气体注射器和具有其的晶圆处理设备

    公开(公告)号:CN110400764B

    公开(公告)日:2024-06-07

    申请号:CN201910091001.4

    申请日:2019-01-30

    Abstract: 提供了气体注射器和晶圆处理设备,所述气体注射器包括:第一气体引入通道和第二气体引入通道,分别在第一方向上朝向处理室的中心轴延伸;第一旁路通道,在第二方向上从第一气体引入通道延伸,第二方向与第一方向基本垂直;第二旁路通道,在与第二方向相反的方向上从第二气体引入通道延伸;第一分流通道,在第一方向上与第一旁路通道分离,并且在与第二方向相反的方向上从第一旁路通道的出口延伸;第二分流通道,在第一方向上与第二旁路通道分离,并且在第二方向上从第二旁路通道的出口延伸;以及多个喷射孔,位于第一分流通道和第二分流通道的外表面中并且被造成喷射工艺气体。

    气体注射器和具有其的晶圆处理设备

    公开(公告)号:CN110400764A

    公开(公告)日:2019-11-01

    申请号:CN201910091001.4

    申请日:2019-01-30

    Abstract: 提供了气体注射器和晶圆处理设备,所述气体注射器包括:第一气体引入通道和第二气体引入通道,分别在第一方向上朝向处理室的中心轴延伸;第一旁路通道,在第二方向上从第一气体引入通道延伸,第二方向与第一方向基本垂直;第二旁路通道,在与第二方向相反的方向上从第二气体引入通道延伸;第一分流通道,在第一方向上与第一旁路通道分离,并且在与第二方向相反的方向上从第一旁路通道的出口延伸;第二分流通道,在第一方向上与第二旁路通道分离,并且在第二方向上从第二旁路通道的出口延伸;以及多个喷射孔,位于第一分流通道和第二分流通道的外表面中并且被造成喷射工艺气体。

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