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公开(公告)号：CN104755526A
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：CN201380057269.7
申请日：2013-10-21
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C08G59/42 , C07D307/60
CPC classification number: C08G59/4238 , C07D307/60 , C08G59/24 , C08G59/245 , C08G59/4215 , C08K5/1345
Abstract: 本发明的环氧树脂固化剂包含下述式(1)所表示的化合物。(式(1)中，R表示甲基、乙基或羟基，n为1～3的整数。)
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公开(公告)号：CN104281006A
公开(公告)日：2015-01-14
申请号：CN201410350098.3
申请日：2007-11-01
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/00 , C08G8/20 , C07C69/736 , C07C67/31
CPC classification number: G03F7/0045 , C07C37/20 , C07C39/12 , C07C39/17 , C07C39/42 , C07C45/49 , C07C59/70 , C07C65/105 , C07C69/736 , C07C2601/14 , C07C2603/74 , C07C2603/92 , C07D307/33 , C08G8/04 , C08G8/08 , C08G8/20 , G03F7/022 , G03F7/038 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/108 , Y10S430/109 , C07C47/546
Abstract: 本发明提供了含有高灵敏度、高分辨力、高耐蚀刻性、低逸气量、以及得到的抗蚀图形的形状良好的抗蚀剂化合物的放射线敏感性组合物；以及使用该放射线敏感性组合物的抗蚀图形的形成方法；以及光学特性和耐蚀刻性良好的、而且实质上无升华物的用于形成新的光刻胶下层膜的组合物及由其形成的下层膜。该放射线敏感性组合物含有具有特定结构的环状化合物和溶剂，所述环状化合物为通过醛类化合物A1和酚类化合物A2的缩合反应而合成的分子量为700-5000的环状化合物A，其中所述醛类化合物A1为碳原子数为2-59且具有1-4个甲酰基的化合物，所述酚类化合物A2为碳原子数为6-15且具有1-3个酚羟基的化合物。还提供了用于该组合物的环状化合物。
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公开(公告)号：CN102648173A
公开(公告)日：2012-08-22
申请号：CN201080055311.8
申请日：2010-09-27
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
CPC classification number: G03F7/0382 , C07C37/20 , C08G8/04 , C07C39/17
Abstract: 公开的是：在安全溶剂中具有高溶解度、高灵敏度并能够提供具有良好形状抗蚀图案的环状化合物；生产该环状化合物的方法；包含该环状化合物的放射线敏感性组合物；和使用该放射线敏感性组合物形成抗蚀图案的方法。具体公开的是：具有特定结构的环状化合物；包含该化合物的放射线敏感性组合物；和使用该组合物形成抗蚀图案的方法。
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公开(公告)号：CN102272116A
公开(公告)日：2011-12-07
申请号：CN201080004223.5
申请日：2010-01-07
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C07D319/06 , C08G63/19
CPC classification number: C07D319/06 , G02B1/041
Abstract: 本发明提供作为合成树脂、合成树脂用添加剂、医药品、化妆品、食品添加剂和表面活性剂等的原料和中间体有用的二元醇化合物以及制造该化合物的方法。其是下述通式(1)所示的二元醇化合物。(式中，R表示碳原子数为1～12的烷基、取代或未取代的碳原子数为6～10的芳基或卤原子，n表示1～4的整数，当n表示2～4的整数时，多个R相互可以相同也可以不同。)。
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公开(公告)号：CN101528653A
公开(公告)日：2009-09-09
申请号：CN200780040498.2
申请日：2007-11-01
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C07C39/17 , C07C59/72 , C07C65/105 , C07C69/736 , C08G8/20 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/11 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供了含有高灵敏度、高分辨力、高耐蚀刻性、低逸气量、以及得到的抗蚀图形的形状良好的抗蚀剂化合物的放射线敏感性组合物；以及使用该放射线敏感性组合物的抗蚀图形的形成方法；以及光学特性和耐蚀刻性良好的、而且实质上无升华物的用于形成新的光刻胶下层膜的组合物及由其形成的下层膜。尤其是提供了放射线敏感性组合物，该放射线敏感性组合物含有具有特定结构的环状化合物和溶剂，其中所述具有特定结构的环状化合物为通过醛类化合物A1和酚类化合物A2的缩合反应而合成的分子量为700－5000的环状化合物A，其中所述醛类化合物A1为碳原子数为2－59且具有1－4个甲酰基的化合物，所述酚类化合物A2为碳原子数为6－15且具有1－3个酚羟基的化合物。还提供了用于该组合物的环状化合物。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105658610A
