公开(公告)号：CN101011691A

公开(公告)日：2007-08-08

申请号：CN200610164562.5

申请日：2006-12-07

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金润守

IPC: B05C5/02 ,  B05C11/10 ,  B05C1/02 ,  B05D7/24 ,  G02F1/1333

Abstract: 本发明提供一种可以形成均匀质量的涂层的用于制造显示装置的狭缝式涂敷机及利用该涂敷机的显示装置的制造方法。本发明所提供的用于制造显示装置的狭缝式涂敷机，包含：涂敷液供应部；狭缝式喷嘴，该狭缝式喷嘴包含从所述涂敷液供应部注入涂敷液的注入部和将所述涂敷液涂敷到作为处理对象的基片上的细长型狭缝部，并在所述注入部与所述狭缝部之间形成对每1mm的所述狭缝部长度具有0.13cc～0.5cc体积的内腔。

公开(公告)号：CN100496764C

公开(公告)日：2009-06-10

申请号：CN200610164562.5

申请日：2006-12-07

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金润守

IPC: B05C5/02 ,  B05C11/10 ,  B05C1/02 ,  B05D7/24 ,  G02F1/1333

Abstract: 本发明提供一种可以形成均匀质量的涂层的用于制造显示装置的狭缝式涂敷机及利用该涂敷机的显示装置的制造方法。本发明所提供的用于制造显示装置的狭缝式涂敷机，包含：涂敷液供应部；狭缝式喷嘴，该狭缝式喷嘴包含从所述涂敷液供应部注入涂敷液的注入部和将所述涂敷液涂敷到作为处理对象的基片上的细长型狭缝部，并在所述注入部与所述狭缝部之间形成对每1mm的所述狭缝部长度具有0.13cc～0.5cc体积的内腔。

公开(公告)号：CN111276481B

公开(公告)日：2025-02-14

申请号：CN201910822506.3

申请日：2019-09-02

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 林汉镇 ,  朴基钟 ,  金润守

IPC: H10B12/00

Abstract: 本发明提供一种半导体器件。半导体器件可以包括衬底上的有源图案。有源图案可以包括第一源/漏区和第二源/漏区。半导体器件还可以包括电连接到第一源/漏区的位线、电连接到第二源/漏区的第一连接电极以及第一连接电极上的电容器。电容器可以包括第一电极、第二电极以及在第一电极和第二电极之间的介电图案。介电图案的下部可以与第一连接电极的顶表面重叠，并且第一电极可以在第一连接电极的侧壁的上部上延伸。

公开(公告)号：CN111276481A

公开(公告)日：2020-06-12

申请号：CN201910822506.3

申请日：2019-09-02

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 林汉镇 ,  朴基钟 ,  金润守

IPC: H01L27/108 ,  H01L21/8242

Abstract: 本发明提供一种半导体器件。半导体器件可以包括衬底上的有源图案。有源图案可以包括第一源/漏区和第二源/漏区。半导体器件还可以包括电连接到第一源/漏区的位线、电连接到第二源/漏区的第一连接电极以及第一连接电极上的电容器。电容器可以包括第一电极、第二电极以及在第一电极和第二电极之间的介电图案。介电图案的下部可以与第一连接电极的顶表面重叠，并且第一电极可以在第一连接电极的侧壁的上部上延伸。