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公开(公告)号:CN101587830A
公开(公告)日:2009-11-25
申请号:CN200810037746.4
申请日:2008-05-21
Applicant: 上海市纳米科技与产业发展促进中心 , 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
IPC: H01L21/02 , H01L21/027 , H01L21/308 , B82B3/00 , G03F7/00
Abstract: 本发明是关于纳米线P-N结阵列制备和纳米加工方法,尤其是硅纳米线P-N结阵列(SiNW P-N junction array)的纳米加工方法。其特征在于:采用纳米压印技术制作纳米线P-N结阵列,与现有的技术相比,本发明具有易于大面积制作、低成本和高产等优点,适合工业化生产,为具有P-N结构的纳电子器件的构筑提供了一种简单的高效加工途径。
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公开(公告)号:CN101587916A
公开(公告)日:2009-11-25
申请号:CN200810037745.X
申请日:2008-05-21
Applicant: 上海市纳米科技与产业发展促进中心 , 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
IPC: H01L31/18
CPC classification number: Y02P70/521
Abstract: 本发明是关于纳米线阵列太阳能电池制备和纳米加工方法,尤其是Si纳米线阵列太阳能电池的纳米加工方法。包括:两个电极和在两个电极之间加工出Si纳米线pn结阵列。本发明用纳米压印技术(Nanoimprint lithography)和结合微电子工艺加工出来的Si纳米线阵列太阳能电池(SiNws array solar cells),纳米线分布均匀,成本较低和易于大面积加工,与传统的微电子工艺有较好的兼容性。这种纳电池在民用设备领域、生物恐怖主义监控领域和内科诊断领域等有重要的应用前景。
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