公开(公告)号：CN107121889B

公开(公告)日：2021-12-28

申请号：CN201710075831.9

申请日：2017-02-13

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金昶汎 ,  金成勋 ,  金祐呈 ,  粱香子

IPC: G03F7/20

Abstract: 光学邻近校正(OPC)检验方法包括：检查在堆叠存储器件的布局中的第一图案的第一位置；根据第一位置计算第一图案的偏移值；获得第一位置与通过对于第一图案的OPC而形成的第二图案的第二位置之间的差值；以及基于偏移值和差值确定是否将要再次执行OPC。

公开(公告)号：CN107121889A

公开(公告)日：2017-09-01

申请号：CN201710075831.9

申请日：2017-02-13

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金昶汎 ,  金成勋 ,  金祐呈 ,  粱香子

IPC: G03F1/36 ,  H01L27/02 ,  G06F17/50 ,  H01L27/115 ,  H01L27/112

CPC classification number: H01L27/11582 ,  G03F1/36 ,  G06F17/5081 ,  H01L21/027 ,  H01L27/11568 ,  H01L27/11573 ,  H01L27/11575 ,  G06F17/5072 ,  H01L27/0207 ,  H01L27/112 ,  H01L27/115

Abstract: 光学邻近校正(OPC)检验方法包括：检查在堆叠存储器件的布局中的第一图案的第一位置；根据第一位置计算第一图案的偏移值；获得第一位置与通过对于第一图案的OPC而形成的第二图案的第二位置之间的差值；以及基于偏移值和差值确定是否将要再次执行OPC。