公开(公告)号：CN1800437A

公开(公告)日：2006-07-12

申请号：CN200610002583.7

申请日：2006-01-05

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 郑星和 ,  黄珉婷

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/54 ,  H01L21/677

Abstract: 一种用于以高速传送垂直托盘的装置，该装置能够感知该托盘的进入和卸下。该装置包括传送单元，该传送单元具有由驱动源驱动以形成传送路径的滑轮。这些滑轮与固定部件接触，该固定部件被附着到固定到托盘上的基板和罩板的底边上。该装置还包括传感单元，该传感单元具有安装在该传送路径下以探测托盘的进入和卸下的传感器。该装置还可以包括被布置以与托盘上部两侧接触的辊子，并且这些辊子可以与嵌入沿着传送路径的导轨的运动部件连接，以便当托盘经过两个辊子之间时，辊子能够平移。这些沿托盘两侧的辊子可以对称布置或者以锯齿形交替布置。

公开(公告)号：CN1800433A

公开(公告)日：2006-07-12

申请号：CN200610000350.3

申请日：2006-01-06

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 黄珉婷

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/54

Abstract: 沉积系统及其控制方法利用噪声消除器消除在测量沉积率的过程中产生的噪声的影响，以精确地控制沉积率，并获得理想厚度的薄膜。沉积系统包括沉积设备。沉积率传感器测量沉积设备的沉积率。噪声消除器消除所测量的沉积率的噪声成分。能量供给单元根据噪声消除器的输出调整提供给沉积设备的能量。

公开(公告)号：CN1854332A

公开(公告)日：2006-11-01

申请号：CN200610091638.6

申请日：2006-03-09

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 李星昊 ,  金秀涣 ,  黄珉婷

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/54

CPC classification number: C23C14/243 ,  C23C14/56

Abstract: 一种多真空蒸镀装置及其控制方法。真空蒸镀装置包括多个蒸发源、适合旋转该多个蒸发源的旋转部件和适合在任何时候遮挡所述多个蒸发源中除了一个以外的其它所有蒸发源的涂镀挡板，所述多个蒸发源中的每一个都包括一个壳体、一个设置在所述壳体内的坩锅、在坩锅内的蒸发材料、一个设置在坩锅外部并适合加热和蒸发所述蒸发材料的加热装置、一个适合阻挡由加热装置产生的热向外传递的冷却装置。

公开(公告)号：CN1824829A

公开(公告)日：2006-08-30

申请号：CN200610000429.6

申请日：2006-01-05

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 黄珉婷 ,  李星昊

IPC: C23C14/54 ,  C23C16/52 ,  H01L21/205 ,  H01L51/56 ,  G05D5/02

CPC classification number: C23C14/24 ,  C23C14/042 ,  C23C14/12 ,  C23C14/546

Abstract: 一种测量沉积材料的沉积厚度的方法，包括利用传感器测量从喷射室喷射的材料的沉积率，以及利用采用所测量的沉积率和传感器的使用时间的寿命值作为参数的转化公式计算沉积在基板上的材料的沉积厚度。

公开(公告)号：CN1800434A

公开(公告)日：2006-07-12

申请号：CN200610000374.9

申请日：2006-01-06

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 黄珉婷 ,  宋官燮 ,  金度根 ,  安宰弘 ,  李星昊

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/54

Abstract: 本发明提供了一种用于控制喷射器的方法。在控制沉积系统中的包括熔罐、引导通路和喷射喷嘴的喷射器的方法中，加热引导通路和喷射喷嘴。在加热引导通路和喷射喷嘴后加热熔罐。此外，在冷却包括熔罐、引导通路和喷射喷嘴的喷射器中，冷却熔罐。在冷却熔罐后，冷却引导通路和喷射喷嘴。这种方法的优点在于通过防止由熔罐中蒸发的沉积材料导致喷射喷嘴形成阻塞或喷溅来提高形成在基底上的有机层的均匀性。