公开(公告)号：CN112731766A

公开(公告)日：2021-04-30

申请号：CN202011089400.6

申请日：2020-10-13

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 金昇炫 ,  郑铉日 ,  金尙美 ,  金铃根 ,  朴相喆

IPC: G03F7/09 ,  C08G8/04

Abstract: 本发明提供一种硬掩模组合物、硬掩模层以及形成图案的方法，所述硬掩模组合物包含聚合物和溶剂，所述聚合物包含由化学式1表示的结构单元。在化学式1中，A、B以及R1到R5的定义如本说明书中所描述。所述硬掩模组合物能够改进耐蚀刻性和膜密度。[化学式1]

公开(公告)号：CN116430672A

公开(公告)日：2023-07-14

申请号：CN202211466675.6

申请日：2022-11-22

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 辛乘旭 ,  朴裕信 ,  金昇炫 ,  朴相喆 ,  金尙美 ,  崔世一 ,  崔熙瑄

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/11 ,  G03F7/00 ,  G03F7/038 ,  C08G10/02

Abstract: 本发明提供一种硬掩模组合物、一种由硬掩模组合物制造的硬掩模层以及一种由硬掩模组合物形成图案的方法，所述硬掩模组合物包含聚合物和溶剂，所述聚合物包含由化学式1表示的结构单元，其中，化学式1的定义如本说明书中所描述。[化学式1]

公开(公告)号：CN119310795A

公开(公告)日：2025-01-14

申请号：CN202410883200.X

申请日：2024-07-03

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 南沇希 ,  朴裕信 ,  金昇炫 ,  郑瑟基 ,  朴相喆 ,  苏旻至 ,  郑主泳

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/11 ,  G03F1/00 ,  H01L21/311 ,  H01L21/3213 ,  H01L21/308

Abstract: 一种硬掩模组合物、由所述硬掩模组合物制造的硬掩模层以及使用由所述硬掩模组合物制造的硬掩模层来形成一个或多个图案的方法，所述硬掩模组合物包含：包括由化学式1表示的结构单元的聚合物；以及溶剂。[化学式1]#imgabs0#

公开(公告)号：CN112731766B

公开(公告)日：2024-12-17

申请号：CN202011089400.6

申请日：2020-10-13

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 金昇炫 ,  郑铉日 ,  金尙美 ,  金铃根 ,  朴相喆

IPC: G03F7/09 ,  C08G8/04

Abstract: 本发明提供一种硬掩模组合物、硬掩模层以及形成图案的方法，所述硬掩模组合物包含聚合物和溶剂，所述聚合物包含由化学式1表示的结构单元。在化学式1中，A、B以及R1到R5的定义如本说明书中所描述。所述硬掩模组合物能够改进耐蚀刻性和膜密度。[化学式1]#imgabs0#