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公开(公告)号：CN114660899B
公开(公告)日：2024-11-15
申请号：CN202011528727.9
申请日：2020-12-22
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种柔性支撑平台系统，其属于光刻技术领域，包括基体、承载台、气浮支撑件和柔性解耦件，承载台用于承载掩模板或者硅片，承载台能够相对于基体沿设定方向移动；气浮支撑件设置于基体与承载台之间；柔性解耦件设置于所述气浮支撑件与所述承载台之间，所述柔性解耦件上开设有间隙，所述间隙将所述柔性解耦件分割为刚性支撑部和柔性解耦部，所述柔性解耦部能够在外部的力和热的作用下变形以实现解耦。由于间隙的存在，柔性解耦部能够在外部的力和热的作用下变形以实现解耦，当柔性解耦部发生变形时，间隙为形变提供空间，使得外部的力和热不会作用于承载台，即变形不会传递至承载台，进而保证承载台沿设定方向的移动精度。
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公开(公告)号：CN113589651B
公开(公告)日：2023-03-24
申请号：CN202010367533.9
申请日：2020-04-30
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
Inventor： 王昱
Abstract: 本发明公开了一种气浮轴承装置及光刻设备，其属于光刻技术领域，气浮轴承装置包括轴承本体和预载磁铁，轴承本体具有多个气浮面和中部区域，多个所述气浮面关于所述中部区域对称分布且与所述中部区域之间间隔设置形成缝隙；预载磁铁设于所述中部区域上。预载磁铁与气浮面之间的连接断开，在磁预载时，预载磁铁受到预载力，使得预载力不会直接传递至气浮面上，减少磁预载对气浮面的变形影响。光刻设备包括上述气浮轴承装置。由于预载力不会直接传递至气浮面上，减少磁预载对气浮面的变形影响，使得光刻设备的可靠性提高，加工精度较高。
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公开(公告)号：CN109860072B
公开(公告)日：2021-06-04
申请号：CN201711243383.5
申请日：2017-11-30
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明公开了一种变轨迹悬空物支撑机构，包括线夹、滑动伸缩杆和架体连接块；所述滑动伸缩杆的两端分别与所述线夹铰接和所述架体连接块铰接，形成可转动连接；所述线夹夹设于变轨迹悬空物的重心处，所述架体连接块固定安装在加工设备的机架上。本发明具有结构简单、支撑力大且节省水平向空间等优点。同时，提供包括该变轨迹悬空物支撑机构的粗微动台。
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公开(公告)号：CN113309785B
公开(公告)日：2022-09-02
申请号：CN202010124737.X
申请日：2020-02-27
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
Inventor： 王昱
Abstract: 本发明提供一种气浮轴承装置、一种运动台和一种光刻设备。气浮轴承装置包括气浮单元和支撑单元，气浮单元中轴承主体的安装面设置有第一调节结构，支撑单元中支座主体设置有贯穿表面的安装孔，调节块从支座主体一侧可拆卸且高度可调地设置在安装孔内，调节块一端设置有第二调节结构。调整调节块在安装孔内的高度可以调整气浮单元，气浮轴承装置的各部件间为可拆卸连接，可以实现快速对气浮单元进行安装、更换以及调试。本发明提供一种运动台，包括运动台框架、导轨和气浮轴承装置。对运动台中的气浮轴承装置进行安装和维护时不需要把运动台框架大幅度提升，可以提升运动台安装和维护的效率。本发明还提供一种光刻设备。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109860072A
公开(公告)日：2019-06-07
申请号：CN201711243383.5
申请日：2017-11-30
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明公开了一种变轨迹悬空物支撑机构，包括线夹、滑动伸缩杆和架体连接块；所述滑动伸缩杆的两端分别与所述线夹铰接和所述架体连接块铰接，形成可转动连接；所述线夹夹设于变轨迹悬空物的重心处，所述架体连接块固定安装在加工设备的机架上。本发明具有结构简单、支撑力大且节省水平向空间等优点。同时，提供包括该变轨迹悬空物支撑机构的粗微动台。