公开(公告)日：2016-06-08
申请号：CN201480057079.X
申请日：2014-10-22
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C07C39/17 , B01J27/053 , C07C37/16 , C08G64/06 , C07B61/00
CPC classification number: C07C39/17 , C07C37/16 , C07C2603/74 , C08G64/06 , C08G64/24
Abstract: 根据本发明能够提供由下述式(1)所表示的1,3-双(羟基苯基)-5-乙基金刚烷化合物及其制造方法以及包含该化合物而成的芳香族聚碳酸酯树脂及其制造方法。(式中，R表示碳数1～6的烷基、碳数3～6的环烷基或苯基，n表示0～2的整数。)
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公开(公告)号：CN102712746B
公开(公告)日：2016-02-24
申请号：CN201080060421.3
申请日：2010-12-24
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C08G63/181 , C08G63/189 , G02B1/04
CPC classification number: G02B1/041 , C08G63/181 , C08G63/672 , C08K5/1575 , C08L67/02 , C08L67/03
Abstract: 一种聚酯树脂，其含有来自乙二醇和下述通式（I）所示的二元醇单元及含有50摩尔%以上来自芳香族二元羧酸的单元的二元羧酸单元，全部二元醇单元中的40～99摩尔%是来自乙二醇的单元，全部二元醇单元中的1～60摩尔%是来自下述通式（I）所示的二元醇的单元。（式中，A表示选自苯、萘、蒽、菲和芘中的芳香环。R1表示碳原子数为1～12的烷基、取代或非取代的碳原子数为6～12的芳基或卤原子，n表示0～4的整数。在存在多个R1时，多个R1可以互相相同也可以不同）。
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公开(公告)号：CN101088046A
公开(公告)日：2007-12-12
申请号：CN200580044296.6
申请日：2005-12-26
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: G03F7/039 , C07C39/15 , C07C43/205 , C07C43/23 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0045 , C07C39/15 , C07C43/164 , C07C43/18 , C07C43/196 , C07C43/2055 , C07C43/225 , C07C43/315 , C07C49/747 , C07C69/96 , C07C2601/14 , C07C2603/74 , G03F7/0392 , Y10S430/106
Abstract: 本发明的放射线敏感性组合物包含1～80重量％的固体成分和20～99重量％的溶剂。固体成分含有化合物(B)，所述化合物(B)满足下述条件：(a)具有向多酚化合物(A)的至少一个酚性羟基导入酸解离性官能团的结构，所述多酚化合物(A)通过碳原子数为12～36、2～4价的芳香族酮或芳香族醛与碳原子数6～15、含有1～3个酚性羟基的化合物的缩合反应而合成；和(b)分子量为400～2000。含有化合物(B)的组合物对KrF准分子激光、远紫外线、电子射线或X射线等放射线为高敏感度，可以形成高分辨率、高耐热性、高耐蚀刻性的抗蚀剂图案，从而可以有效用作酸增殖型非高分子类抗蚀剂材料。
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公开(公告)号：CN1606598A
公开(公告)日：2005-04-13
申请号：CN02825652.2
申请日：2002-12-20
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C08L67/02 , C08G63/672 , C08J5/00 , C08L69/00
CPC classification number: C08L67/02 , C08G63/672 , C08K3/013 , C08L67/025 , C08L69/00 , C08L2666/18 , C08L2666/02
Abstract: 本发明提供了具有优异透明性、耐热性、耐化学品性和机械强度以及模塑性、可印性等的热塑性树脂组合物。该热塑性树脂组合物含有2－99.5wt％的量的聚碳酸酯树脂和98－0.5wt％的量的聚酯树脂，该聚酯树脂(B)含有20－60mol％的量的各自具有环状缩醛骨架的二醇单元。
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公开(公告)号：CN104281006B
公开(公告)日：2019-01-22
申请号：CN201410350098.3
申请日：2007-11-01
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/00 , C08G8/20 , C07C69/736 , C07C67/31
Abstract: 本发明提供了含有高灵敏度、高分辨力、高耐蚀刻性、低逸气量、以及得到的抗蚀图形的形状良好的抗蚀剂化合物的放射线敏感性组合物；以及使用该放射线敏感性组合物的抗蚀图形的形成方法；以及光学特性和耐蚀刻性良好的、而且实质上无升华物的用于形成新的光刻胶下层膜的组合物及由其形成的下层膜。该放射线敏感性组合物含有具有特定结构的环状化合物和溶剂，所述环状化合物为通过醛类化合物A1和酚类化合物A2的缩合反应而合成的分子量为700‑5000的环状化合物A，其中所述醛类化合物A1为碳原子数为2‑59且具有1‑4个甲酰基的化合物，所述酚类化合物A2为碳原子数为6‑15且具有1‑3个酚羟基的化合物。还提供了用于该组合物的环状化合物。
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