公开(公告)号：CN109946919B

公开(公告)日：2024-05-17

申请号：CN201811561123.7

申请日：2018-12-19

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金昊炼 ,  洪成哲 ,  金成洙

IPC: G03F1/24

Abstract: 提供了一种极紫外(EUV)掩模坯料。EUV掩模坯料包括：基板，具有彼此相对的第一表面和第二表面；反射层，具有交替堆叠在所述基板的第一表面上的第一反射层和第二反射层；覆盖层，在所述反射层上；以及吸氢层，在所述反射层和所述覆盖层之间，所述吸氢层配置为存储氢并与所述覆盖层接触。

公开(公告)号：CN109946919A

公开(公告)日：2019-06-28

申请号：CN201811561123.7

申请日：2018-12-19

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金昊炼 ,  洪成哲 ,  金成洙

IPC: G03F1/24

Abstract: 提供了一种极紫外(EUV)掩模坯料。EUV掩模坯料包括：基板，具有彼此相对的第一表面和第二表面；反射层，具有交替堆叠在所述基板的第一表面上的第一反射层和第二反射层；覆盖层，在所述反射层上；以及吸氢层，在所述反射层和所述覆盖层之间，所述吸氢层配置为存储氢并与所述覆盖层接触。