阻尼结构体及阻尼覆膜形成方法

    公开(公告)号:CN1099558C

    公开(公告)日:2003-01-22

    申请号:CN96105476.X

    申请日:1996-04-25

    CPC classification number: G10K11/16 G10K11/168 Y10S181/403

    Abstract: 一种阻尼结构体及阻尼覆膜形成方法,将混合有光聚合开始材料的减振性高分子材料的熔液涂敷到被减振结构物的表面上后,用光照射该被减振结构物,在其表面上形成阻尼覆膜,制得阻尼结构体,从而可将传递到管道和板形部件等各种被减振结构物的振动和音响很好地吸收掉。由于上述阻尼覆膜可通过光照射而迅速硬化,因此可大幅度提高生产率,还由于可通过调整高分子材料的融化温度来调整阻尼覆膜的膜厚,所以可获得与振动和音响状况相符的吸振吸音效果。

    阻尼结构体及阻尼覆膜形成方法

    公开(公告)号:CN1144317A

    公开(公告)日:1997-03-05

    申请号:CN96105476.X

    申请日:1996-04-25

    CPC classification number: G10K11/16 G10K11/168 Y10S181/403

    Abstract: 一种阻尼结构体及阻尼覆膜形成方法,将混合有光聚合开始材料的减振性高分子材料的熔液涂敷到被减振结构物的表面上后,用光照射该被减振结构物,在其表面上形成阻尼覆膜,制得阻尼结构体,从而可将传递到管道和板形部件等各种被减振结构物的振动和音响很好地吸收掉。由于上述阻尼覆膜可通过光照射而迅速硬化,因此可大幅度提高生产率,还由于可通过调整高分子材料的融化温度来调整阻尼覆膜的膜厚,所以可获得与振动和音响状况相符的吸振吸音效果。

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