公开(公告)号：CN112602175A

公开(公告)日：2021-04-02

申请号：CN201980055634.8

申请日：2019-08-27

Applicant: 三菱化学株式会社

Inventor： 柴田俊明 ,  河瀬康弘 ,  原田宪 ,  伊藤笃史 ,  草野智博 ,  竹下祐太朗

IPC: H01L21/304 ,  C11D7/22 ,  C11D7/26 ,  C11D7/32 ,  C11D17/08

Abstract: 本发明涉及清洗液，其包含成分(A)：下述通式(1)所表示的化合物、成分(B)：烷基胺、成分(C)：多元羧酸、成分(D)：抗坏血酸，其中，成分(A)的质量相对于成分(B)和成分(C)的合计质量之比为1～15。(所述通式(1)中，R1、R2、R3分别与说明书中所记载的定义相同。)。

公开(公告)号：CN112602175B

公开(公告)日：2025-03-11

申请号：CN201980055634.8

申请日：2019-08-27

Applicant: 三菱化学株式会社

Inventor： 柴田俊明 ,  河瀬康弘 ,  原田宪 ,  伊藤笃史 ,  草野智博 ,  竹下祐太朗

IPC: H01L21/304 ,  C11D7/22 ,  C11D7/26 ,  C11D7/32 ,  C11D17/08

Abstract: 本发明涉及清洗液，其包含成分(A)：下述通式(1)所表示的化合物、成分(B)：烷基胺、成分(C)：多元羧酸、成分(D)：抗坏血酸，其中，成分(A)的质量相对于成分(B)和成分(C)的合计质量之比为1～15。(所述通式(1)中，R1、R2、R3分别与说明书中所记载的定义相同。)。#imgabs0#

公开(公告)号：CN113692640A

公开(公告)日：2021-11-23

申请号：CN202080028580.9

申请日：2020-04-07

Applicant: 三菱化学株式会社

Inventor： 柴田俊明 ,  河瀬康弘

IPC: H01L21/304 ,  C11D7/32 ,  C11D17/08

Abstract: 本发明涉及一种在研磨工序后使用的清洗液，其包含成分(A)：下述通式(1)所表示的化合物；成分(B)：碱性化合物；以及成分(C)：水，表面活性剂的含量为0.001质量％以下。所述通式(1)中，R1、R2各自独立地表示羟基或酚基。

公开(公告)号：CN110447090A

公开(公告)日：2019-11-12

申请号：CN201880019482.1

申请日：2018-03-20

Applicant: 三菱化学株式会社

Inventor： 柴田俊明 ,  原田宪 ,  草野智博 ,  竹下祐太朗 ,  河瀬康弘

IPC: H01L21/304 ,  C11D7/26 ,  C11D7/32 ,  C11D17/08

Abstract: 本发明涉及一种半导体器件用基板的清洗液，该清洗液的pH为8以上11.5以下，该清洗液含有：成分(A)：含有选自由下述通式(1)～(3)所表示的化合物组成的组中的至少一种的化合物；成分(B)：抗坏血酸；成分(C)：多元羧酸或羟基羧酸；成分(D)：pH调节剂；以及成分(E)：水。(所述式中，R1～R6、R11～R17和R21～R28分别与说明书中记载的定义相同。)