-
公开(公告)号：CN105316629A
公开(公告)日：2016-02-10
申请号：CN201510808060.0
申请日：2015-11-19
Applicant: 上海应用技术学院
Abstract: 本发明涉及一种超硬纳微米多层复合涂层及其制备方法，该超硬纳微米多层复合涂层由TiAlSiN层、TiCN层、TiN层构成，其涂层结构由里到外依次为TiN层、TiCN层、TiAlSiN层，该涂层的制备方法为物理气相沉积，各层涂层结构均为纳微米复合结构，本发明制备的TiAlSiN/TiCN/TiN多层涂层厚度为2.5～3.5um，具有高的硬度、耐磨性及抗高温氧化性，其过渡层结构不仅提高了涂层与基体的结合力，减少了涂层生长的本征应力及热应力，而且能够大幅度提高工模具的使用性能及工作寿命；本发明同现有技术相比，其涂层结构是由阴极电弧离子镀沉积而成，阴极电弧离子镀具有离化率高、绕镀性强及沉积温度低等特点，相比其它方法制备的涂层具有更加优异的性能。
-
公开(公告)号：CN105316629B
公开(公告)日：2018-11-23
申请号：CN201510808060.0
申请日：2015-11-19
Applicant: 上海应用技术学院
Abstract: 本发明涉及一种超硬纳微米多层复合涂层及其制备方法，该超硬纳微米多层复合涂层由TiAlSiN层、TiCN层、TiN层构成，其涂层结构由里到外依次为TiN层、TiCN层、TiAlSiN层，该涂层的制备方法为物理气相沉积，各层涂层结构均为纳微米复合结构，本发明制备的TiAlSiN/TiCN/TiN多层涂层厚度为2.5～3.5um，具有高的硬度、耐磨性及抗高温氧化性，其过渡层结构不仅提高了涂层与基体的结合力，减少了涂层生长的本征应力及热应力，而且能够大幅度提高工模具的使用性能及工作寿命；本发明同现有技术相比，其涂层结构是由阴极电弧离子镀沉积而成，阴极电弧离子镀具有离化率高、绕镀性强及沉积温度低等特点，相比其它方法制备的涂层具有更加优异的性能。
-
公开(公告)号：CN105769056A
公开(公告)日：2016-07-20
申请号：CN201610281790.4
申请日：2016-04-29
Applicant: 上海应用技术学院
IPC: A47L11/204 , A47L11/40
CPC classification number: A47L11/206 , A47L11/4038 , A47L11/4066 , A47L11/4094
Abstract: 本发明公开了一种自动扫地机，包括第一清扫机构、第二清扫机构、移动机构、电源机构，电源机构分别与第一清扫机构、第二清扫机构和移动机构电连接。电源机构用以提供第一清扫机构、第二清扫机构和移动机构电力，扫地机通过移动机构移动，第一清扫机构和第二清扫机构用以清扫地上不同尺寸的垃圾，第一清扫机构清扫的垃圾尺寸较第二清扫机构的大。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105769056B
公开(公告)日：2018-09-18
申请号：CN201610281790.4
申请日：2016-04-29
Applicant: 上海应用技术学院
IPC: A47L11/204 , A47L11/40
Abstract: 本发明公开了一种自动扫地机，包括第一清扫机构、第二清扫机构、移动机构、电源机构，电源机构分别与第一清扫机构、第二清扫机构和移动机构电连接。电源机构用以提供第一清扫机构、第二清扫机构和移动机构电力，扫地机通过移动机构移动，第一清扫机构和第二清扫机构用以清扫地上不同尺寸的垃圾，第一清扫机构清扫的垃圾尺寸较第二清扫机构的大。
-
公开(公告)号：CN104593737A
公开(公告)日：2015-05-06
申请号：CN201510015662.0
申请日：2015-01-13
Applicant: 上海应用技术学院
Abstract: 本发明提供一种高硅超硬PVD涂层制备工艺，具体步骤：1.工件表面的预处理,2.装夹及载入工件；3.炉腔抽真空；4.工件加热；5.靶材及工件的刻蚀清洗；6.高硅涂层的制备；7.工件冷却。本发明通过控制镀膜炉腔的真空度、基体的偏压、氮气的流量以及靶电流等，获得高硅超硬PVD涂层。反应气体氮气（N2）的流量范围为130-210sccm，基体偏压范围为40-120V，炉腔真空度范围为0.005-0.060mbar。通过改变组成涂层元素的成分，得到高的硅元素含量，使涂层具有更高的强度、硬度、耐磨性、高温稳定性和耐蚀性能。该工艺制备的涂层刀具可以切削硬度为HRC65的材料，相比传统的涂层，具有更好的使用性能。
-
公开(公告)号：CN104593724A
公开(公告)日：2015-05-06
申请号：CN201510015703.6
申请日：2015-01-13
Applicant: 上海应用技术学院
Abstract: 本发明涉及一种掺杂硅元素的类金刚石涂层的制备工艺，采用的设备是在理气相沉积设备和光放电装置，其制备步骤是：对工件表面预处理，真空炉中通入氩气，对工件进行等离子清洗；向真空炉腔内通入氮气，以Cr为靶材，通过物理气相沉积技术在工件表面沉积CrN过渡层；向真空炉中通入乙炔和四甲基硅烷，通过等离子辉光放电技术制备顶层为硅元素掺杂的类金刚石涂层。通过控制炉腔真空度、基体偏压、氮气流量、四甲基硅烷流量、乙炔流量、靶材电流大小来制备类金刚石涂层。本发明制备的掺杂硅元素的类金刚石涂层具有沉积温度低（小于180℃）、结合力好、硬度高（维氏硬度大于HV2800）、摩擦系数低（小于0.05）、耐腐蚀、抗氧化等优点。
-
公开(公告)号：CN205133727U
公开(公告)日：2016-04-06
申请号：CN201520930966.5
申请日：2015-11-19
Applicant: 上海应用技术学院
Abstract: 本实用新型涉及一种超硬纳微米多层复合涂层，该超硬纳微米多层复合涂层由TiAlSiN层、TiCN层、TiN层构成，其涂层结构由里到外依次为TiN层、TiCN层、TiAlSiN层，该涂层的制备方法为物理气相沉积，各层涂层结构均为纳微米复合结构，该TiAlSiN/TiCN/TiN多层涂层厚度为2.5～3.5um，具有高的硬度、耐磨性及抗高温氧化性，其过渡层结构不仅提高了涂层与基体的结合力，减少了涂层生长的本征应力及热应力，而且能够大幅度提高工模具的使用性能及工作寿命；本实用新型同现有技术相比，其涂层结构是由阴极电弧离子镀沉积而成，阴极电弧离子镀具有离化率高、绕镀性强及沉积温度低等特点，相比其它方法制备的涂层具有更加优异的性能。
-
公开(公告)号：CN205729250U
公开(公告)日：2016-11-30
申请号：CN201620384596.4
申请日：2016-04-29
Applicant: 上海应用技术学院
IPC: A47L11/204 , A47L11/40
Abstract: 本实用新型公开了一种自动扫地机，包括第一清扫机构、第二清扫机构、移动机构、电源机构，电源机构分别与第一清扫机构、第二清扫机构和移动机构电连接。电源机构用以提供第一清扫机构、第二清扫机构和移动机构电力，扫地机通过移动机构移动，第一清扫机构和第二清扫机构用以清扫地上不同尺寸的垃圾，第一清扫机构清扫的垃圾尺寸较第二清扫机构的大。
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
8
records
(took 0.018 seconds)
