公开(公告)号：CN1873534B

公开(公告)日：2011-09-28

申请号：CN200610083540.6

申请日：2006-06-05

Applicant: 三星电子株式会社 ,  东进半导体化学株式会社

Inventor： 李羲国 ,  李东基 ,  金载星 ,  金柄郁 ,  尹赫敏 ,  丘冀赫 ,  尹柱豹 ,  崔相角

IPC: G03F7/027 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027 ,  G03F7/20

Abstract: 一种用于有机层图样的光敏树脂组合物，包括：约100重量份的基于丙烯酰基的共聚物，以及约5重量份至约100重量份的1，2-醌重氮化合物。基于丙烯酰基的共聚物可通过使下列物质共聚来制备：以基于丙烯酰基的共聚物总重量为基准，重量百分比约5％至约60％的基于羧酸异冰片酯的化合物，重量百分比约10％至约30％的带有环氧基团的不饱和化合物，重量百分比约20％至约40％的基于烯烃的不饱和化合物，以及重量百分比约10％至约40％的选自不饱和羧酸、不饱和羧酸酐、及其混合物的其中之一。还提供了利用该光敏树脂组合物制造TFT基板和共电极基板的方法。有利地，有机层图样具有山形结构，该山形结构具有改善的局部平整度而没有凹入和凸起结构。

公开(公告)号：CN1873534A

公开(公告)日：2006-12-06

申请号：CN200610083540.6

申请日：2006-06-05

Applicant: 三星电子株式会社 ,  东进半导体化学株式会社

Inventor： 李羲国 ,  李东基 ,  金载星 ,  金柄郁 ,  尹赫敏 ,  丘冀赫 ,  尹柱豹 ,  崔相角

IPC: G03F7/027 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027 ,  G03F7/20

Abstract: 一种用于有机层图样的光敏树脂组合物，包括：约100重量份的基于丙烯酰基的共聚物，以及约5重量份至约100重量份的1，2－醌重氮化合物。基于丙烯酰基的共聚物可通过使下列物质共聚来制备：以基于丙烯酰基的共聚物总重量为基准，重量百分比约5％至约60％的基于羧酸异冰片酯的化合物，重量百分比约10％至约30％的带有环氧基团的不饱和化合物，重量百分比约20％至约40％的基于烯烃的不饱和化合物，以及重量百分比约10％至约40％的选自不饱和羧酸、不饱和羧酸酐、及其混合物的其中之一。还提供了利用该光敏树脂组合物制造TFT基板和共电极基板的方法。有利地，有机层图样具有山形结构，该山形结构具有改善的局部平整度而没有凹入和凸起结构。

公开(公告)号：CN101355056A

公开(公告)日：2009-01-28

申请号：CN200810134043.3

申请日：2008-07-22

Applicant: 三星电子株式会社 ,  株式会社东进世美肯

Inventor： 姜勋 ,  金载星 ,  郑壤镐 ,  李羲国 ,  金柄郁 ,  尹赫敏 ,  吕泰勋 ,  崔相角

IPC: H01L21/84 ,  H01L21/768 ,  G03F7/027 ,  G03F7/039 ,  G03F7/016 ,  G03F7/021

CPC classification number: H01L27/1288 ,  H01L27/1214

Abstract: 本发明涉及制造薄膜晶体管基板的方法和用在该基板中的感光组合物。公开了一种制造具有高的感光度、耐热性、抗冲击性的薄膜晶体管基板的方法以及为其所用的感光组合物，该方法包括在绝缘基板上形成数据线路，通过涂布感光组合物而在数据线路上形成有机绝缘膜，该感光组合物包含三元共聚物，其中该三元共聚物得自以下单体：不饱和羧酸、不饱和羧酸酐、或其混合物，不饱和的含有环氧基团的化合物、以及烯属化合物。