括反力框架、配重块、阻尼元件以及弹性元件。配重块设置于光刻机运动台电机定子的一端。阻尼元件一端连接于电机定子的一端，另一端连接于反力框架。弹性元件设置于电机定子的两端。电机定子设置在滑块上，滑块设置在运动台大理石之上的固定直线导轨上，滑块带动电机定子沿固定直线导轨做直线运动。当电机定子与滑块、配重块一起在电机驱动反力作用下沿导轨做直线运动时，电机定子将会沿反力方向运动，其动能在配重块与阻尼元件的作用下逐渐衰减。本发明公开的光刻机运动台反力抵消装置缓冲行程小，并可达到衰减运动台反力的效果。
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公开(公告)号：CN104749891A
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：CN201310734603.X
申请日：2013-12-27
申请人： 上海微电子装备有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明提出一种抓手自锁的硅片边缘保护装置，包括伺服电机、减速机构、垂向运动机构以及抓手装置，其特征在于：所述抓手装置包括一向下的锥面凸轮以及紧贴锥面凸轮的推杆，所述抓手装置在垂向运动的过程中，所述锥面凸轮的锥面通过推杆推动杠杆带动抓爪打开、合拢。本发明提出的抓手自锁的硅片边缘保护装置，结构简单，工艺性好，加工制造容易，自定心性好，适应性强，且具有自锁功能，并能防止保护环夹紧变形。
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公开(公告)号：CN103967989A
公开(公告)日：2014-08-06
申请号：CN201310030305.2
申请日：2013-01-25
申请人： 上海微电子装备有限公司
IPC分类号： F16F9/02
摘要： 本发明公开了一种减震装置，包括框体、垂向活塞、水平向活塞以及多个膜片，其中，所述框体的顶部与内部框架连接，所述框体的底部与地基连接，所述垂向活塞设置在所述框体内并通过膜片与所述框体形成第一气腔和第二气腔，所述水平向活塞也设置在所述框体内，并通过所述膜片与框体形成第三气腔和第四气腔。本发明的减震装置，既能够在不增加减振装置高度的情况下，增加减振装置的水平向控制力、控制成本和发热量，又能提高所述减振装置垂向控制力的速度。
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公开(公告)号：CN103573815A
公开(公告)日：2014-02-12
申请号：CN201210270601.5
申请日：2012-07-31
申请人： 上海微电子装备有限公司
摘要： 本发明提供一种微动台及气浮轴承，该微动台采用支瓦型静压气浮轴承对微动台上的硅片或玻璃基片进行高精度的支撑及导向工作，采用驱动电机组对微动板进行Z、θx、θy、θz向微行程运动，该支瓦型静压气浮轴承包括轴承定轴及数个环绕定轴均匀布置的瓦块装置，在所述瓦块装置与所述轴承定轴之间通气形成气膜，所述瓦块装置能够随所述微动台一起运动，制造的气膜也能够随之倾斜以起到支撑和导向的作用。
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公开(公告)号：CN101226345A
公开(公告)日：2008-07-23
申请号：CN200810033381.8
申请日：2008-01-31
申请人： 上海微电子装备有限公司
摘要： 本发明提供一种光刻机投影物镜安装调平装置，用于调平带有安装法兰的投影物镜。它包括安装基板，三个柔性块，安装件和固定件。柔性块前端通过固定件与投影物镜的安装法兰连接，柔性块底座通过安装件安装在安装基板；柔性块前端中部开有第一狭长槽，柔性块后端与第一狭长槽相向方向开有第二狭长槽，柔性块后端装有一调节杆。该调平装置采用三个等圆周均布的柔性块，调节柔性块的调节杆实现柔性块前端的翘起和压下以调节投影物镜水平度，并利用两狭长槽形成的弹性支点避免外界的振动和冲击给投影物镜带来的损害。
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公开(公告)号：CN101042539A
公开(公告)日：2007-09-26
申请号：CN200610147842.5
申请日：2006-12-22
申请人： 上海微电子装备有限公司
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
摘要： 本发明属于投影曝光技术领域，具体公开了一种悬挂式支撑成像系统，以及带有此种成像系统的光刻装置。其包括成像系统和支撑装置，其特征在于：还包括状态检测传感器和主动执行装置，所述状态检测传感器固定设置在成像系统上；所述主动执行装置设置在成像系统外侧，其与状态检测传感器相连用于接收位置状态传感器得到的信号并控制校正成像系统的位置；支撑装置为悬挂构件，成像系统悬挂在悬挂构件的下端。本发明成像系统通过采用悬挂式连接结构，使整个成像系统与光刻装置实现分系统分离式的主动隔振，从而改善掩模支撑与投影物镜的相对振动模态，以降低掩模版与曝光系统光轴间的相对误差对同步扫描质量的影响。
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公开(公告)号：CN106814550A
公开(公告)日：2017-06-09
申请号：CN201510859960.8
申请日：2015-11-30
申请人： 上海微电子装备有限公司
摘要： 本发明公开了一种工件台基板交接装置与预对准方法，所述装置包括设置在工件台上的检测反馈装置和气浮导轨装置、安装在气浮导轨装置上的运动基台、安装在运动基台上的支撑台、安装在支撑台上的带有气孔的基板台，气浮导轨装置控制运动基台沿X、Y向移动到基板交接位置，基板台上设置有真空吸盘装置，基板台周边的支撑台上设置有旋转夹紧机构；基板台利用气浮承放基板，真空吸盘装置吸附基板，旋转夹紧机构用于夹紧基板，根据检测反馈装置的检测真空吸盘装置以自身为中心旋转，进而实现基板沿Rz方向旋转，完成基板的交接和预对准。本发明不仅为基板的上板和预对准节省了时间，还采用无接触式的检测反馈装置有效避免了污染和损坏基板。
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公开(公告)号：CN104749891B
公开(公告)日：2017-03-29
申请号：CN201310734603.X
申请日：2013-12-27
申请人： 上海微电子装备有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明提出一种抓手自锁的硅片边缘保护装置，包括伺服电机、减速机构、垂向运动机构以及抓手装置，其特征在于：所述抓手装置包括一向下的锥面凸轮以及紧贴锥面凸轮的推杆，所述抓手装置在垂向运动的过程中，所述锥面凸轮的锥面通过推杆推动杠杆带动抓爪打开、合拢。本发明提出的抓手自锁的硅片边缘保护装置，结构简单，工艺性好，加工制造容易，自定心性好，适应性强，且具有自锁功能，并能防止保护环夹紧变形。
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