公开(公告)号：CN110400764A

公开(公告)日：2019-11-01

申请号：CN201910091001.4

申请日：2019-01-30

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 李钟现 ,  金永权 ,  金于哉 ,  柳承玟 ,  鱼智浩

IPC: H01L21/67 ,  B08B5/02

Abstract: 提供了气体注射器和晶圆处理设备，所述气体注射器包括：第一气体引入通道和第二气体引入通道，分别在第一方向上朝向处理室的中心轴延伸；第一旁路通道，在第二方向上从第一气体引入通道延伸，第二方向与第一方向基本垂直；第二旁路通道，在与第二方向相反的方向上从第二气体引入通道延伸；第一分流通道，在第一方向上与第一旁路通道分离，并且在与第二方向相反的方向上从第一旁路通道的出口延伸；第二分流通道，在第一方向上与第二旁路通道分离，并且在第二方向上从第二旁路通道的出口延伸；以及多个喷射孔，位于第一分流通道和第二分流通道的外表面中并且被造成喷射工艺气体。

公开(公告)号：CN119626971A

公开(公告)日：2025-03-14

申请号：CN202410334684.2

申请日：2024-03-22

Applicant: 株式会社保富高科技 ,  三星电子株式会社

Inventor： 朴胤辉 ,  王溍烈 ,  崔容硕 ,  鱼智浩 ,  柳承玟 ,  金度延 ,  郑允皓

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明涉及静电吸盘制造方法，更详细地，涉及将温度偏差最小化的静电吸盘的制造方法。本发明包括：步骤(S10)，在包括陶瓷原材料且上部具有ESC电极的底座的下部沉积金属形成金属层；以及步骤(S20)，利用光刻工序在上述金属层形成图案来形成加热器电极。本发明具有可均匀地加热晶片的效果，并且，具有在制造成成品之前中间产品阶段中可执行电阻测定的效果。

公开(公告)号：CN110400764B

公开(公告)日：2024-06-07

申请号：CN201910091001.4

申请日：2019-01-30

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 李钟现 ,  金永权 ,  金于哉 ,  柳承玟 ,  鱼智浩

IPC: H01L21/67 ,  B08B5/02

Abstract: 提供了气体注射器和晶圆处理设备，所述气体注射器包括：第一气体引入通道和第二气体引入通道，分别在第一方向上朝向处理室的中心轴延伸；第一旁路通道，在第二方向上从第一气体引入通道延伸，第二方向与第一方向基本垂直；第二旁路通道，在与第二方向相反的方向上从第二气体引入通道延伸；第一分流通道，在第一方向上与第一旁路通道分离，并且在与第二方向相反的方向上从第一旁路通道的出口延伸；第二分流通道，在第一方向上与第二旁路通道分离，并且在第二方向上从第二旁路通道的出口延伸；以及多个喷射孔，位于第一分流通道和第二分流通道的外表面中并且被造成喷射工艺气体。