半导体装置的制造方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109314049A

    公开(公告)日:2019-02-05

    申请号:CN201780031354.4

    申请日:2017-06-09

    Abstract: 半导体装置的制造方法包含:准备包含第1半导体层和第2半导体层的半导体基板的步骤和从第1半导体层侧对半导体基板照射激光从而将半导体基板切片为半导体芯片的步骤。第1半导体层包含对激光透明的半导体材料。第2半导体层包含对激光不透明的半导体材料。关于激光,照射使第1半导体层的半导体材料变化为对激光不透明的强度的激光。

    半导体元件的制造方法及制造装置

    公开(公告)号:CN107636805B

    公开(公告)日:2020-12-11

    申请号:CN201680032946.3

    申请日:2016-06-20

    Abstract: 本发明的半导体元件的制造方法通过使激光(21)的聚光光点形状成为椭圆、使激光(21)聚光到半导体基板(10)与作为蒸发压力封闭薄片的固定用薄片(14)的界面(15)的预定分离线(12a)上而进行照射,将由于照射而产生的蒸发压力封闭在半导体基板(10)与固定用薄片(14)之间来作为针对半导体基板(10)的弯曲力发挥作用,使初始裂纹(13a)延伸。由此,能够减小激光(21)的能量,能够降低对半导体基板(10)的元件区域(11)的热损伤和碎屑,并且能够稳定地得到平坦性良好的分离面。

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