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公开(公告)号:CN107783378B
公开(公告)日:2019-10-25
申请号:CN201610766749.6
申请日:2016-08-30
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种光刻机垂向微动结构和控制方法,其将光刻机曝光台下方设置至少四个传感器,并使用包含能够测量冗余位置的测量转换矩阵的计算分析系统,对四个传感器所发送的位置信号进行分析,以光刻机曝光台的期望位置为目标,分析光刻机曝光台垂向运动至期望位置时的加速度,由于使用上述计算分析系统能够将冗余位置测量出,因此在计算分析的时候能够将这些无用的冗余数据过滤,精确地分析出光刻机曝光台垂向运动至期望位置时所需的驱动力和加速度,因此本发明相对于现有技术能够提高对光刻机曝光台垂向微动控制的精度。
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公开(公告)号:CN106158669B
公开(公告)日:2018-11-09
申请号:CN201510197621.8
申请日:2015-04-24
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
Abstract: 本发明公开一种准同步封装的装置,包括:一激光功率控制器,用于控制一激光器提供一不同功率的激光光束;一振镜单元,该振镜单元包括一X‑Y向振镜以及一角度测量传感器,该激光光束经该X‑Y向振镜反射在一待封装物体表面形成一封装光斑,该角度测量传感器用于测量该X‑Y向振镜的偏转角度;一振镜检测控制单元,该振镜检测控制单元与该振镜单元以及该激光功率控制器相连,根据该X‑Y向振镜的偏转角度控制该激光功率控制器。
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公开(公告)号:CN107783378A
公开(公告)日:2018-03-09
申请号:CN201610766749.6
申请日:2016-08-30
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种光刻机垂向微动结构和控制方法,其将光刻机曝光台下方设置至少四个传感器,并使用包含能够测量冗余位置的测量转换矩阵的计算分析系统,对四个传感器所发送的位置信号进行分析,以光刻机曝光台的期望位置为目标,分析光刻机曝光台垂向运动至期望位置时的加速度,由于使用上述计算分析系统能够将冗余位置测量出,因此在计算分析的时候能够将这些无用的冗余数据过滤,精确地分析出光刻机曝光台垂向运动至期望位置时所需的驱动力和加速度,因此本发明相对于现有技术能够提高对光刻机曝光台垂向微动控制的精度。
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