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公开(公告)号：CN1821136A
公开(公告)日：2006-08-23
申请号：CN200510104699.7
申请日：2005-12-17
Applicant: 三星SDI株式会社
CPC classification number: C03C2217/40
Abstract: 提供一种由含选自稀土元素中的至少一种稀土元素的氧化镁制成的保护层，其中至少一种稀土元素的含量为约5.0×10－5－约6.0×10－4/1重量份氧化镁，用于形成该保护层的复合物，形成该保护层的方法和含有该保护层的等离子体显示面板。该保护层可以降低放电延迟时间和放电延迟时间的温度依赖性，因此，适合于单扫描以及Xe含量的增加。
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公开(公告)号：CN1825522A
公开(公告)日：2006-08-30
申请号：CN200610004029.2
申请日：2006-01-11
Applicant: 三星SDI株式会社
CPC classification number: H01J11/40 , C04B35/04 , C04B35/653 , C04B2235/3272 , C04B2235/3275 , C04B2235/3279 , C04B2235/3281 , C04B2235/443 , C04B2235/445 , C23C30/00 , H01J11/12
Abstract: 一种保护层，其由氧化镁形成并且包含至少一种附加组分，所述附加组分选自：选自铜和氧化铜的铜组分、选自镍和氧化镍的镍组分、选自钴和氧化钴的钴组分以及选自铁和氧化铁的铁组分；一种用于形成该保护层的复合材料；一种形成该保护层的方法；以及一种包含该保护层的等离子显示板。所述保护层，应用在PDP中，保护电极和介电层不受Ne和Xe，或者He、Ne和Xe构成的混合气体产生的等离子体离子，并且放电延迟时间和放电延迟时间对于温度的依赖性均可降低以及抗溅射性增强。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101459022B
公开(公告)日：2012-04-18
申请号：CN200810183768.1
申请日：2008-12-15
Applicant: 三星SDI株式会社
CPC classification number: H01J9/02 , H01J11/12 , H01J11/40 , Y10T428/258
Abstract: 本发明涉及等离子体显示面板(PDP)的保护层，制备该保护层的方法，和包括该保护层的PDP。保护层包含可以使具有镁空位杂质中心(VIC)的含镁氧化物颗粒附着其上的表面的含镁氧化物层。保护层可以阻挡等离子体离子且具有极好的电子发射效应，因此，包含该保护层的PDP可以在具有高放电效率的低电压下工作。
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公开(公告)号：CN101459022A
公开(公告)日：2009-06-17
申请号：CN200810183768.1
申请日：2008-12-15
Applicant: 三星SDI株式会社
CPC classification number: H01J9/02 , H01J11/12 , H01J11/40 , Y10T428/258
Abstract: 本发明涉及等离子体显示面板(PDP)的保护层，制备该保护层的方法，和包括该保护层的PDP。保护层包含可以使具有镁空位杂质中心(VIC)的含镁氧化物颗粒附着其上的表面的含镁氧化物层。保护层可以阻挡等离子体离子且具有极好的电子发射效应，因此，包含该保护层的PDP可以在具有高放电效率的低电压下工作。
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公开(公告)号：CN101383255A
公开(公告)日：2009-03-11
申请号：CN200810214874.1
申请日：2008-09-03
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明提供了一种保护层及其制造方法和包括这种保护层的等离子体显示板。保护层由氧化镁层和形成在氧化镁层上的电子发射促进材料组成。电子发射促进材料可在氧化镁层上被图案化，或者可被喷射和热处理到氧化镁层的表面上。保护层表现出卓越的电子发射特性而基本不受等离子体的损坏，从而改善了PDP的可靠性。
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公开(公告)号：CN1841621A
公开(公告)日：2006-10-04
申请号：CN200510048893.8
申请日：2005-12-13
Applicant: 三星SDI株式会社
CPC classification number: H01J11/40 , C23C14/081 , C23C26/00 , C23C28/322 , C23C28/345 , H01J9/02 , H01J11/12
Abstract: 一种等离子体显示面板(PDP)的保护层由金属和金属氧化物构成。该金属置于与保护层表面的距离是保护层厚度的10％或以下。而且，在形成PDP的保护层的方法中和在应用该保护层的PDP中，该金属置于与保护层表面的距离是保护层厚度的10％或以下。
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公开(公告)号：CN1737980A
公开(公告)日：2006-02-22
申请号：CN200510092172.7
申请日：2005-08-22
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 这里提供了一种用于等离子体显示面板的保护层和形成该保护层的方法。保护层形成在包含维持电极的等离子体显示面板的基板上。在保护层的纹理中形成具有方向性的颗粒列。因为可控制颗粒列的方向，所以空隙的一般取向是公知的，在空隙数最少的方向上施加用于放电的电场。结果，减小了保护层的蚀刻速率，由此增加了保护层的寿命。此外，因为放电离子很少可能撞击保护层，所以实现了二次电子的快速发射和减小的放电延迟时间。因此可缩短放电延迟时间和改善放电的击穿电压。
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