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    硅锭切片用含水切削液
    2.
    发明公开
    硅锭切片用含水切削液 失效

    公开(公告)号：CN103502409A

    公开(公告)日：2014-01-08

    申请号：CN201280014979.7

    申请日：2012-03-29

    申请人： 三洋化成工业株式会社

    发明人： 福岛刚 ,  胜川吉隆 ,  山下圣二

    IPC分类号： C10M173/02 ,  B28D5/04 ,  H01L21/304 ,  C10N30/04 ,  C10N30/18 ,  C10N40/22

    CPC分类号： C10M173/02 ,  C10M2209/104 ,  C10N2220/021 ,  C10N2240/50 ,  C10M2209/105

    摘要： 本发明提供一种切削液，此切削液在硅锭的切削工序中，加工热的冷却性、渗透性、水与硅的反应抑制性、抑泡性比原有的切削液更良好，因此可以提高切削加工效率。另外，硅晶圆的平坦性也良好，因此即便在严酷的切片条件下也能将被加工面的表面精度维持得高。本发明的硅锭切片用含水切削液的特征在于：含有下述通式(1)所表示的具有3个～8个羟基的化合物(a)的聚氧亚烷基加成物(A)与水作为必需成分，并且该聚氧亚烷基加成物(A)的亲水亲油平衡值为6.0～20.0。R{O-(A1O)m-H}f (1)[式(1)中，R表示从具有3个～8个羟基的化合物中去掉羟基所得的残基，(A1O)表示碳数为2～4的氧亚烷基；m表示碳数为2～4的环氧烷的平均加成摩尔数且为1～350的数，f为3～8的整数。]

    蚀刻液和电子基板的制造方法
    3.
    发明授权
    蚀刻液和电子基板的制造方法 有权

    公开(公告)号：CN108699706B

    公开(公告)日：2021-01-01

    申请号：CN201780013656.9

    申请日：2017-04-20

    申请人： 三洋化成工业株式会社

    发明人： 儿岛俊贵 ,  佐藤祥平 ,  胜川吉隆

    IPC分类号： C23F1/44 ,  H01L21/306 ,  H01L21/308

    摘要： 本发明的目的在于提供一种蚀刻液，其能够从具有铜和/或铜合金以及镍和/或镍合金的基材中选择性地除去铜和/或铜合金。本发明的蚀刻液是从具有铜和/或铜合金与镍或镍合金的基材中对上述铜和/或铜合金进行蚀刻的蚀刻液，上述蚀刻液含有有机酸(A)和氧化剂(B)，上述有机酸(A)的酸解离常数(pKa)为‑1.10～2.60，使用镍作为工作电极、使用以饱和KCl溶液填充的Ag/AgCl作为参比电极、使用上述蚀刻液作为电解质溶液测定的第一腐蚀电位为0.1V以上、0.5V以下。

    蚀刻液和电子基板的制造方法
    5.
    发明公开
    蚀刻液和电子基板的制造方法 有权

    公开(公告)号：CN108699706A

    公开(公告)日：2018-10-23

    申请号：CN201780013656.9

    申请日：2017-04-20

    申请人： 三洋化成工业株式会社

    发明人： 儿岛俊贵 ,  佐藤祥平 ,  胜川吉隆

    IPC分类号： C23F1/44 ,  H01L21/306 ,  H01L21/308

    摘要： 本发明的目的在于提供一种蚀刻液，其能够从具有铜和/或铜合金以及镍和/或镍合金的基材中选择性地除去铜和/或铜合金。本发明的蚀刻液是从具有铜和/或铜合金与镍或镍合金的基材中对上述铜和/或铜合金进行蚀刻的蚀刻液，上述蚀刻液含有有机酸(A)和氧化剂(B)，上述有机酸(A)的酸解离常数(pKa)为‑1.10～2.60，使用镍作为工作电极、使用以饱和KCl溶液填充的Ag/AgCl作为参比电极、使用上述蚀刻液作为电解质溶液测定的第一腐蚀电位为0.1V以上、0.5V以下。

    液体漂白洗涤剂组合物
    7.
    发明授权
    液体漂白洗涤剂组合物 有权

    公开(公告)号：CN100503803C

    公开(公告)日：2009-06-24

    申请号：CN200610065995.5

    申请日：2006-03-29

    申请人： 三洋化成工业株式会社 ,  庄臣株式会社

    发明人： 胜川吉隆 ,  坂本智惠

    IPC分类号： C11D3/395 ,  C11D1/14

    摘要： 本发明提供一种液体漂白洗涤剂组合物，其中次氯酸碱金属盐的稳定性优异，该洗涤剂对于含有无机物的霉污的洗涤性能优异。所述液体漂白洗涤剂组合物为水溶液状，其含有如下物质：式(1)和/或式(1’)所示的阴离子性表面活性剂(A)，式(2)所示的链烷磺酸盐(B)，式(3)所示的氧化胺(C)，呈碱性的化合物(D)，次氯酸碱金属盐(E)，羧酸碱金属盐(F)和水(G)，其特征在于，按质量基准，含有的(A)和(B)的合计为0.1%～7%，(C)为0.1%～7%，(D)为0.1%～10%，(E)为0.5%～10%，(F)为0.01%～0.5%，(A)/(B)(质量比)为1/100至1/2.5，pH值(25℃)为5～13.5，而且弱酸值为0.03mgKOH/g～0.5mgKOH/g。