对向靶溅射装置和有机电致发光显示装置的制造方法

    公开(公告)号:CN1752273A

    公开(公告)日:2006-03-29

    申请号:CN200510106632.7

    申请日:2005-09-22

    Abstract: 本发明提供一种对向靶溅射装置和利用该装置的有机电致发光显示装置的制造方法,通过使用圆板型的对向靶来防止薄膜形成时所产生的具有高能量的粒子与基片碰撞而引起的膜损伤,并通过在所述圆板型对向靶的周围旋转多个基片形成薄膜而适于大量生产。本发明包含:室部,该室部包含形成壳体的室和可以沿着所述室内壁安装多个基片的基片安装部;至少一个溅射靶部,该溅射靶部包含相隔一定距离而对置并形成约束空间的一对对向溅射靶和分别设置在所述一对靶的后面并在所述约束空间中产生磁场的磁场产生单元。

    用于制造有机发光显示器的夹持器

    公开(公告)号:CN100456446C

    公开(公告)日:2009-01-28

    申请号:CN200610106277.8

    申请日:2006-07-17

    CPC classification number: C23C14/50 C23C14/042 H01L51/56

    Abstract: 一种用于制造有机发光显示器的夹持器,包括夹持器主体和设置在夹持器主体的相对的侧面上的多个支撑体,其中,各支撑体具有“┐”形的形状,并包括具有预定高度的侧壁和从侧壁弯曲的支撑板。支撑板被形成为具有多个台阶部分,以支撑基底、膜托盘和掩模,以在传送基底、模托盘和掩膜的同时夹持基底、模托盘和掩模,并防止图案扭曲,从而同时在单个室中传送并加工基底、膜托盘和掩模。

    用于制造有机发光显示器的夹持器

    公开(公告)号:CN1901155A

    公开(公告)日:2007-01-24

    申请号:CN200610106277.8

    申请日:2006-07-17

    CPC classification number: C23C14/50 C23C14/042 H01L51/56

    Abstract: 一种用于制造有机发光显示器的夹持器,包括夹持器主体和设置在夹持器主体的相对的侧面上的多个支撑体,其中,各支撑体具有“┓”形的形状,并包括具有预定高度的侧壁和从侧壁弯曲的支撑板。支撑板被形成为具有多个台阶部分,以支撑基底、膜托盘和掩模,以在传送基底、模托盘和掩膜的同时夹持基底、模托盘和掩模,并防止图案扭曲,从而同时在单个室中传送并加工基底、膜托盘和掩模。

    制造有机发光器件的方法

    公开(公告)号:CN1845359A

    公开(公告)日:2006-10-11

    申请号:CN200610072619.9

    申请日:2006-04-05

    CPC classification number: C23C16/45565 C23C16/45574 C23C16/5096 H01L51/5253

    Abstract: 本发明提供了一种利用等离子体沉积和/或热沉积制造有机发光器件的方法。通过第一根与第二根反应来形成绝缘层。第一根通过使第一气体穿过等离子体产生区域和加热体来形成,第二根通过使第二气体穿过加热体来形成。该方法通过基本分解源气体改善了所得绝缘层的特点并提高了源气体的使用效率。绝缘层可为形成在有机发光器件上的钝化层。该方法使用等离子体装置如感应耦合等离子体化学气相沉积(ICP-CVD)装置或等离子体增强化学气相沉积(PECVD)装置。

    感应耦合等离子体处理装置

    公开(公告)号:CN1901774A

    公开(公告)日:2007-01-24

    申请号:CN200610106329.1

    申请日:2006-07-19

    CPC classification number: H01J37/321

    Abstract: 本发明公开了一种感应耦合等离子体处理装置。该感应耦合等离子体处理装置包括:反应室;基底支架,用于在反应室中形成等离子体空间并用于支撑在其中的处理基底;屏蔽件,设置在基底支架的侧面;多个开口,形成在基底的下方;线天线,在反应室的下部,高频功率信号被施加到线天线。因此,该感应耦合等离子体处理装置可均匀地分布等离子体的密度,使得可实现大尺寸的平板显示器。

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