-
公开(公告)号:CN118870816A
公开(公告)日:2024-10-29
申请号:CN202410409231.1
申请日:2024-04-07
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H10B41/27 , H10B41/35 , H10B41/50 , H10B43/27 , H10B43/35 , H10B43/50 , H10B43/40 , H10B41/41 , H10B12/00
Abstract: 提供了半导体装置和数据存储系统。半导体装置包括:第一半导体结构,其包括衬底、电路元件和电路互连线;和第二半导体结构,其在第一半导体结构上。第二半导体结构包括:板层;多个栅电极,其在第一方向上彼此间隔开并堆叠在板层上,栅电极包括下选择栅电极、存储器栅电极和上选择栅电极;沟道结构,其穿过下选择栅电极和存储器栅电极并在第一方向上延伸;立柱结构,其穿过上选择栅电极并连接到沟道结构;上栅极电介质层,其围绕立柱结构并在水平方向上凹陷到上选择栅电极中,上栅极电介质层在立柱结构中的每一个的外侧上;和上隔离区域,其在立柱结构之间,穿过上选择栅电极并在第二方向上延伸。立柱结构中的每一个包括上沟道层和上填充绝缘层。