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公开(公告)号：CN100373128C
公开(公告)日：2008-03-05
申请号：CN200510127689.5
申请日：2005-12-07
Applicant: 三星电机株式会社
CPC classification number: G01B11/0625
Abstract: 本发明涉及一种用于金属表面上形成的有机涂膜(例如有机可焊保护膜)的厚度测量方法。在此方法中，测量形成于第一金属表面上的至少一个参考有机涂膜的吸收光谱，以及由吸收光谱来计算预定波长范围内的吸收强度。通过破坏性测量来测量参考有机涂膜的厚度。然后，基于参考有机涂膜的吸收强度和测得的厚度来确定相关性。测量所要测量的有机涂膜的吸收光谱。由所要测量的有机涂膜的吸收光谱来计算预定波长范围内的吸收强度，以及基于该相关性，来由有机涂膜的吸收强度来计算其厚度。
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公开(公告)号：CN101241215A
公开(公告)日：2008-08-13
申请号：CN200710195383.2
申请日：2007-12-17
Applicant: 三星电机株式会社
CPC classification number: G02B3/0062 , G02B3/0075 , G02B7/02
Abstract: 本发明提供一种光学元件。根据本发明一个方面的光学元件包括：透镜支架，所述透镜支架包括第一电极、形成在第一电极上并具有用作光路的通孔的绝缘结构、以及形成在绝缘结构中以包围通孔的至少一个第二电极；以及至少一个微透镜，其位于所述通孔中并由透明树脂形成。
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公开(公告)号：CN1786657A
公开(公告)日：2006-06-14
申请号：CN200510127689.5
申请日：2005-12-07
Applicant: 三星电机株式会社
CPC classification number: G01B11/0625
Abstract: 本发明涉及一种用于金属表面上形成的有机涂膜(例如有机可焊保护膜)的厚度测量方法。在此方法中，测量形成于第一金属表面上的至少一个参考有机涂膜的吸收光谱，以及由吸收光谱来计算预定波长范围内的吸收强度。通过破坏性测量来测量参考有机涂膜的厚度。然后，基于参考有机涂膜的吸收强度和测得的厚度来确定相关性。测量所要测量的有机涂膜的吸收光谱。由所要测量的有机涂膜的吸收光谱来计算预定波长范围内的吸收强度，以及基于该相关性，来由有机涂膜的吸收强度来计算其厚度。
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公开(公告)号：CN101241215B
公开(公告)日：2011-02-02
申请号：CN200710195383.2
申请日：2007-12-17
Applicant: 三星电机株式会社
CPC classification number: G02B3/0062 , G02B3/0075 , G02B7/02
Abstract: 本发明提供一种光学元件。根据本发明一个方面的光学元件包括：透镜支架，所述透镜支架包括第一电极、形成在第一电极上并具有用作光路的通孔的绝缘结构、以及形成在绝缘结构中以包围通孔的至少一个第二电极；以及至少一个微透镜，其位于所述通孔中并由透明树脂形成。
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