公开(公告)号：CN112859539B

公开(公告)日：2022-11-11

申请号：CN202110084626.5

申请日：2021-01-21

Applicant: 上海应用技术大学

Inventor： 李以贵 ,  范若欣 ,  赖丽燕 ,  王欢 ,  张成功

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明涉及一种X射线曝光装置，包括套筒(1)和与套筒(1)连接的移动工作台(2)，所述的套筒(1)内设置有掩模版(3)和光刻胶基板(4)，套筒(1)上设有入光口(11)，X射线通过入光口(11)进入套筒(1)内。与现有技术相比，本发明不仅可以有效保护了光刻掩模版，而且此装置可以有效提高光刻的效率以及达到高精度的光刻效果，做到批量生产。

公开(公告)号：CN112859539A

公开(公告)日：2021-05-28

申请号：CN202110084626.5

申请日：2021-01-21

Applicant: 上海应用技术大学

Inventor： 李以贵 ,  范若欣 ,  赖丽燕 ,  王欢 ,  张成功

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明涉及一种X射线曝光装置，包括套筒(1)和与套筒(1)连接的移动工作台(2)，所述的套筒(1)内设置有掩模版(3)和光刻胶基板(4)，套筒(1)上设有入光口(11)，X射线通过入光口(11)进入套筒(1)内。与现有技术相比，本发明不仅可以有效保护了光刻掩模版，而且此装置可以有效提高光刻的效率以及达到高精度的光刻效果，做到批量生产。