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公开(公告)号：CN113309785A
公开(公告)日：2021-08-27
申请号：CN202010124737.X
申请日：2020-02-27
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
Inventor： 王昱
Abstract: 本发明提供一种气浮轴承装置、一种运动台和一种光刻设备。气浮轴承装置包括气浮单元和支撑单元，气浮单元中轴承主体的安装面设置有第一调节结构，支撑单元中支座主体设置有贯穿表面的安装孔，调节块从支座主体一侧可拆卸且高度可调地设置在安装孔内，调节块一端设置有第二调节结构。调整调节块在安装孔内的高度可以调整气浮单元，气浮轴承装置的各部件间为可拆卸连接，可以实现快速对气浮单元进行安装、更换以及调试。本发明提供一种运动台，包括运动台框架、导轨和气浮轴承装置。对运动台中的气浮轴承装置进行安装和维护时不需要把运动台框架大幅度提升，可以提升运动台安装和维护的效率。本发明还提供一种光刻设备。
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公开(公告)号：CN114660899A
公开(公告)日：2022-06-24
申请号：CN202011528727.9
申请日：2020-12-22
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种柔性支撑平台系统，其属于光刻技术领域，包括基体、承载台、气浮支撑件和柔性解耦件，承载台用于承载掩模板或者硅片，承载台能够相对于基体沿设定方向移动；气浮支撑件设置于基体与承载台之间；柔性解耦件设置于所述气浮支撑件与所述承载台之间，所述柔性解耦件上开设有间隙，所述间隙将所述柔性解耦件分割为刚性支撑部和柔性解耦部，所述柔性解耦部能够在外部的力和热的作用下变形以实现解耦。由于间隙的存在，柔性解耦部能够在外部的力和热的作用下变形以实现解耦，当柔性解耦部发生变形时，间隙为形变提供空间，使得外部的力和热不会作用于承载台，即变形不会传递至承载台，进而保证承载台沿设定方向的移动精度。
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公开(公告)号：CN113589651A
公开(公告)日：2021-11-02
申请号：CN202010367533.9
申请日：2020-04-30
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
Inventor： 王昱
Abstract: 本发明公开了一种气浮轴承装置及光刻设备，其属于光刻技术领域，气浮轴承装置包括轴承本体和预载磁铁，轴承本体具有多个气浮面和中部区域，多个所述气浮面关于所述中部区域对称分布且与所述中部区域之间间隔设置形成缝隙；预载磁铁设于所述中部区域上。预载磁铁与气浮面之间的连接断开，在磁预载时，预载磁铁受到预载力，使得预载力不会直接传递至气浮面上，减少磁预载对气浮面的变形影响。光刻设备包括上述气浮轴承装置。由于预载力不会直接传递至气浮面上，减少磁预载对气浮面的变形影响，使得光刻设备的可靠性提高，加工精度较高。
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公开(公告)号：CN215526347U
公开(公告)日：2022-01-14
申请号：CN202121763059.8
申请日：2021-07-30
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本实用新型属于光刻机设备技术领域，公开了一种掩模台电机更换装置，该掩模台电机更换装置包括：支撑组件，其设有连接部；升降组件，其连接于所述支撑组件；运动组件，其分别与所述升降组件和掩模台电机连接，所述运动组件被配置为能够沿水平方向与所述支撑组件滑动连接，所述运动组件还被配置为能够在所述升降组件的驱动作用下带动所述掩模台电机沿竖直方向上下移动。该更换装置实现了掩模台电机的快速装配集成和维修维护，操作高效、便捷；实现了掩模台电机的维护、掩模台电机和掩模台电机更换装置的整体吊装及远程输送，进一步提高电机的装配集成和维修维护效率，适应性强、可操作性强。
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